真空鍍膜需要注意的問題：1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。2、化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而比較容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 3、晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。真空鍍膜機的優(yōu)點:其封口性能好，尤其包裝粉末狀產品時，不會污染封口部分，保證了包裝的密封性能。耐腐蝕真空鍍膜廠
真空鍍膜機電阻式蒸發(fā)鍍分為預熱段、預溶段、線性蒸發(fā)段三個步驟。但是這三個步驟 與時間長短、電流大小有著密切的關系，本人認為應做到短時間中電流，長時間小電流、蒸發(fā)電流呈線性上升的方式作為調整工藝的通常調法，比如同等電流時間長二分之一就會變黃，時間較長就會變黑。真空鍍膜設備膜層厚度過厚也會帶一點黑色，但是是金屬本色黑色。膜層薄則呈現(xiàn)白銀色。 ①、預熱段的現(xiàn)象：預熱段爐體內鎢絲基本沒什么變化，只是給鎢絲一定安培的電流先加熱，通常的工藝電流在600A-1000A之間，時間在10-30秒 。 ②、預溶段的現(xiàn)象：這時爐體內的鎢絲會有發(fā)亮現(xiàn)象，然后鋁絲像爆一樣的動作， 緊接著將從固態(tài)慢慢的變成液態(tài)。通常的工藝電流在800A-1200A之間，時間在5-15秒。③、線性蒸發(fā)段：這個階段較為重要，真空鍍膜機膜層變黑變黃都是在這個階段出現(xiàn)的，蒸發(fā)時爐體內的現(xiàn)象，所有的鎢絲都達到了像60瓦燈泡那樣亮（比喻），隨著電流的加大會越來越亮，鋁絲剛開始時像水滴一樣倒掛在鎢絲上，隨著電流的加大慢慢的會被完全蒸發(fā)掉。耐腐蝕真空鍍膜廠真空鍍膜機的優(yōu)點:具有較佳的金屬光澤，光反射率可達97%。
相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：1、真空蒸鍍。其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術。2、濺射鍍膜。濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。3、離子鍍膜。即干式螺桿真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(膜材)部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到粒子的轟擊，十分清潔。4、真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物理的氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術，以實現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
真空鍍膜設備選購要點分析如下：1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、多弧離子鍍等。3、夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。4、真空系統(tǒng)由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。5、完善的報警系統(tǒng)，對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。在建筑和汽車玻璃上使用真空電鍍設備技術，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。
為什么真空鍍膜可以做成半透效果而且不導電？并非完全不導電，利用了分子在薄膜狀態(tài)下的不連續(xù)性，金屬或金屬化合物都具有導電性，只是導電率不同。但是，當金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態(tài)時，其相應的物理特性會有所不同。常規(guī)的鍍膜材料中，如：銀是銀白效果和導電性能較好的金屬，但它厚度在5納米以下時，它是不導電的；鋁的銀白效果和導電性比銀稍微差一些，但它厚度在0.9納米時，就已經具備導電性。為什么會這樣呢？那是因為銀分子的連續(xù)性沒有鋁的好，所以在相對膜厚下，它的導電性反而較差。我們真空鍍金屬不導電膜其實就是利用了某些金屬的分子連續(xù)性差的原理，把它厚度控制在某個范圍，使其具備銀白色外觀并且電阻超大。由此可見，金屬不導電膜的效果跟它的膜厚是直接相關的。只有在相對應的膜厚下，才能得到相應穩(wěn)定的銀白色不導電膜。真空鍍膜機真空壓鑄工藝采用鈦合金單獨裝料，感應殼式熔煉。云南不銹鋼真空鍍膜廠家
真空鍍膜機光學鍍膜主要有兩種：一種是抗反射膜、另一種是加硬膜。耐腐蝕真空鍍膜廠
真空蒸發(fā)鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩薄仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、;價廉的塑料，陶瓷表面金屬化制品。普遍應用于汽車、摩托車燈具、工藝美術、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機、鬧鐘、女式鞋后跟等領域。真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已普遍地應用于光學、電子學、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。耐腐蝕真空鍍膜廠
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