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發(fā)布時(shí)間:2024-07-24
靶材主要由靶坯、背板等部分組成:其中,靶坯是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源,即高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于濺射靶材的重要部分部分,在濺射鍍膜過(guò)程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上,制成電子薄膜;由于高純度金屬?gòu)?qiáng)度較低,而濺射靶材需要安裝在特定的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程,上海陶瓷靶材咨詢報(bào)價(jià),機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境。因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過(guò)不同的焊接工藝進(jìn)行接合,背板主要起到固定濺射靶材的作用,上海陶瓷靶材咨詢報(bào)價(jià),上海陶瓷靶材咨詢報(bào)價(jià),需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中。上海陶瓷靶材咨詢報(bào)價(jià)
磁控濺射的工作原理簡(jiǎn)單說(shuō)就是利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,氬離子轟擊靶材表面,同時(shí)也把動(dòng)能傳導(dǎo)進(jìn)去,隨后靶材表面的原子就被轟擊出來(lái),從不同角度飛向基片,在其表面凝集沉積形成一層薄膜!斑@層薄膜非常薄,往往都在納米量級(jí),是人類肉眼看不見(jiàn)的,而一支10毫米厚的靶材所鍍的薄膜面積可達(dá)幾萬(wàn)甚至十幾萬(wàn)平方米,鍍膜后產(chǎn)生的價(jià)值遠(yuǎn)超過(guò)靶材本身的價(jià)值,靶材起的作用非常關(guān)鍵,所以我常將靶材稱為小而美、小而精的材料!薄皠e小看這些薄膜材料,它們是很多功能器件得以大顯神威的主要材料!敝貞c濺射陶瓷靶材ITO靶材是當(dāng)前太陽(yáng)能電池主要的濺射靶材。
AZO透明導(dǎo)電薄膜具有高可見(jiàn)光透過(guò)率和低電阻率的特點(diǎn),因此可以作為平面顯示器和太陽(yáng)能平面電極材料,也可用在節(jié)能方面,如建筑玻璃表面和汽車玻璃表面近年來(lái),隨著液晶顯示、觸控面板、有機(jī)發(fā)光顯示、太陽(yáng)能電池等的發(fā)展,使得透明導(dǎo)電薄膜成為關(guān)鍵性材料之一。目前,常用的錫摻雜氧化鋼(ITO)透明導(dǎo)電薄膜材料中的金屬銦屬于稀缺資源,開(kāi)發(fā)具有透光、導(dǎo)電特性的“非銦”材料已成為研究的熱點(diǎn)之一。由于氧化鋅基(ZnO)透明導(dǎo)電薄膜價(jià)格較為低廉,且不具毒性,在發(fā)展上具有相當(dāng)?shù)膬?yōu)異性。因此,對(duì)于氧化鋅薄膜材料及其制備技術(shù)的研發(fā),引起了大家的重視。AZO薄膜是一種透明導(dǎo)電膜,具有與ITO薄膜相比擬的光學(xué)和電學(xué)特性,并具有制備工藝簡(jiǎn)單、價(jià)格低、*和穩(wěn)定性好等特點(diǎn),被認(rèn)為是ITO薄膜的比較好替代材料。
氧化鈮靶材根據(jù)其鍍膜工藝的不同分為平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達(dá)到99.95%,但對(duì)氧化鈮的物理性能指標(biāo)要求不同。平面靶材的生產(chǎn)使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細(xì)且均勻,成形性能好;旋轉(zhuǎn)靶材采用熱噴涂法生產(chǎn),要求氧化鈮具有良好的流動(dòng)性及嚴(yán)格的粒度范圍。旋轉(zhuǎn)靶材是近些年新發(fā)展的一種靶材,與傳統(tǒng)的平面靶材相比,旋轉(zhuǎn)靶材相對(duì)于平面靶材具有很多的優(yōu)點(diǎn): 1、利用率高(70%以上),甚至可以達(dá)到90%; 2、濺射速度快,為平面靶的2-3倍; 3、有效地減少打弧和表面掉渣,工藝穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),因此近年來(lái)逐步替代了平面靶材。 針對(duì)國(guó)內(nèi)尚未能生產(chǎn)靶材級(jí)高純氧化鈮的現(xiàn)狀,在現(xiàn)有氧化鈮濕法冶金生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)上,以高純鈮液為原料,通過(guò)噴霧干燥造粒的方法實(shí)現(xiàn)對(duì)氧化鈮產(chǎn)品粒度和粒形的控制,制取滿足氧化鈮靶材尤其是氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材生產(chǎn)要求的球形高純氧化鈮產(chǎn)品。產(chǎn)品純度為99.95%、粒形為球形、粒度大小范圍為50-150μm的高純氧化鈮產(chǎn)品。與國(guó)外同行生產(chǎn)廠家以高純氧化鈮產(chǎn)品為原料,需經(jīng)過(guò)球磨、制漿、造粒、焙燒的工藝流程相比,具有工藝流程簡(jiǎn)單,生產(chǎn)成本低,粒度可控,產(chǎn)品成品率高的特點(diǎn)。產(chǎn)品完全能夠滿足生產(chǎn)氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材的要求。靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。
靶材間隙對(duì)大面積鍍膜的影響除了致密化,如果靶材在生產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)異常,大顆粒會(huì)因受熱而脫落或縮孔。結(jié)果會(huì)形成更多的氣孔(內(nèi)部缺陷),靶材中更大或更密的氣孔會(huì)因電荷集中而放電,影響使用。靶材密度低,加工、運(yùn)輸或安裝時(shí)氣孔易破裂。相對(duì)密度高、孔隙少的靶材具有良好的導(dǎo)熱性。濺射靶材表面的熱量很容易快速傳遞到靶材或襯板內(nèi)表面的冷卻水中,保證了成膜過(guò)程的穩(wěn)定性。濺射靶材的純度對(duì)薄膜的性能有很大的影響。當(dāng)潔凈的基材進(jìn)入高真空鍍膜室時(shí),如果在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用下靶材純度不夠。那樣的話,靶材中的雜質(zhì)粒子會(huì)在濺射過(guò)程中附著在玻璃表面,導(dǎo)致某些位置的膜層不牢固,出現(xiàn)剝離現(xiàn)象。因此,靶材的純度越高,薄膜的性能就越好。靶材是半導(dǎo)體、顯示面板、異質(zhì)結(jié)光伏領(lǐng)域等的關(guān)鍵材料,存在工藝不可替代性。上海陶瓷靶材多少錢
ITO靶材是將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后經(jīng)過(guò)生產(chǎn)加工成型,再高溫氣氛燒結(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。上海陶瓷靶材咨詢報(bào)價(jià)
ITO(氧化銦錫)靶材是濺射靶材中陶瓷靶材(化合物靶材)的一種,在顯示靶材中占比將近60%。ITO靶材就是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經(jīng)過(guò)一系列的生產(chǎn)工藝加工成型,再高溫氣氛燒結(jié)(1600度,通氧氣燒結(jié))形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。中低端ITO靶材有玻璃鍍膜靶材、發(fā)熱膜和熱反射膜靶材,包括汽車的顯示屏、一些儀器儀表的顯示。優(yōu)異的ITO靶材主要用于顯示器薄膜靶材、集成電路薄膜靶材以及磁記錄和光記錄膜靶材,尤其用于大面積、大規(guī)格的LED、OLED等領(lǐng)域,具備高密度、高純度、高均勻性等特點(diǎn)。
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