PVD閘閥Micron

微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。采用L型輸送閥L-motion防止產(chǎn)生微粒（Particle)，無需從設備上拆卸閥門，即可更換閘門和O形圈。大量采用缸套運動導軌Liner (motion guide)，實現(xiàn)高精度、高耐用性.微泰晶圓輸送閥L型輸送閥L-motion,Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。這些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅(qū)動，從而可以根據(jù)具體應用進行多功能控制。PVD閘閥Micron

微泰，高壓閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型：CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽Ｆ帘伍l閥Global Foundries閘閥形體簡單，結(jié)構(gòu)長度短，制造工藝性好，適用范圍廣。

微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve，-產(chǎn)品范圍：2.5“~10”-壓力控制-使用步進電機Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor，用步進電機/控制器操作閥門-通過步進電機/控制器精確控制閥門的壓力-根據(jù)產(chǎn)品的不同，控制器可以安裝在客戶需要的地方，微泰，步進電機插板閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。微泰步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。

微泰，超高壓閘閥應用于? Evaporation? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? 蝕刻? Diffusion?CVD等設備上。期特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：CF、連接方式：焊接波紋管（AM350或STS316L）、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：銅墊圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。微泰高壓閘閥的特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。

微泰半導體閘閥的特點：閥門驅(qū)動部分的所有滾子和軸承都進行了防護處理，形成屏蔽和保護環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring）用三重預防方式切斷粉末（Powder），延長閥門驅(qū)動和使用壽命。三重預防驅(qū)動方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部，有三重保護驅(qū)動保護環(huán)，長久延長GV壽命的Shield方法-供應給海外半導體T公司、M公司和I公司Utility設備。擋板與閥體的距離小于1mm，阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料，考慮了復原力，并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護保護環(huán)的主要功能說明-AL材料的重量減輕和保護環(huán)內(nèi)部照明的改善-保護環(huán)內(nèi)部流速的增加-三元環(huán)應用確保驅(qū)動性能。用真空閘閥時，應考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護要求等因素。全真空可嵌入閘閥BUTTERFLY VALVE

控制系統(tǒng)閘閥。控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。PVD閘閥Micron

微泰的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導體 PVD CVD 設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)，起著將工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的關鍵作用，就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時造成的真空壓力變化，使腔室內(nèi)的真空壓力得以穩(wěn)定維持。負責門控半導體晶圓轉(zhuǎn)移的傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產(chǎn)品范圍包括多種尺寸規(guī)格，如 32 x 222、46 x 236、50 x 336、56 x 500 等。維護前使用周期可達 100 萬次，響應時間為 2 秒，并可根據(jù)客戶要求定制法蘭。這些轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品有鋁制或不銹鋼制兩種，用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。I 型的特點是葉片能在垂直方向上快速移動，保證腔室壓力完美維持，它采用具有 LM 導向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機構(gòu)，確保高耐用性和長壽命。L 型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品則設計緊湊，易于維護。I 型和 L 型轉(zhuǎn)移閥在閘門開啟和關閉過程中能極大限度地減少振動，且對溫度變化非常穩(wěn)定，能確保較長的使用壽命。此外，它們即使長時間使用，產(chǎn)生的顆粒也很少，能避免晶圓缺陷和主器件污染。微泰不斷創(chuàng)新，在壓力控制和控制閥制造方面持續(xù)努力，專注于真空閘閥的研發(fā)。PVD閘閥Micron