河北磁控濺射真空鍍膜機制造商

    高真空多層精密光學鍍膜機BLL-1800F型常規(guī)配置;

真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP1200WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號:不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號:球面型(選擇:平面型，公自轉(zhuǎn)，多行星型，可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟，軟停，可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進口復合真空計MFC系統(tǒng):進口質(zhì)量流量控制器;進口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國產(chǎn)IC-6，XTC-3S/M，INFICON310。石英晶體感應器:1，2，6頭光控控制國產(chǎn)光控(或進口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼，RF源)電子束源:10KW180°或270°電子槍深冷系統(tǒng):真空室麥斯納阱擴散泵冷阱全程自動控制鍍膜以達到產(chǎn)品ZUI終所需要求。 磁控濺射真空鍍膜機具有較高的鍍膜效率和能耗效益，可以降低生產(chǎn)成本。河北磁控濺射真空鍍膜機制造商

真空鍍膜機的鍍膜厚度是通過控制涂層過程中沉積材料的速率來實現(xiàn)的。涂層厚度的控制是一個精密的過程，受到多種因素的影響。以下是一些影響真空鍍膜機鍍膜厚度控制的因素：1.蒸發(fā)源或濺射靶材的速率：蒸發(fā)源或濺射靶材釋放涂層材料的速率直接影響涂層的沉積速率。通過控制這些速率，可以調(diào)整涂層的厚度。2.襯底旋轉(zhuǎn)或運動：襯底在真空腔體中的旋轉(zhuǎn)或運動可以確保涂層在整個表面上均勻沉積，影響涂層的均勻性和厚度。3.真空度：真空度的高低影響蒸發(fā)或濺射過程中氣體分子的數(shù)量，從而影響沉積速率。較高的真空度通常有助于更準確地控制涂層厚度。4.溫度：物體表面的溫度可以影響涂層的附著力和晶體結構，從而影響厚度的控制。加熱蒸發(fā)源或襯底可以調(diào)整涂層的性質(zhì)和厚度。5.沉積材料的性質(zhì)：不同的沉積材料在相同的條件下可能具有不同的沉積速率，這需要在控制中進行調(diào)整。6.氣氛氣體的控制：在一些特定的涂層過程中，引入氣氛氣體可以改變沉積速率和涂層的性質(zhì)。7.鍍膜設備的設計和性能：不同設計和性能的真空鍍膜機可能具有不同的控制精度和穩(wěn)定性，影響涂層的一致性。8.監(jiān)測和控制系統(tǒng)：精密的監(jiān)測和控制系統(tǒng)可以實時檢測涂層的厚度，并根據(jù)需求進行調(diào)整。 江蘇鏡片鍍膜機加工光學真空鍍膜機采用真空鍍膜技術，可以在物體表面形成均勻、透明的薄膜。

生活用品中需要真空鍍膜的有：1.金屬餐具：真空鍍膜可以使餐具表面更加光滑、美觀，同時還可以提高餐具的耐腐蝕性和耐磨性。2.金屬首飾：真空鍍膜可以使首飾表面更加光滑、亮麗，同時還可以提高首飾的耐磨性和耐腐蝕性。3.金屬手表：真空鍍膜可以使手表表面更加光滑、美觀，同時還可以提高手表的耐磨性和耐腐蝕性。4.金屬眼鏡框：真空鍍膜可以使眼鏡框表面更加光滑、美觀，同時還可以提高眼鏡框的耐磨性和耐腐蝕性。5.金屬手機殼：真空鍍膜可以使手機殼表面更加光滑、美觀，同時還可以提高手機殼的耐磨性和耐腐蝕性。6.金屬家居飾品：真空鍍膜可以使家居飾品表面更加光滑、美觀，同時還可以提高家居飾品的耐磨性和耐腐蝕性。

真空鍍膜機通常由多個主要部件組成，每個部件都有特定的功能，以確保涂層過程的順利進行。以下是真空鍍膜機的一些主要部件及其功能：1.真空腔體（VacuumChamber）：功能：提供一個密封的空間，用于創(chuàng)建真空環(huán)境。在這個腔體中，涂層過程將在無空氣或真空的條件下進行。2.真空泵（VacuumPump）：功能：用于抽取真空腔體內(nèi)的空氣，創(chuàng)造高度真空的工作環(huán)境。不同類型的真空泵包括機械泵、擴散泵、離心泵等，其選擇取決于所需的真空度。3.靶材或蒸發(fā)源（TargetorEvaporationSource）：功能：提供薄膜材料，可以是金屬靶材或化合物靶材。靶材通過蒸發(fā)或濺射的方式將薄膜材料釋放到真空腔體中，從而沉積在物體表面。4.襯底臺（SubstrateHolder）：功能：支持待涂層的物體，也稱為襯底。襯底臺通?？尚D(zhuǎn)、傾斜或移動，以確保薄膜均勻沉積在整個表面。5.加熱系統(tǒng)（HeatingSystem）：功能：在蒸發(fā)涂層中，加熱靶材使其蒸發(fā)。加熱系統(tǒng)可能采用電阻加熱或電子束加熱等方法。6.冷卻系統(tǒng)（CoolingSystem）：功能：控制真空腔體內(nèi)的溫度，防止部分設備過熱。冷卻系統(tǒng)通常包括冷卻水或其他冷卻介質(zhì)。7.控制系統(tǒng)（ControlSystem）：功能：監(jiān)測和控制整個涂層過程。 真空鍍膜機可以應用于太陽能電池、LED等新能源領域。

    BLL-1500F燈管真空鍍膜機

1.工藝文件選擇框；2.為廠家的每一爐產(chǎn)品識別號（如沒有則不用輸入），使用可方便日后查找鍍膜過程記錄文件；3.讀取當前選擇工藝文件按鈕；4.點擊可打開當前所選擇的Excel文件；5.晶控復位按鈕，可以恢復晶控里一些生產(chǎn)廠家預設；6.用于鍍膜過程中出現(xiàn)突發(fā)狀況的暫停，點擊之后可對設備做任何操作（如放氣，開門，斷電，重啟），完成之后只需繼續(xù)按鈕，就可以繼續(xù)執(zhí)行暫停時執(zhí)行的膜層未完成的膜厚；7.鍍膜手自動開始選擇按鈕，選擇自動時，則當真空點1E-3Pa為綠、鍍膜溫度、滿足時自動開始執(zhí)行當前所選擇工藝文件；8工藝開始時蜂鳴器響2下提示音。11處可以打開深冷控制畫面1.深冷溫控表，溫度設置和顯示窗口（PV為實際值，SV為設定值，上限為最高溫度，下限為最低溫度）；2.深冷預冷時間為固定25分鐘，每次開機（無論手動自動都需要預冷），預冷時“預冷中”閃爍，預冷完成后常綠。3.制冷需滿足RP開啟、“1E+3Pa”條件4.真空室放氣（充大氣）前深冷必須先除霜，除霜時間3分鐘（自動控制時會自動執(zhí)行除霜）10/13二.正常抽真空流程確認壓縮空氣，冷卻水正常后可以開始抽真空；①手動方式：冷機狀態(tài)→開機械泵RP→開前級閥HV→開分子泵FP。 磁控濺射真空鍍膜機具有較高的鍍膜速率，可以大幅提高生產(chǎn)效率。河南頭盔鍍膜機價位

真空鍍膜機的鍍膜效果穩(wěn)定，鍍層均勻。河北磁控濺射真空鍍膜機制造商

磁控濺射真空鍍膜機BLL-1660RS型常規(guī)配置；

真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP600/1200WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統(tǒng):最高溫度:0到200℃型號:不銹鋼管裝加熱器基片架盤型號:12軸公轉(zhuǎn)或公自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟，軟停，可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進口復合真空計MFC系統(tǒng):進口質(zhì)量流量控制器;進口電磁閥APC系統(tǒng)偏壓電源濺射電源:HUTTINGER電源或AE電源深冷系統(tǒng):DW-3全程自動控制鍍膜，保障生產(chǎn)產(chǎn)品的一致性，重復性，穩(wěn)定性。 河北磁控濺射真空鍍膜機制造商

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