NanoX-2000/3000
系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光
垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗
糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加
工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。
使用范圍廣: 兼容多種測(cè)量和觀察需求
保護(hù)性: 非接觸式光學(xué)輪廓儀
耐用性更強(qiáng), 使用無(wú)損
可操作性:一鍵式操作,操作更簡(jiǎn)單,更方便
NanoX-8000的XY光柵分辨率 0.1um,定位精度 5um,重復(fù)精度 1um。高靈敏度的實(shí)驗(yàn)設(shè)備輪廓儀代理價(jià)格輪廓儀、粗糙度儀、三坐標(biāo)的區(qū)別
關(guān)于輪廓儀和粗糙度儀
輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產(chǎn)品,輪廓儀主要功能是測(cè)量零件表面的輪廓形狀,比如:汽車零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圓柱表面素線的直線度等參數(shù)??傊喞獌x反映的是零件的宏觀輪廓。粗糙度儀的功能是測(cè)量零件表面的磨加工/精車加工工序的表面加工質(zhì)量,通俗地講,就是零件表面加工得光不光(粗糙度老國(guó)標(biāo)叫光潔度),即粗糙度反映的是零件加工表面的微觀情況。
關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度
三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的,至于測(cè)量零件的表面輪廓 ,要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標(biāo)來(lái)代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um以內(nèi),還有就是三坐標(biāo)可以測(cè)量大尺寸零件的輪廓,因?yàn)樗旋堥T式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo),而輪廓儀主要是用來(lái)測(cè)量一些小的精密零件輪廓尺寸的,加上粗糙度模塊也可以測(cè)量粗糙度。 輪廓測(cè)量?jī)x輪廓儀應(yīng)用NanoX-2000/3000 系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光。
NanoX-8000 系統(tǒng)主要性能
? 菜單式系統(tǒng)設(shè)置,一鍵式操作,自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
? 一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)
? 支持連接MES系統(tǒng),數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC
? 具備異常報(bào)警,急停等功能,報(bào)警信息可儲(chǔ)存
? MTBF ≥ 1500 hrs
? 產(chǎn)能 : 45s/點(diǎn) (移動(dòng) + 聚焦 + 測(cè)量)(掃描范圍 50um)
? 具備 Global alignment & Unit alignment
? 自動(dòng)聚焦范圍 : ± 0.3mm
? XY運(yùn)動(dòng)速度
**快
如果需要了解更多詳細(xì)參數(shù),請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。
我們主要經(jīng)營(yíng)鍵合機(jī)、光刻機(jī)、輪廓儀,隔振臺(tái)等設(shè)備。
輪廓儀、粗糙度儀、三坐標(biāo)的區(qū)別:
關(guān)于輪廓儀和粗糙度儀
輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產(chǎn)品,輪廓儀主要功能是測(cè)量零件表面的輪廓形狀,比如:汽車零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圓柱表面素線的直線度等參數(shù)??傊?,輪廓儀反映的是零件的宏觀輪廓。粗糙度儀的功能是測(cè)量零件表面的磨加工/精車加工工序的表面加工質(zhì)量,通俗地講,就是零件表面加工得光不光(粗糙度老國(guó)標(biāo)叫光潔度),即粗糙度反映的是零件加工表面的微觀情況。
但是,輪廓儀和粗糙度儀關(guān)系其實(shí)挺密切,現(xiàn)在有一種儀器叫做粗糙度輪廓測(cè)量一體機(jī),就是在輪廓儀上加裝了粗糙度測(cè)量模塊,這樣既可以測(cè)量輪廓尺寸,又可以測(cè)量粗糙度,市場(chǎng)上典型產(chǎn)品就是中圖儀器的SJ5701粗糙度輪廓儀。
在結(jié)構(gòu)上,輪廓儀基本上都是臺(tái)式的,而粗糙度儀以手持式的居多,當(dāng)然也有臺(tái)式的。 共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多***盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本,復(fù)雜度,和測(cè)量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度,使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測(cè)量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光,它忽略偏振效應(yīng)(絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱)。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備,光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過(guò)10um的優(yōu)先,而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術(shù)都可用。而且具有快速,簡(jiǎn)便,成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測(cè)量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測(cè)量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì),不受外部環(huán)境影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。Bruker輪廓儀質(zhì)保期多久
測(cè)量模式:移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)。高靈敏度的實(shí)驗(yàn)設(shè)備輪廓儀代理價(jià)格
1)白光輪廓儀的典型應(yīng)用:
對(duì)各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺 陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺(tái)階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。
2)共聚焦顯微鏡方法
共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多***盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過(guò)多***盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過(guò)MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但是在共焦圖像中,通過(guò)多***盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來(lái)自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高 分辨率。 每個(gè)共焦圖像是通過(guò)樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過(guò)壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來(lái)實(shí)現(xiàn)。200到400個(gè)共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。
高靈敏度的實(shí)驗(yàn)設(shè)備輪廓儀代理價(jià)格