極高真空閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-09-24

微泰,多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。微泰多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥其特點(diǎn)是?操作模式:本地和遠(yuǎn)程?緊急情況:自動(dòng)關(guān)閉?慢速泵送功能。多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥規(guī)格如下:材料:閥體 STS304, 機(jī)制 STS304、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 4英寸~10英寸、閘門(mén)密封 FKM(VITON)、開(kāi)/關(guān)振動(dòng) 無(wú)振動(dòng)、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門(mén)壓差 ≤1.4 bar、分子流動(dòng)電導(dǎo)(ISO100)1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門(mén)上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置:任意。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。 控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作,而多定位閘閥使用氣動(dòng)控制操作。極高真空閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體

閘閥

微泰主要產(chǎn)品有1、-手動(dòng)鎖定閥:操作鎖定按鈕關(guān)閉正在抽吸中的切斷閥門(mén)切斷現(xiàn)象的源頭:2、特殊閥門(mén):全金屬配件構(gòu)成,由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成;3、三位閥:半開(kāi)功能的壓力控制閥。氣動(dòng)閘閥:?產(chǎn)品范圍:1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;手動(dòng)(鎖定)閘閥?產(chǎn)品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬(wàn)次;專(zhuān)門(mén)用閘閥:產(chǎn)品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬(wàn)次,響應(yīng)時(shí)間:0.2秒客戶(hù)指定的法蘭,可安裝角閥;三位閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):20萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。加熱閘閥角控制閥微泰,高壓閘閥能應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD。

極高真空閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體,閘閥

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案,真空插板閥品牌—微泰??刂葡到y(tǒng)閥門(mén)是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備中的主要閥門(mén)??刂葡到y(tǒng)閥門(mén)起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,通過(guò)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開(kāi)啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門(mén)分為三類(lèi):控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作,而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動(dòng)控制操作。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。

微泰,傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工,半導(dǎo)體加工,可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用:半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下:閘門(mén)密封類(lèi)型:傳輸閥 (I-MOTION)、右動(dòng)轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式:焊接波紋管、閘門(mén)密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、工作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1200 mbar、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、開(kāi)啟時(shí)壓差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼:< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁:< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù): ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動(dòng),安裝時(shí)有方向性。它的結(jié)構(gòu)長(zhǎng)度大于閘閥,同時(shí)流體阻力大。

極高真空閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,一、控制系統(tǒng)閘閥??刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值,通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過(guò)閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程。蝶閥通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門(mén)。它在閥門(mén)的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器,可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門(mén)狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類(lèi)型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制,用戶(hù)可直接控制閘門(mén)的開(kāi)啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。正確安裝、定期維護(hù)以及遵守制造商指南對(duì)于這些閥門(mén)的性能發(fā)揮和使用壽命至關(guān)重要。電動(dòng)閘閥AKT

微泰高壓閘閥的特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵。極高真空閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn):已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認(rèn)可,已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1,采用陶瓷球機(jī)構(gòu),抗沖擊和震動(dòng),保證使用25萬(wàn)次,檢修方便,較低維護(hù)成本。2,無(wú)Particle(顆粒)產(chǎn)生,采用陶瓷球無(wú)腐蝕和顆粒產(chǎn)。3,屏蔽保護(hù):屏蔽式保護(hù)功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,可防止粉末侵入閥內(nèi),壽命為半永久性。4,保護(hù)環(huán):Protecrion Ring通過(guò)流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固,并通過(guò)打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。極高真空閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體