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由于AlN基板不具有電導(dǎo)性,因此在用作大功率LED散熱基板之前必須對(duì)其表面進(jìn)行金屬化和圖形化。但AlN與金屬是兩類(lèi)物理化學(xué)性質(zhì)完全不同的材料,兩者差異表現(xiàn)很為突出的就是形成化合物的成鍵方式不同。AlN是強(qiáng)共價(jià)鍵化合物,而金屬一般都表現(xiàn)為金屬鍵化合物,因此與其它化學(xué)鍵的化合物相比,在高溫下AlN與金屬的浸潤(rùn)性較差,實(shí)現(xiàn)金屬化難度較高。因此,如何實(shí)現(xiàn)AlN基板表面金屬化和圖形化成為大功率LED散熱基板發(fā)展的一個(gè)至關(guān)重要問(wèn)題。目前使用很較廣的AlN基板金屬化的方法主要有:機(jī)械連接法、厚膜法、活性金屬釬焊法、共燒法、薄膜法、直接覆銅法。影響氮化鋁陶瓷熱導(dǎo)率的主要因素有晶格的氧含量、致密度、顯微結(jié)構(gòu)、粉體純度等。導(dǎo)熱氮化鋁價(jià)格
氮化鋁材料有陶瓷型和薄膜型兩種。氮化鋁熱導(dǎo)率高、絕緣性能好電阻率高達(dá)4x lUfs7,"cm.,熱膨脹系數(shù)小(2.55一3.8U; x i0一“K一‘,化學(xué)性能穩(wěn)定,在innU℃時(shí)才與空氣發(fā)生氧化。在真空中可穩(wěn)定到ISUU}}。致密型氮化鋁是抗水的,幾乎不與濃無(wú)機(jī)酸發(fā)生反應(yīng)。密度為3.26gIcm3,熔點(diǎn)24UU C'彈性模量為3U( -- 31 f7C}Pa,抗彎強(qiáng)度為2sa一350MPa ,莫氏硬度為g.A1N陶瓷用粉末冶金法制得』氮化鋁薄膜用反應(yīng)濺射法制得。AlU陶瓷片川于大功率半導(dǎo)體集成電路和大功率的厚模電路,AIN薄膜用于薄膜器件的介質(zhì)和耐磨、耐熱、散熱好的鍍層。溫州單晶氮化鋁粉體供應(yīng)商氧化鈹雖然有優(yōu)良的性能,但其粉末有劇毒。
薄膜法是通過(guò)真空鍍膜技術(shù)在AlN基板表面實(shí)現(xiàn)金屬化。通常采用的真空鍍膜技術(shù)有離子鍍、真空蒸鍍、濺射鍍膜等。但金屬和陶瓷是兩種物理化學(xué)性質(zhì)完全不同的材料,直接在陶瓷基板表面進(jìn)行金屬化得到的金屬化層的附著力不高,并且陶瓷基板與金屬的熱膨脹系數(shù)不匹配,在工作時(shí)會(huì)受到較大的熱應(yīng)力。為了提高金屬化層的附著力和減小陶瓷與金屬的熱應(yīng)力,陶瓷基板一般采用多層金屬結(jié)構(gòu)。直接覆銅法(DBC)是一種基于陶瓷基板發(fā)展起來(lái)的陶瓷表面金屬化方法,基本原理是:在弱氧化環(huán)境中,與陶瓷表面連接的金屬銅表面會(huì)被氧化形成一層Cu[O]共晶液相,該液相對(duì)互相接觸的金屬銅和陶瓷基板表面都具有良好潤(rùn)濕效果,并在界面處形成CuAlO2等化合物使金屬銅能夠牢固的敖接在陶瓷表面,實(shí)現(xiàn)陶瓷表面的金屬化。而AlN基板具有較強(qiáng)的共價(jià)鍵,金屬銅直接覆著在其表面的附著力不高,因此必須進(jìn)行預(yù)處理來(lái)改善其與Cu的附著力。一般先對(duì)其表面進(jìn)行氧化,生成一層薄Al2O3,通過(guò)該氧化層來(lái)實(shí)現(xiàn)與金屬銅的連接。
氮化鋁陶瓷是一種綜合性能優(yōu)良的新型陶瓷材料,具有優(yōu)良的熱傳導(dǎo)性,可靠的電絕緣性,低的介電常數(shù)和介電損耗,無(wú)毒以及與硅相匹配的熱膨脹系數(shù)等一系列優(yōu)良特性,被認(rèn)為是新一代高集成度半導(dǎo)體基片和電子器件的理想封裝材料。另外,氮化鋁陶瓷可用作熔煉有色金屬和半導(dǎo)體材料砷化鎵的坩堝、蒸發(fā)舟、熱電偶的保護(hù)管、高溫絕緣件,同時(shí)可作為耐高溫耐腐蝕結(jié)構(gòu)陶瓷、透明氮化鋁陶瓷制品,因而成為一種具有較廣應(yīng)用前景的無(wú)機(jī)材料。陶瓷的透明度,一般指能讓一定的電磁頻率范圍內(nèi)的電磁波通過(guò),如紅外頻譜區(qū)域中的電磁波若能穿透陶瓷片,則該陶瓷片為紅外透明陶瓷。純凈的AlN陶瓷為無(wú)色透明晶體,具有優(yōu)異的光學(xué)性能,可以用作制造電子光學(xué)器件裝備的高溫紅外窗口和整流罩的耐熱涂層。因此,氮化鋁陶瓷在方面具有很好的應(yīng)用。氮化鋁粉體的制備工藝:高溫自蔓延合成法:高溫自蔓延合成法是直接氮化法的衍生方法。
氮化鋁粉體的制備工藝:原位自反應(yīng)合成法:原位自反應(yīng)合成法的原理與直接氮化法的原理基本類(lèi)同,以鋁及其它金屬形成的合金為原料,合金中其它金屬先在高溫下熔出,與氮?dú)獍l(fā)生反應(yīng)生成金屬氮化物,繼而金屬Al取代氮化物的金屬,生產(chǎn)AlN。其優(yōu)點(diǎn)是工藝簡(jiǎn)單、原料豐富、反應(yīng)溫度低,合成粉體的氧雜質(zhì)含量低。其缺點(diǎn)是金屬雜質(zhì)難以分離,導(dǎo)致其絕緣性能較低。等離子化學(xué)合成法:等離子化學(xué)合成法是使用直流電弧等離子發(fā)生器或高頻等離子發(fā)生器,將Al粉輸送到等離子火焰區(qū)內(nèi),在火焰高溫區(qū)內(nèi),粉末立即融化揮發(fā),與氮離子迅速化合而成為AlN粉體。其優(yōu)點(diǎn)是團(tuán)聚少、粒徑小。其缺點(diǎn)是該方法為非定態(tài)反應(yīng),只能小批量處理,難于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn),且其氧含量高、所需設(shè)備復(fù)雜和反應(yīng)不完全。陶瓷注射成型技術(shù)是一種制造復(fù)雜形狀陶瓷零部件的新興技術(shù)。導(dǎo)熱氮化鋁價(jià)格
若能以較低的成本制備出氮化鋁粉末,將會(huì)提高其商品化程度。導(dǎo)熱氮化鋁價(jià)格
精細(xì)化學(xué)品行業(yè)的傳統(tǒng)領(lǐng)域主要包括三防漆,防濕劑,化學(xué)品原料,電子機(jī)械等領(lǐng)域。經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期積累,我國(guó)精細(xì)化工行業(yè)在傳統(tǒng)領(lǐng)域已經(jīng)基本滿(mǎn)足了國(guó)民經(jīng)濟(jì)發(fā)展的需要,部分產(chǎn)品已具有一定的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力,染料、農(nóng)藥的產(chǎn)量已處于全球**,涂料產(chǎn)量已達(dá)到全球第四位。精細(xì)化工中間體產(chǎn)品**性強(qiáng),需要建立特定銷(xiāo)售渠道,能否與客戶(hù)保持長(zhǎng)期業(yè)務(wù)合作,將對(duì)貿(mào)易型企業(yè)日常經(jīng)營(yíng)和長(zhǎng)遠(yuǎn)發(fā)展構(gòu)成重大影響。精細(xì)化工中間體的質(zhì)量和純度直接影響到終端產(chǎn)品的性能和品質(zhì)。隨著我國(guó)經(jīng)濟(jì)的穩(wěn)定增長(zhǎng)、工業(yè)化及信息化進(jìn)程的不斷深入、貿(mào)易企業(yè)結(jié)構(gòu)的調(diào)整升級(jí),尤其是我國(guó)對(duì)精細(xì)化工行業(yè)的高度重視,2020年我國(guó)精細(xì)化工行業(yè)將迎來(lái)良好機(jī)遇和廣闊空間。隨著社會(huì)經(jīng)濟(jì)的進(jìn)一步發(fā)展,人們對(duì)電子、汽車(chē)、機(jī)械工業(yè)、建筑新材料、新能源及新型環(huán)保材料的需求將進(jìn)一步上升,電子與信息化學(xué)品、表面工程化學(xué)品、醫(yī)藥化學(xué)品等將得到進(jìn)一步的發(fā)展,全球范圍內(nèi)精細(xì)化學(xué)品市場(chǎng)規(guī)模將保持高于傳統(tǒng)化工行業(yè)的速度飛速增長(zhǎng)。導(dǎo)熱氮化鋁價(jià)格
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