微泰半導體閘閥與其他類型閘閥相比,具有以下一些優(yōu)勢:1. 高精度控制:能更精確地調節(jié)流體流量。2. 適應半導體環(huán)境:對溫度、真空等條件有更好的適應性。3. 低顆粒產生:減少對晶圓等的污染。4. 長壽命和可靠性:確保穩(wěn)定運行,減少維護成本。5. 多功能應用:可適用于多種半導體工藝設備。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。為了避免在顆粒敏感應用中產生顆粒,滑動閘門機構的設計旨在避免閥殼處的摩擦。蒸發(fā)閘閥ALUMINUM GATE VALVE
微泰,控制系統閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材質:不銹鋼? 緊湊型設計? 帶步進電機的集成壓力控制器? 應用:需要壓力控制和隔離的地方。控制系統閘閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:閥體(STS304)/機構STS304、STS420、饋通:旋轉饋通、執(zhí)行器:步進電機、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護前可用次數:100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。小型閘閥三星半導體為特定的真空系統和工藝選擇適當尺寸和類型的真空閘閥對于確保高效運行和可靠的真空完整性至關重要。
微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,鋁閘閥(AL Gate Valve)-產品范圍:1.5英寸~10英寸-12英寸可生產的產品尺寸,閥體材料:鋁、氣動、緊湊設計、重量輕。閘門,閥蓋密封:Viton O-Ring使用次數:100000次,易于維護,低顆粒(陶瓷球機構)。- Body Material : Aluminum - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism),微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。
微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,控制系統閘閥,控制閘閥、控制系統插板閥、控制系統閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用??刂葡到y閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。微泰高壓閘閥的特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。
微泰,三重防護閘閥、三防閘閥,應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器(1CH ~ 4CH)? 應用:半導體生產線中粉末和氣體等副產品的處理,防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規(guī)格如下:操作:氣動、法蘭尺寸(內徑) 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO,KF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型環(huán)/Kalrez O型環(huán)、閥蓋密封:Viton O型圈、響應時間:≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍: 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差; 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽il閥的結構比較簡單,一般由閥體、閥座、閥桿、閘板、閥蓋、密封圈幾部分組成。HVA閘閥I型轉移閥
用真空閘閥時,應考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護要求等因素。蒸發(fā)閘閥ALUMINUM GATE VALVE
微泰主要產品有1、-手動鎖定閥:操作鎖定按鈕關閉正在抽吸中的切斷閥門切斷現象的源頭:2、特殊閥門:全金屬配件構成,由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成;3、三位閥:半開功能的壓力控制閥。氣動閘閥:?產品范圍:1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次?響應時間:0.2秒~3秒;手動(鎖定)閘閥?產品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次;專門用閘閥:產品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次,響應時間:0.2秒客戶指定的法蘭,可安裝角閥;三位閘閥:產品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:20萬次?響應時間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。蒸發(fā)閘閥ALUMINUM GATE VALVE