全國磁控濺射真空鍍膜機供應(yīng)

    BLLl-1350RS真空鍍膜機簡介

該設(shè)備屬濺射高真空鍍膜機，采用分子泵為主泵，避免了返油，鍍膜更牢，能耗更低（與擴散泵比節(jié)電50%），效率更高。鍍膜過程采用全自動方式，重復(fù)性更高，一致性更好。達(dá)到高精度、高穩(wěn)定性、自動化，實現(xiàn)量產(chǎn)化高反射膜（裝飾膜）加保護膜的蒸鍍，同時能實驗性做反應(yīng)膜。二.設(shè)備構(gòu)造1．尺寸直徑*高度φ1350*H18002．前開門/前門位置兩個觀察窗。3．直空室主體材料為SUS304不銹鋼焊接。三.抽氣性能1.極限真空：*：大氣至*10-3pa≤（保壓）：。四.工轉(zhuǎn)架運動方式。2.公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速0-10轉(zhuǎn)/分鐘，變頻器控制三相電機。五.整機控制方式全自動PC控制鍍膜或手動操作。2.預(yù)編程鍍膜工藝存儲，抽真空和鍍膜1鍵完成。3.鍍膜過程的參數(shù)有實時記錄，并自動保存，以歷史記錄方式可查。4.工藝過程中對參數(shù)有實時曲線視覺，并有歷史可查（500GB硬盤，存盤滿自動刷新）。5.全系統(tǒng)具有防呆，互鎖，報警，缺相等系統(tǒng)功能。6.氣體流量，測射靶電流，偏壓數(shù)字量控制。7.主機總功率：100KVA。 光學(xué)真空鍍膜機廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、航空航天等領(lǐng)域。全國磁控濺射真空鍍膜機供應(yīng)

    真空鍍膜機在眾多應(yīng)用領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用，其應(yīng)用特點因行業(yè)需求而異。以下是真空鍍膜機的一些主要應(yīng)用領(lǐng)域及其特點：1.光學(xué)鍍膜：·特點：通過在光學(xué)器件表面形成薄膜，改善透射、反射和折射特性，減少表面反射。·應(yīng)用：用于眼鏡、相機鏡頭、望遠(yuǎn)鏡、光學(xué)濾波器等光學(xué)器件的制造。2.電子器件：·特點：制備導(dǎo)電薄膜、金屬化層，提高電子器件的導(dǎo)電性和性能?！?yīng)用：用于集成電路、顯示屏、太陽能電池等電子器件的生產(chǎn)。3.裝飾和飾品：特點：提供裝飾性涂層，改善外觀，并提高產(chǎn)品的耐腐蝕性。應(yīng)用：用于飾品、手表、手機外殼、汽車裝飾件等。4.太陽能電池：特點：制備透明導(dǎo)電薄膜，提高太陽能電池的效率。應(yīng)用：在太陽能電池制造中，用于提高光吸收和電流傳導(dǎo)性能。5.醫(yī)療器械：特點：提高醫(yī)療器械表面的生物相容性，減少摩擦和磨損。應(yīng)用：在人工關(guān)節(jié)、植入器械等醫(yī)療器械的制造中。6.汽車行業(yè)：特點：提供裝飾性涂層、防腐蝕涂層，改善汽車外觀和耐久性?！?yīng)用：用于汽車輪轂、排氣管、車身零部件等。7.磁性薄膜：特點：用于制備磁性薄膜，應(yīng)用于磁存儲設(shè)備和傳感器。應(yīng)用：在硬盤驅(qū)動器、傳感器中的磁性元件等方面。 廣東PVD真空鍍膜機生產(chǎn)廠家光學(xué)真空鍍膜機的鍍膜層具有高耐腐蝕性、高耐熱性等特點。

光學(xué)真空鍍膜機安裝要求

1光學(xué)真空鍍膜機重量較大，要求其安置場所（操作間）以及搬運通道的地面必須有足夠的承載強度。如果不能滿足要求，請進行必要的改建。.2使用本機，需要提供5.5Kg-6.5Kg的壓縮空氣、三相五線380V/50Hz的電力、接地電阻小于10?，電阻率為5?.cm的清潔冷卻水（水溫18℃-25℃,冷卻水壓：入口0.3MPa-0.4MPa/出口OKg-1Kg）。3真空室內(nèi)有人時，不得關(guān)閉真空室門。否則，可能出現(xiàn)的誤操作（如抽真空）將在極短的時間內(nèi)導(dǎo)致真空室內(nèi)的人員死亡，造成無法挽回的嚴(yán)重后果。.4本機不能進行含自燃性、可燃性及爆性氣體的排放，不能在含有自燃性、可燃性及B性氣體的環(huán)境中使用。5禁止使用有毒氣體、放射性氣體等有害氣體。對于使用此類氣體的光學(xué)真空鍍膜機，本公司拒絕任何檢查、維修及改造。6對于產(chǎn)生故障、破損或異常聲音的設(shè)備，請立即停止使用。否則可能造成事故甚至人身傷害。7不得在戶外、水或酸堿性氣體能波及到的場所、塵埃較多的場所及儲藏有危險物品的場所使用本機。8本機使用的真空泵不能進行凝縮性、凝固性氣體或粉塵的排放,9在真空室門打開或限位開關(guān)處于開鎖狀態(tài)下時，禁止運行設(shè)備

真空鍍膜機的類型有以下幾種：1.磁控濺射鍍膜機：利用磁控濺射技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。2.電弧離子鍍膜機：利用電弧放電技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。3.激光鍍膜機：利用激光蒸發(fā)技術(shù)進行鍍膜，適用于高溫材料的鍍膜。4.離子鍍膜機：利用離子束轟擊技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。5.真空噴涂機：利用真空噴涂技術(shù)進行鍍膜，適用于金屬、陶瓷等材料的鍍膜。6.磁控濺射離子鍍膜機：結(jié)合了磁控濺射和離子束轟擊技術(shù)，適用于金屬、陶瓷等材料的高質(zhì)量鍍膜。光學(xué)真空鍍膜機可以制造各種光學(xué)薄膜，如反射膜、透鏡膜、濾光膜等。

真空鍍膜機是一種用于在物體表面形成薄膜涂層的設(shè)備，通常在真空環(huán)境中進行。它主要通過將工作室內(nèi)的空氣抽取，創(chuàng)造一個真空環(huán)境，然后使用不同種類的薄膜材料，如金屬或化合物，將薄膜沉積到物體表面。以下是真空鍍膜機的基本工作原理：1.真空環(huán)境的創(chuàng)建：首先，真空鍍膜機通過使用真空泵將工作室內(nèi)的空氣抽取，創(chuàng)造一個高度真空的環(huán)境。這樣可以減少氣體分子的干擾，確保薄膜沉積的均勻性。2.薄膜材料的選擇：根據(jù)所需的涂層特性和應(yīng)用，選擇適當(dāng)?shù)谋∧げ牧?。這些材料通常是金屬（如鋁、鉻）或化合物（如氮化硅、氧化鋅）。3.薄膜的沉積：薄膜材料可以通過兩種主要的方法進行沉積：蒸發(fā)和濺射?！ふ舭l(fā)：薄膜材料被加熱至其熔點以上，然后蒸發(fā)并沉積在物體表面。這通常涉及加熱薄膜材料的源（靶材）以產(chǎn)生蒸氣?！R射：使用電子束或離子束等方法將薄膜材料從靶材上濺射到物體表面。這是一種更為精確控制涂層厚度和均勻性的方法。4.控制和監(jiān)測：在沉積過程中需要對真空度、沉積速率以及其他參數(shù)進行精密的控制和監(jiān)測，以確保所得到的薄膜具有預(yù)期的性質(zhì)和質(zhì)量。5.結(jié)束過程：一旦涂層達(dá)到所需的厚度和性質(zhì)，真空鍍膜機停止工作，物體被取出。 磁控濺射真空鍍膜機可以實現(xiàn)多種材料的鍍膜，如金屬、合金、氧化物等。安徽磁控濺射真空鍍膜機廠商

真空鍍膜機是現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的重要設(shè)備。全國磁控濺射真空鍍膜機供應(yīng)

    中頻熱蒸發(fā)雙門真空鍍膜機是一種高效、穩(wěn)定、可靠的鍍膜設(shè)備，應(yīng)用于電子、光學(xué)、化工、汽配等領(lǐng)域。該設(shè)備采用中頻清洗和鍍制硅油保護膜，硅油控制采用先進技術(shù)確保了硅油的穩(wěn)定性，從而實現(xiàn)高質(zhì)量的鍍膜效果。中頻熱蒸發(fā)雙門真空鍍膜機具有多項優(yōu)勢。首先，該設(shè)備采用雙門結(jié)構(gòu)，可交替裝載工件鍍膜產(chǎn)品，提高了生產(chǎn)效率。其次，該設(shè)備采用真空鍍膜技術(shù)，能夠在無氧、無塵、無污染的環(huán)境下進行鍍膜，保證了產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性。此外，該設(shè)備還具有高度自動化的特點，可實現(xiàn)全自動控制，減少了人工干預(yù)，提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。中頻熱蒸發(fā)雙門真空鍍膜機的應(yīng)用范圍非常多。在電子領(lǐng)域，該設(shè)備可用于制造半導(dǎo)體器件、光電器件、顯示器件等；在光學(xué)領(lǐng)域，該設(shè)備可用于鍍制反射鏡、透鏡、濾光片等；在化工領(lǐng)域，該設(shè)備可用于制造防腐蝕涂層、耐磨涂層等；在汽配領(lǐng)域，該設(shè)備可用于汽車燈具，飾板等?？傊?，中頻熱蒸發(fā)雙門真空鍍膜機是一種高效、穩(wěn)定、可靠的鍍膜設(shè)備，具有多項優(yōu)勢和極大的應(yīng)用范圍。我們相信，該設(shè)備將為客戶提供更加穩(wěn)定的產(chǎn)品和服務(wù)。 全國磁控濺射真空鍍膜機供應(yīng)

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