光伏領(lǐng)域?qū)Π胁牡氖褂弥饕�是薄膜電池和HJT光伏電池。以HJT電池片為例，在HJT電池片結(jié)構(gòu)中具有TCO薄膜層，該薄膜承擔(dān)著透光以及導(dǎo)電的重要作用。應(yīng)用PVD技術(shù)，使離子和靶材表面的原子離開靶材，在基底上形成透明導(dǎo)電薄膜。以鈣鈦礦電池結(jié)構(gòu)為例，鈣鈦礦電池是由多層薄膜以及玻璃等構(gòu)成。例如ITO薄膜就需要光伏靶材進(jìn)行制備。薄膜較為常用的濺射靶材包括鋁靶，云南鍍膜陶瓷靶材廠家、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶，云南鍍膜陶瓷靶材廠家、AZO靶（氧化鋁鋅）等，ITO靶材是當(dāng)前太陽能電池主要的濺射靶材。薄膜電池中透明導(dǎo)電膜至關(guān)重要，承擔(dān)著透光和導(dǎo)電的雙重作用。從ITO靶材的優(yōu)勢來看，氧化銦錫（ITO）是N型半導(dǎo)體材料，具有高導(dǎo)電率、高可見光透過率，云南鍍膜陶瓷靶材廠家、較強(qiáng)的機(jī)械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。因此，在光伏領(lǐng)域中，ITO靶材為原材料所制成的ITO薄膜具有較好的光學(xué)特性和電學(xué)特性。濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高。云南鍍膜陶瓷靶材廠家

從ITO靶材的發(fā)展趨勢來看：1）大尺寸化，在需要大面積鍍膜時(shí)，通常將小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材，由于具有焊縫，靶材鍍膜質(zhì)量將降低；2）高密度化，在濺射過程中ITO靶材表面會(huì)出現(xiàn)結(jié)瘤現(xiàn)象，如果繼續(xù)濺射，所制備的薄膜光學(xué)性能以及電學(xué)性能將降低。高密度的靶材具有較好的熱傳導(dǎo)性以及較小的界面電阻，因此結(jié)瘤現(xiàn)象出現(xiàn)的概率較小，所制備的ITO薄膜的質(zhì)量較高，且生產(chǎn)效率、成本較低；3）提高靶材利用率，由于平面靶材在濺射過程中，中間部分難以被侵蝕，因此靶材利用效率相對較低。通過改變靶材形狀，可以提高靶材的利用效率，從而降低備ITO薄膜的成本。福建鍍膜陶瓷靶材一般多少錢ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中，其主要應(yīng)用分為：顯示行業(yè)、薄膜太陽能電池、功能性玻璃，等三大領(lǐng)域。

靶材間隙對大面積鍍膜的影響除了致密化，如果靶材在生產(chǎn)過程中出現(xiàn)異常，大顆粒會(huì)因受熱而脫落或縮孔。結(jié)果會(huì)形成更多的氣孔（內(nèi)部缺陷），靶材中更大或更密的氣孔會(huì)因電荷集中而放電，影響使用。靶材密度低，加工、運(yùn)輸或安裝時(shí)氣孔易破裂。相對密度高、孔隙少的靶材具有良好的導(dǎo)熱性。濺射靶材表面的熱量很容易快速傳遞到靶材或襯板內(nèi)表面的冷卻水中，保證了成膜過程的穩(wěn)定性。濺射靶材的純度對薄膜的性能有很大的影響。當(dāng)潔凈的基材進(jìn)入高真空鍍膜室時(shí)，如果在電場和磁場的作用下靶材純度不夠。那樣的話，靶材中的雜質(zhì)粒子會(huì)在濺射過程中附著在玻璃表面，導(dǎo)致某些位置的膜層不牢固，出現(xiàn)剝離現(xiàn)象。因此，靶材的純度越高，薄膜的性能就越好。

從整體上看，ITO在光電綜合性能上高于AZO靶材，但AZO靶材的優(yōu)勢或?qū)�為靶材帶來降本空間。在相關(guān)實(shí)驗(yàn)中利用AZO靶材和ITO靶材制備了3組實(shí)驗(yàn)薄膜（共6份樣品）。實(shí)驗(yàn)中主要從光學(xué)性能和電學(xué)性能上對AZO薄膜和ITO薄膜進(jìn)行了對比。在特定情況下AZO靶材與ITO靶材電學(xué)性能差距縮小。根據(jù)比較終實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)來看，AZO薄膜和ITO薄膜的方塊電阻以及電阻率隨著薄膜的厚度增加而降低，并且隨著薄膜厚度的增加，AZO薄膜與ITO薄膜方塊電阻以及電阻率之間的差距逐步縮小。當(dāng)AZO薄膜厚度為640nm時(shí)，方塊電阻以及電阻率為32Ωsq-1和20.48*10-4Ωcm。AZO薄膜光學(xué)性能優(yōu)于ITO薄膜。ITO薄膜的光學(xué)性能隨著厚度的增加明顯變差，但是對于AZO薄膜，透射率并沒有隨著厚度的增加而明顯下降，在厚度為395nm時(shí)，高透射率光譜范圍比較寬，可見光區(qū)平均透射率比較高，光學(xué)總體性能比較好，可充當(dāng)透射率要求在85%以上的寬光譜透明導(dǎo)電薄膜的光學(xué)器件薄膜晶體管液晶顯示面板（TFT-LCD）是當(dāng)前的主流平面顯示技術(shù)。

ITO（氧化銦錫）靶材是濺射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一種，在顯示靶材中占比將近60%。ITO靶材就是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經(jīng)過一系列的生產(chǎn)工藝加工成型，再高溫氣氛燒結(jié)（1600度，通氧氣燒結(jié)）形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。中低端ITO靶材有玻璃鍍膜靶材、發(fā)熱膜和熱反射膜靶材，包括汽車的顯示屏、一些儀器儀表的顯示。優(yōu)異的ITO靶材主要用于顯示器薄膜靶材、集成電路薄膜靶材以及磁記錄和光記錄膜靶材，尤其用于大面積、大規(guī)格的LED、OLED等領(lǐng)域，具備高密度、高純度、高均勻性等特點(diǎn)。

ITO靶材中氧化銦：氧化錫的配比分為90:10，93:7，95:5, 97:3, 99:1。吉林濺射陶瓷靶材多少錢

靶材安裝注意事項(xiàng)靶材安裝過程中非常重要的是一定要確保在靶材和濺射腔體冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。云南鍍膜陶瓷靶材廠家

靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材快，一個(gè)合理的功率加大速率為1.5W小時(shí)/平方厘米。在進(jìn)行預(yù)濺射的同時(shí)需要檢查靶材起弧狀況，預(yù)濺射時(shí)間一般為10分鐘左右。如沒有起弧現(xiàn)象，繼續(xù)提升濺射功率到設(shè)定功率。根據(jù)經(jīng)驗(yàn)，一般應(yīng)確保冷卻水出水口的水溫應(yīng)低于35攝氏度，但非常重要的是確保冷卻水的循環(huán)系統(tǒng)能有效工作，通過冷卻水的快速循環(huán)帶走熱量，是確保能以較高功率連續(xù)濺射的一項(xiàng)重要保障。云南鍍膜陶瓷靶材廠家

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