近年來(lái)各種防曬玻璃、自潔玻璃、保溫隔熱玻璃、防輻射玻璃等等漸漸進(jìn)入消費(fèi)者的視線(xiàn)。其實(shí)這些產(chǎn)品也沒(méi)有這么神秘，這些有特異功能的玻璃都是經(jīng)過(guò)鍍膜工藝鍍上去的，鍍膜的方式也有很多種，有的玻璃在出廠前就已經(jīng)經(jīng)過(guò)鍍膜，有的是后期通過(guò)玻璃鍍膜液涂上去的，都能達(dá)到很好的效果。鍍膜玻璃，借用百度百科的介紹就是：鍍膜玻璃（Coatedglass）也稱(chēng)反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學(xué)性能，滿(mǎn)足某種特定要求。鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性，可分為以下幾類(lèi)：熱反射玻璃、低輻射玻璃（Low-E）、導(dǎo)電膜玻璃等。那么用在門(mén)窗上的鍍膜玻璃，主要是采用國(guó)際先進(jìn)的磁控真空濺射技術(shù)，在門(mén)窗玻璃內(nèi)表層鍍上6-20層納米級(jí)金屬化合物薄膜，讓其性能得到長(zhǎng)久有效發(fā)揮。而鍍膜玻璃和普通玻璃對(duì)比的優(yōu)勢(shì)有哪些呢？01有效阻隔太陽(yáng)能在同樣條件下，室內(nèi)溫度低5~10℃，到達(dá)舒適的時(shí)間減少20%(空調(diào)開(kāi))，電費(fèi)節(jié)省3％～8%。02不容易沾灰塵普通玻璃室外面很容易就沾上了厚厚的一層灰塵，不時(shí)需要擦洗一遍。而經(jīng)過(guò)鍍膜的玻璃，它的表面黏著性差，不管是灰塵還是臟雨水，都很難吸附在玻璃上面，達(dá)到良好的防塵防污效果。鍍膜機(jī)的操作簡(jiǎn)單，易于維護(hù)和清潔。陜西先進(jìn)卷繞鍍膜機(jī)
卷繞鍍膜機(jī)是對(duì)薄膜進(jìn)行收卷鍍膜的一種鍍膜裝置，在鍍膜之前是先將需要鍍膜的薄膜卷放在鍍膜機(jī)處的安裝座處，通過(guò)鋁導(dǎo)輥的導(dǎo)向，可將薄膜從薄膜卷上拉出，并將薄膜通過(guò)蒸發(fā)源上方經(jīng)過(guò)，便可對(duì)薄膜進(jìn)行鍍膜處理，在鍍膜冷卻后，收卷即可。但是現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī)，在多薄膜鍍膜的過(guò)程中，存在如下問(wèn)題；1、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī)，在對(duì)薄膜進(jìn)行放卷時(shí)，易造成薄膜的褶皺，導(dǎo)致薄膜的不平整，不利于對(duì)薄膜的鍍膜處理；2、現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī)，在薄膜通過(guò)蒸發(fā)源進(jìn)行鍍膜時(shí)，由于溫度過(guò)高，易造成薄膜的收縮，不利于薄膜后續(xù)的收卷處理。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于卷繞鍍膜機(jī)展平的結(jié)構(gòu)，以解決上述背景技術(shù)提出的目前市場(chǎng)上的現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī)，在對(duì)薄膜進(jìn)行放卷時(shí)，易造成薄膜的褶皺，導(dǎo)致薄膜的不平整，不利于對(duì)薄膜的鍍膜處理，在薄膜通過(guò)蒸發(fā)源進(jìn)行鍍膜時(shí)，由于溫度過(guò)高，易造成薄膜的收縮，不利于薄膜后續(xù)收卷處理的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種用于卷繞鍍膜機(jī)展平的結(jié)構(gòu)，包括放料座、放卷、水冷輥、張力輥、收卷、收料座和卷繞鍍膜機(jī)主體，所述卷繞鍍膜機(jī)主體上設(shè)置有大墻板，且大墻板的一側(cè)設(shè)置有小墻板。自動(dòng)卷繞鍍膜機(jī)排名靠前卷繞鍍膜機(jī)可以實(shí)現(xiàn)薄膜的自動(dòng)化生產(chǎn)和包裝。
離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽(yáng)極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度**提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。光學(xué)鍍膜材料（純度：）高純氧化物一氧化硅、SiO，二氧化鉿、HfO2，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯、ZrO2，二氧化鈦、TiO2，一氧化鈦、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二鈦、Ti2O3，五氧化三鈦、Ti3O5，五氧化二鉭、Ta2O5，五氧化二鈮、Nb2O5，三氧化二鋁、Al2O3，三氧化二鈧、Sc2O3，三氧化二銦、In2O3，二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2，二氧化鈰、CeO2，氧化鎂、MgO，三氧化鎢、WO3，氧化釤、Sm2O3，氧化釹、Nd2O3。
薄膜是一種物質(zhì)形態(tài)，它所使用的膜材料非常***，可以是單質(zhì)元素或化合物，也可以是無(wú)機(jī)材料或有機(jī)材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣，可以是單晶態(tài)的，多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來(lái)功能材料薄膜和復(fù)合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常***，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴(kuò)散法，電鍍法，涂布法，液相生長(zhǎng)法等。氣相生成法又可分為物***相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱(chēng)為物***相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)，獲得并保持所需的真空環(huán)境，是鍍膜的必要條件。真空系統(tǒng)的種類(lèi)繁多。在實(shí)際工作中，必須根據(jù)自己的工作重點(diǎn)進(jìn)行選擇。典型的真空系統(tǒng)包括：獲得真空的設(shè)備（真空泵），待抽空的容器（真空室），測(cè)量真空的器具（真空計(jì)）以及必要的管道，閥門(mén)和其它附屬設(shè)備。1.真空蒸發(fā)鍍膜法真空蒸發(fā)鍍膜法是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到固體（稱(chēng)為襯底或基片）表面。卷繞鍍膜機(jī)的發(fā)展趨勢(shì)是向更高速度、更精確控制和更節(jié)能環(huán)保方向發(fā)展。
基材中如有揮發(fā)性雜質(zhì)釋放會(huì)使鍍鋁層發(fā)彩、變色、影響反射效果。圖1(略)為PC塑料的DSC曲線(xiàn)，此圖顯示出PC基材在溫度為90℃左右時(shí)有明顯的熱流變化，可以認(rèn)為有物質(zhì)釋放，其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg約為140℃，該材料的使用溫度應(yīng)該低于這一溫度。第二，提高基材表面平整度，確保獲得鏡面的鍍膜效果。一般來(lái)說(shuō)塑料表面本身具有，真空鍍膜的厚度不超過(guò)μm，無(wú)法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達(dá)到10-20μm，表面平整度在μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。適用于PC材料車(chē)燈反射罩的UV涂料必須具備以下基本特點(diǎn):(1)流平狀態(tài)好，漆膜豐滿(mǎn)光亮，這樣可以確保真空鍍膜后有一個(gè)完整的反射膜。(2)涂膜具有封閉作用，可以在120℃時(shí)保證PC基材的逸出物不會(huì)影響鍍層。(3)涂層自身有一定的耐熱性，120℃不會(huì)有物質(zhì)分解釋放而對(duì)鍍層產(chǎn)生影響。1.封閉性.塑膠在成型的過(guò)程中，往往要添加一些物質(zhì)，如色粉，阻燃劑，脫模時(shí)還要噴灑脫模劑，也同樣無(wú)法避免一些雜質(zhì)參雜其中，同時(shí)啤塑條件差異也使得塑膠產(chǎn)生毛細(xì)微孔，在常溫長(zhǎng)壓的狀態(tài)下是沒(méi)辦法用肉眼觀察得到，但在真空狀態(tài)下，塑膠中含有的一些揮發(fā)性小分子子化合物。卷繞鍍膜機(jī)常規(guī)使用方案是什么？吉林多功能卷繞鍍膜機(jī)
卷繞鍍膜機(jī)使用中有什么注意事項(xiàng)？陜西先進(jìn)卷繞鍍膜機(jī)
磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)磁控濺射的構(gòu)成例（W35系列）對(duì)樹(shù)脂基膜等基材以卷到卷方式采用磁控濺射方法形成透明導(dǎo)電膜（ITO，ZnO等）?光學(xué)膜（SiO2,SiOx,NbOx等）鍍膜的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)。磁控濺射法，采用各種陰極（DC,UBM,DMS，旋轉(zhuǎn)磁石），進(jìn)行觸摸屏?FPD?太陽(yáng)能電池?窗膜等所必須的透明導(dǎo)電膜（TCO）?光學(xué)膜?氧化膜?金屬膜的鍍膜。聚集了從面向R&D?實(shí)驗(yàn)性生產(chǎn)的小型裝置到面向?qū)挿?大型卷繞鍍膜機(jī)，對(duì)應(yīng)柔性電子?能源領(lǐng)域的研究開(kāi)發(fā)直到量產(chǎn)的需求。特征1.可搭載各種陰極1）UBMS（非平衡磁控濺射）根據(jù)非平衡磁場(chǎng)增大基材附近的等離子密度。膜表面的能量輔助效果使得薄膜特性提高。BM和UBM的比較2）DMS（雙磁石磁控濺射）在鍍絕緣膜等反應(yīng)性磁控濺射鍍膜時(shí)，將2臺(tái)磁控濺射蒸發(fā)源交替放電，實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定放電?高速鍍膜。3）旋轉(zhuǎn)磁石利用圓柱靶的圓周，提高材料效率。通過(guò)投入高能量實(shí)現(xiàn)高速鍍膜?？梢訢MS化。2.前處理機(jī)能通過(guò)脫氣，離子源照射?等離子照射實(shí)現(xiàn)密著性改善機(jī)能。裝置陣容1.面向R&D?實(shí)驗(yàn)性生產(chǎn)的卷繞鍍膜機(jī)（W35系列）面向R&D?實(shí)驗(yàn)性生產(chǎn)的卷繞鍍膜機(jī)（W35系列）小型?節(jié)省空間基膜寬度：350mm。陜西先進(jìn)卷繞鍍膜機(jī)