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所述雙向螺紋桿遠離電機的一端貫穿腔體并延伸至腔體的內(nèi)部,所述雙向螺紋桿位于腔體內(nèi)部的一端與腔體內(nèi)壁的右側(cè)通過軸承轉(zhuǎn)動連接。推薦的,所述雙向螺紋桿表面的兩側(cè)且位于腔體的內(nèi)部均螺紋連接有活動塊,兩個所述活動塊的底部均固定連接有限位板,并且兩個活動塊的頂部均通過第二滑軌與腔體內(nèi)壁的頂部滑動連接。推薦的,所述腔體左側(cè)的底部固定連接有抽風機,并且抽風機進風口的一端連通有風管,所述風管遠離抽風機的一端貫穿腔體并延伸至腔體的內(nèi)部。有益效果本實用新型提供了一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備。與現(xiàn)有技術(shù)相比具備以下有益效果:(1)、該高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,通過兩個寶來利真空滑軌相對的一側(cè)之間滑動連接有活動板,寶來利真空伸縮桿輸出軸的一端且位于防護框的內(nèi)部與活動板的底部固定連接,防護框頂部的兩側(cè)分別滑動連接有寶來利真空密封蓋和第二密封蓋,并且寶來利真空密封蓋和第二密封蓋相背離的一側(cè)分別與兩個第二伸縮桿的輸出軸固定連接,坩堝放置在加熱板上,通過寶來利真空伸縮桿工作可以使坩堝運動至防護框內(nèi),兩個第二伸縮桿工作能夠控制密封蓋將防護框密封,當鍍膜工作完成后,可以將坩堝密封在防護框內(nèi)。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,效果佳,有需要可以咨詢!靶材真空鍍膜設(shè)備推薦廠家
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解決真空鍍膜設(shè)備膜層不均勻的問題可以采取以下措施:調(diào)整鍍液配方:確保鍍液中各種成分的濃度均勻,并根據(jù)需要調(diào)整適當?shù)膮?shù),如溫度、PH值等,以提高沉積速率的均勻性。優(yōu)化電解槽結(jié)構(gòu):通過合理設(shè)計電解槽結(jié)構(gòu),改善電場分布的均勻性,避免在基材上出現(xiàn)局部沉積速率過快或過慢的情況。提前處理基材表面:在鍍膜之前對基材進行表面清潔、拋丸處理、磨削等,確保基材表面平整、清潔,以減少不均勻因素的影響。定期維護設(shè)備:定期清洗、更換鍍液,保持電解槽、電極等設(shè)備的清潔和良好狀態(tài),以確保電解液濃度的穩(wěn)定和均勻。通過以上措施能夠有效地解決真空鍍膜設(shè)備在操作過程中出現(xiàn)的膜層不均勻問題,提高鍍膜的質(zhì)量和效率。
這樣就可以及時打開密封門,將基板取出準備下一次鍍膜,能夠有效防止鍍膜材料噴濺,且省去坩堝降溫的時間,提高了工作效率。(2)、該高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,通過腔體左側(cè)的頂部固定連接有電機,并且電機輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿,雙向螺紋桿表面的兩側(cè)且位于腔體的內(nèi)部均螺紋連接有活動塊,兩個活動塊的底部均固定連接有限位板,電機工作能夠調(diào)整兩個限位板之間的距離,使限位板能夠固定不同大小的基板,擴大了適用范圍,適用性更強,提高了實用性。附圖說明圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)的立體圖;圖2為本實用新型結(jié)構(gòu)的剖視圖;圖3為本實用新型圖2中a處的局部放大圖;圖4為本實用新型寶來利真空密封蓋結(jié)構(gòu)的立體圖;圖5為本實用新型第二密封蓋結(jié)構(gòu)的立體圖。圖中:1腔體、2基板、3坩堝、4支撐腿、5密封門、6支撐板、7防護框、8寶來利真空滑軌、9活動板、10寶來利真空伸縮桿、11第二伸縮桿、12寶來利真空密封蓋、13第二密封蓋、14加熱板、15降溫板、16電機、17雙向螺紋桿、18活動塊、19限位板、20第二滑軌、21抽風機、22風管。具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,鈦鋁,有需要可以咨詢!
所述頂蓋遠離所述鍍膜機一側(cè)設(shè)有動觸點;所述第二連接套內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點,所述靜觸點位于所述寶來利真空凹槽與所述抽氣管之間;所述動觸點與外部電源電性連接;所述靜觸點與氣缸電性連接。進一步地,所述鍍膜機靠近所述出氣管的側(cè)壁上設(shè)有開關(guān)及換向器;所述開關(guān)分別與所述換向器及所述真空泵電性連接;所述換向器與所述電磁鐵電性連接。進一步地,所述頂蓋側(cè)壁上設(shè)有凹孔。本實用新型的有益效果在于:通過設(shè)置電磁鐵與磁片,在進行鍍膜機內(nèi)真空抽氣時,按下開關(guān),電磁鐵通電產(chǎn)生與磁鐵相同的磁極,利用磁鐵的原理,配合負壓的作用,打開頂蓋,使得氣體從抽氣管排出,隨后反方向按下開關(guān),電磁鐵在換向器的作用下改變電流方向,磁極改變,與磁片的磁極相反,在彈簧的推動下,頂蓋緊緊蓋在出氣管口上,密封性良好,防止鍍膜機內(nèi)真空環(huán)境發(fā)生變化,保證鍍膜過程的正常進行。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明,下面描述中的附圖真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備是本實用新型的部分實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細膩有光澤,有需要可以來咨詢!靶材真空鍍膜設(shè)備推薦廠家
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