官方授權經(jīng)銷光刻機有哪些品牌

EVG光刻機不斷關注未來的市場趨勢-例如光學3D傳感和光子學-并為這些應用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案，以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術和市場地位證明了這一點，包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的無人能比的經(jīng)驗，這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎。只有接近客戶，才能得知客戶蕞真實的需求，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用，包括高級封裝，化合物半導體，功率器件，LED，傳感器和MEMS。官方授權經(jīng)銷光刻機有哪些品牌

IQAligner®■晶圓規(guī)格高達200mm/300mm■某一時間內(nèi)（弟一次印刷/對準）>90wph/80wph■頂/底部對準精度達到±0.5μm/±1.0μm■接近過程100/%無觸點■可選Ergoload磁盤，SMIF或者FOUP■經(jīng)準的跳動補償，實現(xiàn)ZUI佳的重疊對準■手動裝載晶圓的功能■IR對準能力–透射或者反射IQAligner®NT■零輔助橋接工具-雙基片，支持200mm和300mm規(guī)格■無以倫比的吞吐量（弟一次印刷/對準）>200wph/160wph■頂/底部對準精度達到±250nm/±500nm■接近過程100/%無觸點■暗場對準能力/全場青除掩模（FCMM）■經(jīng)準的跳動補償，實現(xiàn)ZUI佳的重疊對準■智能過程控制和性能分析框架軟件平臺重慶光刻機微流控應用在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng)，并得到了他們的無數(shù)好評。

EVGroup企業(yè)技術總監(jiān)ThomasGlinsner博士證實：“我們看到支持晶圓級光學器件的設備需求正在急劇增加?！薄癑IN從今年年初開始，我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng)，以進行大批量生產(chǎn)。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領域市場LINGDAOZHE的地位，同時創(chuàng)造了新興應用程序中有大量新機會。”業(yè)界LINGXIAN的設備制造商ZUI近宣布了擴大其傳感領域業(yè)務目標的計劃，以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法，下一代智能手機中正在設計十多種傳感器。其中包括3D感測相機，指紋傳感器，虹膜掃描儀，激光二極管發(fā)射器，激光測距儀和生物傳感器?？傮w而言，光纖集線器預計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元，復合年增長率超過11％*。

EVG的掩模對準系統(tǒng)含有：EVG610；EVG620NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng)；EVG6200NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng)；IQAligner自動掩模對準系統(tǒng)；IQAlignerNT自動掩模對準系統(tǒng)；【EVG®610掩模對準系統(tǒng)】EVG®610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng)，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。EVG®610技術數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標準光刻工藝，例如真空，硬，軟和接近曝光模式，并可選擇背面對準功能。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，可滿足用戶需求的變化，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其非常適合大學和研發(fā)應用。所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證的軟件，它可以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復性。

我們的研發(fā)實力：EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年，讓我們深入了解他們的獨特需求。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術和*大的靈活性，使大學、研究機構和技術開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目。此外，研發(fā)設備與EVG的合心技術平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。研發(fā)和權面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠將其流程遷移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導向，研發(fā)才具有價值，也是我們不斷前進的動力。EVG光刻機設備，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并輔以其用于從上到下側對準驗證的計量工具。寧夏光刻機

HERCULES以蕞小的占地面積結合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢。官方授權經(jīng)銷光刻機有哪些品牌

EVG120特征2：先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量；工藝技術桌越和開發(fā)服務：多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機器控制的集成分析功能設備和過程性能根蹤功能；并行/排隊任務處理功能；智能處理功能；發(fā)生和警報分析；智能維護管理和根蹤；技術數(shù)據(jù)：可用模塊；旋涂/OmniSpray®/開發(fā)；烤/冷；晶圓處理選項：單/雙EE/邊緣處理/晶圓翻轉；彎曲/翹曲/薄晶圓處理。官方授權經(jīng)銷光刻機有哪些品牌

岱美儀器技術服務（上海）有限公司是國內(nèi)一家多年來專注從事半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀的老牌企業(yè)。公司位于金高路2216弄35號6幢306-308室，成立于2002-02-07。公司的產(chǎn)品營銷網(wǎng)絡遍布國內(nèi)各大市場。公司主要經(jīng)營半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀，公司與半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀行業(yè)內(nèi)多家研究中心、機構保持合作關系，共同交流、探討技術更新。通過科學管理、產(chǎn)品研發(fā)來提高公司競爭力。公司與行業(yè)上下游之間建立了長久親密的合作關系，確保半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀在技術上與行業(yè)內(nèi)保持同步。產(chǎn)品質(zhì)量按照行業(yè)標準進行研發(fā)生產(chǎn)，絕不因價格而放棄質(zhì)量和聲譽。岱美儀器技術服務（上海）有限公司依托多年來完善的服務經(jīng)驗、良好的服務隊伍、完善的服務網(wǎng)絡和強大的合作伙伴，目前已經(jīng)得到儀器儀表行業(yè)內(nèi)客戶認可和支持，并贏得長期合作伙伴的信賴。