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離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

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美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程：

a.  淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。

離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。 安徽美國IONPURE EDI模塊量大從優(yōu)美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎比價。

(1) 西門子EDI模塊，進水電導率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加西門子EDI模塊對弱電解質的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產生的H+和OH-的數量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產水水質不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當載流離子導電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結果使產水水質下降。

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統的工作區(qū)間會向進水側發(fā)生移動,表現為出水水質變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統的平衡狀態(tài)可以通過出水水質變化,弱電離子的漏出多少來實現,并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調節(jié)系統平衡的要素,特別是對于系統中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保規(guī)格齊全。

美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況：

     1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流，小流量運行，積聚的熱量得不到散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質和水量都不同程度的下降。

     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結鈣鎂垢，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節(jié)，**終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護，EDI的膜片和通道滋生有機物，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節(jié)，**終無法使用。

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