零售美國IONPURE EDI模塊

(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量經(jīng)得起檢驗(yàn)。零售美國IONPURE EDI模塊

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料；

2、美國IonpureIP-LXM45ZEDI模塊膜片采用進(jìn)口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜；

3、采用進(jìn)口EDI**均粒樹脂和國產(chǎn)EDI**均粒樹脂；

4、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件；

7、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊出廠比較高試壓7bar不漏水；

8、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電阻低、功耗?。?

9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)；

10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。 安徽廠家直供美國IONPURE EDI模塊價(jià)格美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保誠信為本。

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下：

1．準(zhǔn)備

   1）關(guān)閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運(yùn)行，確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉(zhuǎn)換鈕轉(zhuǎn)到“關(guān)閉”位置。

   2）關(guān)閉下列閥門：原水進(jìn)水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進(jìn)出口閥。

   3）將清洗水箱和相關(guān)的清洗管道清洗干凈。

   4）連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線直接連接到清洗水箱上。把原水進(jìn)水、濃水進(jìn)水清洗管線連接到EDI系統(tǒng)的原水進(jìn)水和濃水進(jìn)水清洗接口上。注意清洗管線必須牢固、緊密，以防止化學(xué)藥品的噴濺。

清洗 隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說明將同時(shí)提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保性價(jià)比出眾。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境：應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進(jìn)水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進(jìn)水溫度

45℃(113?F)

名義流量時(shí)的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進(jìn)水條件 零售美國IONPURE EDI模塊

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