量子阱

來源: 發(fā)布時間:2024-03-27

二氧化鋯多晶型分析引言二氧化鋯化學(xué)性質(zhì)不活潑,且具有高熔點、高電阻率、高折射率和低熱膨脹系數(shù)等獨特的物理化學(xué)性質(zhì),使它成為重要的耐高溫材料、陶瓷絕緣材料和陶瓷遮光劑。其結(jié)構(gòu)主要有三種晶型:單斜相、四方相以及立方相。不同晶體結(jié)構(gòu)對應(yīng)的物理化學(xué)性質(zhì)有較大區(qū)別,X射線衍射是區(qū)分二氧化鋯晶型的主要手段之一。同時利用先進的Rietveld方法可對二氧化鋯多晶型樣品進行快速定量分析。實例二氧化鋯多晶型定性分析左插圖:微量的二氧化鋯單斜相右插圖:二氧化鋯四方相和立方相區(qū)分明顯定性相分析和結(jié)構(gòu)測定 微米應(yīng)變和微晶尺寸分析 應(yīng)力和織構(gòu)分析 粒度和粒度分布測定 微米大小X射線束局部分析。量子阱

量子阱,XRD衍射儀

布魯克獨有的DBO功能為X射線衍射的數(shù)據(jù)質(zhì)量樹立了全新的重要基準。馬達驅(qū)動發(fā)散狹縫、防散射屏和可變探測器窗口的自動同步功能,可為您提供的數(shù)據(jù)質(zhì)量——尤其是在低2?角度時。除此之外,LYNXEYE全系列探測器均支持DBO:SSD160-2,LYNXEYE-2和LYNXEYEXE-T。LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上的一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測器,適用于所有波長(從Cr到Ag),具有準確的計數(shù)率和角分辨率,是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。量子阱從過程開發(fā)到質(zhì)量控制,D8 DISCOVER可以對亞毫米至300mm大小的樣品進行結(jié)構(gòu)表征。

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RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試,X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米,這遠遠大于薄膜的厚度,導(dǎo)致薄膜的信號會受到襯底的影響(圖1)。另外,如果衍射簡單較高,那么X射線只能輻射到部分樣品,無法利用整個樣品的體積,衍射信號弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明:GID需要硬件配置;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜。

D2PHASER所具備的數(shù)據(jù)質(zhì)量和數(shù)據(jù)采集速度遠超目前人們對臺式XRD系統(tǒng)的認知。緊湊輕便的外形和易于使用的設(shè)計,十分便于移動,您無需準備復(fù)雜的基礎(chǔ)框架、大而笨重的工作臺,也無需供應(yīng)商前來安裝和調(diào)整,只需準備標準的電源插座,然后花費幾分鐘的時間,即可完成從拆包到獲得分析結(jié)果的過程。D2PHASERXE-T版D2PHASER配備了獨特的LYNXEYEXE-T探測器,已然成為同類更好的選擇!小于380eV的能量分辨率使其支持的數(shù)字單色器模式,可有效去除——不必要的輻射,如樣品熒光,Kβ輻射以及軔致輻射——背景散射,而不會明顯降低檢測速度。在DIFFRAC.TEXTURE中,使用球諧函數(shù)和分量方法,生成極圖、取向分布函數(shù)(ODF)和體積定量分析。

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D8ADVANCEECO是一款功能齊全的D8ADVANCE衍射儀的經(jīng)濟型版本,是D8衍射儀系列平臺的入門款。隨著采購和維護X射線分析的資源愈發(fā)有限,人們對準確性、精度和速度的要求也達到了前所未有的高度。D8ADVANCEECO即理想的解決方案:較小的生態(tài)足跡、易用性和出色的分析性能是其突出的特點。得益于精簡的儀器配置,不論預(yù)算如何,它都是您的理想之選。與D8ADVANCE系列其他產(chǎn)品一樣,D8ADVANCEECO覆蓋所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用,包括典型的X射線粉末衍射(XRD)對分布函數(shù)(PDF)分析小角X射線散射(SAXS)和廣角X射線散射(WAXS)環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下。在DIFFRAC.EVA中,對塑料薄膜進行WAXS測量分析。然后塑料纖維的擇優(yōu)取向便顯而易見了。廣州進口XRD衍射儀推薦咨詢

D8測角儀巨有市場超前地精確度,為布魯克獨有的準直保證奠定了基礎(chǔ)。量子阱

薄膜和涂層薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過進一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒別、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析。在對薄膜和涂層進行分析時,著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進行特性分析,從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜等。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射高分辨率X射線衍射倒易空間掃描,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對所有類型的樣品進行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的:配置儀器時,免工具、免準直,同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉(SRM1976)的準直保證。目前,在峰位、強度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。量子阱