浙江手機后蓋真空鍍膜設備生產廠家

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以及位于所述外腔體內的用于進行工藝反應的內反應腔；所述內反應腔的側壁上設有自動門，所述自動門連接自動門控制器，工件自所述外腔體經所述自動門進入所述內反應腔中。進一步地，所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設置的寶來利真空側壁；所述內反應腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設置的第二側壁；所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設置，所述寶來利真空側壁與所述第二側壁相互分離設置；所述寶來利真空側壁與蓋設于所述寶來利真空側壁上的密封蓋板密閉連接，所述第二側壁與所述密封蓋板相互分離設置。進一步地，所述自動門設置于所述第二側壁上，所述外腔體內設有傳送裝置，所述工件自所述傳送裝置經所述自動門傳遞至所述內反應腔中。進一步地，所述第二底板和/或所述第二側壁上設有用于對所述內反應腔進行控溫的溫控裝置。進一步地，所述溫控裝置包括溫控管，所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進一步地，所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進一步地，所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管；所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進一步地，所述溫控管纏繞于所述第二側壁的外部，且所述溫控管鋪設于所述第二底板的底部。 上海1500真空鍍膜設備工廠直銷磁控濺射原理鍍制，用于在已預處理好的玻璃、陶瓷等制品表面PVD鍍反映膜，從而獲得光亮、美觀。

所描述的實施例寶來利寶來利是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-5，本實用新型提供一種技術方案：一種高分子等離子表面真空鍍膜設備，包括腔體1、基板2和坩堝3，腔體1內壁底部的兩側分別固定連接有加熱器和冷凝器，坩堝3放置在加熱板14的頂部，腔體1左側的底部固定連接有抽風機21，并且抽風機21進風口的一端連通有風管22，風管22遠離抽風機21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內部，腔體1左側的頂部固定連接有電機16，電機16通過導線與控制開關及外部電源連接，并且電機16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17，雙向螺紋桿17表面的兩側且位于腔體1的內部均螺紋連接有活動塊18，兩個活動塊18的底部均固定連接有限位板19，兩個限位板19相對的一側均開設有與基板2相適配的限位槽，并且兩個活動塊18的頂部均通過第二滑軌20與腔體1內壁的頂部滑動連接，雙向螺紋桿17遠離電機16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內部，雙向螺紋桿17位于腔體1內部的一端與腔體1內壁的右側通過軸承轉動連接，腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。

本實用新型涉及真空設備領域，尤其涉及一種真空反應腔室和真空鍍膜設備。背景技術：目前，真空設備，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等離子體增強化學氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition，物寶來利相沉積）設備已被廣泛應用于各種產品的生產過程中，如光伏電池、半導體器件等等。真空設備中(如pecvd設備、pvd設備)的寶來利真空反應室通常為單個反應腔室，傳動部件和升降部件等機械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設置于該單個反應腔室內，這就造成反應腔室內的工藝環(huán)境不夠封閉，容易造成工藝環(huán)境污染。另外，設置單個反應腔室時，由于工藝反應區(qū)域較大，容易造成工藝所需原料的浪費，同時，還會造成工藝反應過程中溫度波動大，不可控因素較多，從而影響工藝過程。技術實現要素：本實用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應腔室，以解決現有真空設備中由于只設置一個反應腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實用新型的第二目的在于提供一種包含本實用新型真空反應腔室的真空鍍膜設備。為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案如下：一種真空反應腔室，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體。 品質真空鍍膜設備，請選丹陽市寶來利真空機電有限公司，可鍍爐內金，有需要來咨詢！

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