發(fā)貨地點(diǎn):江蘇省南京市
發(fā)布時間:2024-09-04
鈣鈦礦太陽電池在短短數(shù)十年間不斷刷新轉(zhuǎn)換效率。基于正置的鈣鈦礦太陽電池面臨著眾多問題,如遲滯較大,光熱穩(wěn)定性差等,相較之下倒置結(jié)構(gòu)可以較好的解決上述問題。倒置結(jié)構(gòu)中空穴傳輸層主要有氧化鎳(NiOx)、聚(3,4-乙烯二氧噻吩):聚(苯乙烯磺酸)(PEDOT:PSS)、聚[雙(4-苯基)(2,4,6-三甲基苯基)胺](PTAA)等幾種,但是PEDOT:PSS,PTAA等空穴傳輸層并不穩(wěn)定且成本較高,考慮到未來大面積生產(chǎn)所需,目前只有NiOx較為適合,F(xiàn)有的NiOx制備工藝以納米晶溶液旋涂、化學(xué)浴沉積、原子層沉積、化學(xué)氣相沉積等為主。目前合適的大面積制備技術(shù)以化學(xué)氣相沉積為主,其中磁控濺射制備可重復(fù)性高且較為均勻,中國香港光伏行業(yè)陶瓷靶材推薦廠家。現(xiàn)有的技術(shù)手段中,常在氧化鎳基板中添加單獨(dú)的堿金屬元素或者過渡金屬,用以提升氧化鎳空穴傳輸層的空穴傳輸能力。ITO靶材的制備方法主要有4種,分別為熱壓法、熱等靜壓法,中國香港光伏行業(yè)陶瓷靶材推薦廠家、常溫?zé)Y(jié)法,中國香港光伏行業(yè)陶瓷靶材推薦廠家、冷等靜壓法。冷等靜壓優(yōu)勢突出。中國香港光伏行業(yè)陶瓷靶材推薦廠家
陶瓷靶材是一種重要的濺射靶材,廣泛應(yīng)用于各個領(lǐng)域的薄膜制備和表面處理。作為一種高純度、高密度的材料,陶瓷靶材具有許多獨(dú)特的特點(diǎn)和優(yōu)勢。首先,陶瓷靶材具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性,能夠在高溫和復(fù)雜的化學(xué)環(huán)境下保持穩(wěn)定的性能。這使得陶瓷靶材在各種薄膜制備過程中能夠提供穩(wěn)定的材料源,確保薄膜的質(zhì)量和性能。其次,陶瓷靶材具有良好的機(jī)械性能和熱導(dǎo)性能。這使得陶瓷靶材在濺射過程中能夠承受高能量的離子轟擊和高溫的熱沖擊,不易發(fā)生破裂和變形。同時,陶瓷靶材的高熱導(dǎo)性能能夠有效地散熱,保持靶材表面的穩(wěn)定溫度,提高濺射過程的效率和穩(wěn)定性。此外,陶瓷靶材具有優(yōu)異的光學(xué)性能和電學(xué)性能。不同種類的陶瓷靶材具有不同的光學(xué)和電學(xué)特性,可以根據(jù)具體需求選擇合適的靶材。例如,氧化物靶材可以用于制備透明導(dǎo)電膜、光學(xué)薄膜和光學(xué)器件,而金屬靶材可以用于制備導(dǎo)電膜和磁性薄膜。陶瓷靶材具有豐富的種類和規(guī)格,能夠滿足不同行業(yè)和應(yīng)用的需求。無論是光學(xué)薄膜、電子器件還是太陽能電池,陶瓷靶材都能提供高質(zhì)量的材料源,幫助客戶實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的優(yōu)化和創(chuàng)新。我們公司致力于提供高質(zhì)量的陶瓷靶材產(chǎn)品,滿足客戶的需求,推動行業(yè)的發(fā)展和進(jìn)步。中國澳門陶瓷靶材市場價陶瓷靶材的制備工藝;
平板顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜,主要用于制作ITO玻璃及觸控屏電極,用量比較大的是氧化銦錫(ITO)靶材,其次還有鉬、鋁、硅等金屬靶材。1)平板顯示面板的生產(chǎn)工藝中,玻璃基板要經(jīng)過多次濺射鍍膜形成ITO 玻璃,然后再經(jīng)過鍍膜,加工組裝用于生產(chǎn)LCD 面板、PDP 面板及OLED 面板等;2)觸控屏的生產(chǎn)則還需將ITO 玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極,再與防護(hù)屏等部件組裝加工而成。采用硅靶材濺鍍形成的二氧化硅膜則主要起增加玻璃與ITO 膜的附著力和平整性、表面鈍化和保護(hù)等作用,MoAlMo(鉬鋁鉬)靶材鍍膜后蝕刻主要起金屬引線搭橋的作用。此外,為了實(shí)現(xiàn)平板顯示產(chǎn)品的抗反射、消影等功能,還可以在鍍膜環(huán)節(jié)中增加相應(yīng)膜層的鍍膜。
靶材主要用于生成太陽能薄膜電池的背電極,晶體硅太陽能電池較少用到濺射靶材。太陽能電池主要包括晶體硅太陽能電池和薄膜太陽能電池,晶體硅太陽能電池轉(zhuǎn)化效率較高、性能穩(wěn)定,且各個產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)比較成熟,占據(jù)了太陽能電池市場的主導(dǎo)地位。而晶體硅太陽能電池按照生產(chǎn)工藝不同可分為硅片涂覆型太陽能電池以及PVD工藝高轉(zhuǎn)化率硅片太陽能電池,其中硅片涂覆型太陽能電池的生產(chǎn)不使用濺射靶材,目前靶材主要用于太陽能薄膜電池領(lǐng)域。靶材濺射鍍膜形成的太陽能薄膜電池的背電級主要有三個用途:一,它是各單體電池的負(fù)極;二,它是各自電池串聯(lián)的導(dǎo)電通道;三,它可以增加太陽能電池對光的反射。太陽能薄膜電池用濺射靶材主要為方形板狀,對純度要求沒有半導(dǎo)體芯片用靶材要求高,一般在99.99%以上。目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。其中鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜,鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明導(dǎo)電層薄膜。從整體上看,ITO在光電綜合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的優(yōu)勢或?qū)榘胁膸斫当究臻g。
透明導(dǎo)電薄膜的種類很多,主要有 ITO,TCO,AZO 等,其中 ITO的性能比較好,ITO具有高透光率,低電阻率。目前 ITO 的制備方法主要是磁控濺射,要獲得高質(zhì)量的 ITO薄膜,制備高密度、高純度和高均勻性的 ITO 靶材是關(guān)鍵。高質(zhì)量的成品 ITO 濺射靶應(yīng)具有99%的相對密度。這樣的靶材才具有較低電阻率、較高導(dǎo)熱率及較高的機(jī)械強(qiáng)度。高密度靶可以在溫度較低條件下在玻璃基片上濺射,獲得較低電阻率和較高透光率的導(dǎo)電薄膜。甚至可以在有機(jī)材料上濺射 ITO 導(dǎo)電膜。目前ITO靶材的制備方法主要有熱壓法、冷等靜壓-燒結(jié)法、熱等靜壓法。其中采用冷等靜壓-燒結(jié)法,其相對密度能達(dá)到 99%以上,燒結(jié)溫度高,保溫時間長,制備工藝復(fù)雜。放電等離子燒結(jié)(SPS)是在脈沖電流作用下,粉末顆粒間放電,產(chǎn)生瞬間高溫進(jìn)行燒結(jié)。SPS技術(shù)具有快速、低溫、高效率等優(yōu)點(diǎn)。能在很低的燒結(jié)溫度下,保溫很短的時間制備高密度的材料。
陶瓷靶材和金屬靶材各自優(yōu)缺點(diǎn)。廣東鍍膜陶瓷靶材廠家
HJT電池靶材有望快速實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代國產(chǎn)靶材廠商有望在HJT電池時代實(shí)現(xiàn)靶材上的彎道超車。中國香港光伏行業(yè)陶瓷靶材推薦廠家
靶材開裂影響因素裂紋形成通常發(fā)生在陶瓷濺射靶材(如氧化物、碳化物、氮化物等)和脆性材料濺射靶材(如鉻、銻、鉍等)中。陶瓷或脆性材料目標(biāo)始終包含固有應(yīng)力。這些內(nèi)應(yīng)力是在靶材制造過程中產(chǎn)生的。此外,這些應(yīng)力不能通過退火過程完全消除,因?yàn)樗沁@些材料的固有特性。在濺射過程中,轟擊的氣體離子將其動量傳遞給目標(biāo)原子,為它們提供足夠的能量來脫離晶格。這種放熱動量傳遞增加了目標(biāo)的溫度,在原子水平上可能達(dá)到1,000,000攝氏度。這些熱沖擊將目標(biāo)中已經(jīng)存在的內(nèi)部應(yīng)力增加到許多倍。在這種情況下,如果不注意適當(dāng)?shù)纳,靶材可能會開裂。靶材開裂預(yù)防措施為了防止靶材開裂,重要的考慮因素是散熱。一方面運(yùn)用水冷機(jī)制來去除靶材中不需要的熱能,另一方面考慮提高功率,在很短的時間內(nèi)提升功率也會給目標(biāo)帶來熱沖擊。此外,建議將這些靶材綁定到背板上,這不僅為靶材提供支撐,而且還促進(jìn)靶材與水之間更好的熱交換。如果靶材破裂有背板加持的情況下,它仍然可以毫無問題地使用。中國香港光伏行業(yè)陶瓷靶材推薦廠家