蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng),將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點，并有比較好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。真空鍍膜機類金剛石薄膜通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜。福建不銹鋼真空鍍膜涂料
真空鍍膜色斑是什么：色斑（也稱膜色壓克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異（一般不規(guī)則）。有膜內(nèi)色斑（含膜層色斑）和膜外色斑二種。?有時會出現(xiàn)規(guī)則的局部區(qū)域（如凹鏡片的中心或環(huán)狀區(qū)域等）膜色變異。?色斑產(chǎn)生的原因：?局部折射率變異：所謂膜色是薄膜光譜特性的反映，薄膜光譜分光特性的設計和達成是建立在折射率基片的基礎上，如果基片局部折射率改變，那么所鍍的膜層在局部的光譜分光特性也有變化。局部點的膜色就會有變異，形成膜內(nèi)色斑的。?鍍膜中和鍍膜后由于種種原因，使得膜層的局部折射率變異，形成膜層或膜外色斑。?膜外色斑一般較淺，可以用拋光粉或碳酸鈣分擦掉，如果是中間層或底層膜層局部折射率變異的膜層色斑，就不能用拋光粉或碳酸鈣粉擦拭去掉了。?分辨膜內(nèi)膜層和膜外色斑的一個有效手段是用拋光粉或碳酸鈣粉擦拭。?膜內(nèi)、膜層、膜外色斑的處理對策是不同的。福建不銹鋼真空鍍膜涂料真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。
真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理的氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料較為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可較大增加材料表面耐磨性能，較大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。
真空鍍膜加工操作規(guī)程：1．在真空鍍膜加工中設備運轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜加工機時，須先開水管，工作中應注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。3．在用電子頭鍍膜時，應在鐘罩周圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應在通風裝置內(nèi)進行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。8．工作完畢應斷電、斷水。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不只薄膜的結(jié)合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了比較大的限制。真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果。福建不銹鋼真空鍍膜涂料
真空鍍膜機大功率脈沖磁控濺射技術(shù)的脈沖峰值功率是普通磁控濺射的100倍，在1000~3000W/cm2范圍。福建不銹鋼真空鍍膜涂料
真空鍍膜機主要是指在真空度比較高的情況下鍍膜，已經(jīng)被普遍應用，制度薄膜更加廣闊，此設備制作的薄膜也被應用到各種光電系統(tǒng)和光學儀器中，數(shù)碼相機。望遠鏡，還有汽車工業(yè)等行業(yè)都用到。顧名思義真空鍍膜設備要在真空條件下工作，所以該設備要滿足真空環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設備的正常使用；而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度比較難的。福建不銹鋼真空鍍膜涂料
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