浙江激光保護片真空鍍膜機設(shè)備廠家

來源: 發(fā)布時間:2024-07-23

所述雙向螺紋桿遠離電機的一端貫穿腔體并延伸至腔體的內(nèi)部,所述雙向螺紋桿位于腔體內(nèi)部的一端與腔體內(nèi)壁的右側(cè)通過軸承轉(zhuǎn)動連接。推薦的,所述雙向螺紋桿表面的兩側(cè)且位于腔體的內(nèi)部均螺紋連接有活動塊,兩個所述活動塊的底部均固定連接有限位板,并且兩個活動塊的頂部均通過第二滑軌與腔體內(nèi)壁的頂部滑動連接。推薦的,所述腔體左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機,并且抽風(fēng)機進風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管,所述風(fēng)管遠離抽風(fēng)機的一端貫穿腔體并延伸至腔體的內(nèi)部。有益效果本實用新型提供了一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備。與現(xiàn)有技術(shù)相比具備以下有益效果:(1)、該高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,通過兩個寶來利真空滑軌相對的一側(cè)之間滑動連接有活動板,寶來利真空伸縮桿輸出軸的一端且位于防護框的內(nèi)部與活動板的底部固定連接,防護框頂部的兩側(cè)分別滑動連接有寶來利真空密封蓋和第二密封蓋,并且寶來利真空密封蓋和第二密封蓋相背離的一側(cè)分別與兩個第二伸縮桿的輸出軸固定連接,坩堝放置在加熱板上,通過寶來利真空伸縮桿工作可以使坩堝運動至防護框內(nèi),兩個第二伸縮桿工作能夠控制密封蓋將防護框密封,當鍍膜工作完成后,可以將坩堝密封在防護框內(nèi)。寶來利真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,鎳鉻,有需要可以咨詢!浙江激光保護片真空鍍膜機設(shè)備廠家

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電磁鐵122頂出磁片223,頂蓋22離開出氣管11口,空氣及粉塵從出氣管11排出,當頂蓋22的動觸點224與靜觸點123接觸時,氣缸53通電,伸出伸縮軸,利用空氣壓力將擠壓管52中的水噴出,粉塵遇水沉降落入沉降管51底部,鍍膜機1內(nèi)達到相應(yīng)的真空度時,反方向按下開關(guān)13,電磁鐵122在換向器的作用下電流改變,磁極改變,產(chǎn)生與磁片223相反的磁極,電磁鐵122與磁片223相吸,此時真空泵4斷電,動、靜觸點斷開,氣缸53斷電,頂蓋22緊緊地蓋在出氣管11口上。上述實施例中,開關(guān)13為雙向開關(guān),往一方向按下時,真空泵4與電磁鐵122均通電,往另一方向按下時,真空泵4斷電,電磁鐵122在換向器的作用下電流方向發(fā)生改變,產(chǎn)生相反的磁極。在進一步的實施例中,結(jié)合圖2可得,寶來利真空連接套12遠離鍍膜機1一側(cè)設(shè)有寶來利真空安裝位121;寶來利真空安裝位121位于出氣管11兩側(cè);寶來利真空安裝位121內(nèi)固定有電磁鐵122;頂蓋22靠近鍍膜機1一側(cè)設(shè)有第二安裝位222;第二安裝位222與寶來利真空安裝位121位置相對應(yīng);第二安裝位222內(nèi)固定有磁片223;電磁鐵122與磁片223分別通過膠水固定在寶來利真空安裝位121以及第二安裝位222中;利用磁鐵“同極相斥、異極相吸”的原理,控制頂蓋22的關(guān)閉和打開。

所述頂蓋遠離所述鍍膜機一側(cè)設(shè)有動觸點;所述第二連接套內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點,所述靜觸點位于所述寶來利真空凹槽與所述抽氣管之間;所述動觸點與外部電源電性連接;所述靜觸點與氣缸電性連接。進一步地,所述鍍膜機靠近所述出氣管的側(cè)壁上設(shè)有開關(guān)及換向器;所述開關(guān)分別與所述換向器及所述真空泵電性連接;所述換向器與所述電磁鐵電性連接。進一步地,所述頂蓋側(cè)壁上設(shè)有凹孔。本實用新型的有益效果在于:通過設(shè)置電磁鐵與磁片,在進行鍍膜機內(nèi)真空抽氣時,按下開關(guān),電磁鐵通電產(chǎn)生與磁鐵相同的磁極,利用磁鐵的原理,配合負壓的作用,打開頂蓋,使得氣體從抽氣管排出,隨后反方向按下開關(guān),電磁鐵在換向器的作用下改變電流方向,磁極改變,與磁片的磁極相反,在彈簧的推動下,頂蓋緊緊蓋在出氣管口上,密封性良好,防止鍍膜機內(nèi)真空環(huán)境發(fā)生變化,保證鍍膜過程的正常進行。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明,下面描述中的附圖真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備是本實用新型的部分實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下。寶來利半導(dǎo)體真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細膩有光澤,有需要可以來咨詢!

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為了優(yōu)化真空鍍膜機的鍍膜質(zhì)量和效率,可以采取以下措施:進行膜層性能測試和質(zhì)量控制:完成光學(xué)鍍膜后,應(yīng)通過透射率測量、反射率測量、膜層厚度測量等方法進行膜層性能測試,以評估鍍膜的質(zhì)量和效率。建立和維護真空系統(tǒng):利用真空泵將鍍膜室內(nèi)的空氣抽出,達到所需的真空度。真空度的控制對鍍膜質(zhì)量至關(guān)重要,因為它影響到蒸發(fā)材料的傳輸和分布。同時,需要保持穩(wěn)定的真空環(huán)境,避免外部污染和波動,以保證膜層的均勻性和純度。選擇適合的鍍膜材料:根據(jù)所需膜層的特性(如硬度、透明度、電導(dǎo)性等)以及基材的兼容性選擇合適的鍍膜材料。同時,了解材料的蒸氣壓、熔點等物理化學(xué)性質(zhì),以便在鍍膜過程中進行有效控制。寶來利真空鍍膜機性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,金屬反射膜,有需要可以咨詢!上海濾光片真空鍍膜機定制

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