四川零售美國IONPURE EDI模塊的特點

來源: 發(fā)布時間:2022-08-29

美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置將給水分成三股**的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為**終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

   美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。四川零售美國IONPURE EDI模塊的特點

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安全

1)避免接觸氫氧化鈉,過乙酸,過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學(xué)物質(zhì),過氧化氫是氧化劑。

2)將整個管線降壓以避免高壓化學(xué)藥劑噴濺。

3) EDI系統(tǒng)在高電壓下運行,在任何維護工作前,確保整流器不通電并鎖定。

清洗化學(xué)品規(guī)范

  所有化學(xué)品應(yīng)必須達到推薦使用的等級或者更好。 氯化鈉(NaCl),食用級(≥99.80%), ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%:ACS級,或達到水系統(tǒng)清洗的商用濃度。鹽酸(HCl)ACS或技術(shù)級氫氧化鈉(NaOH):球狀, NF, ACS或凈化級; 或50%w/w 溶液。 進口美國IONPURE EDI模塊美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷多年。

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IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計的。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水,而不會由于再生而中斷運行。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。


美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色:

采用雙O-型密封圈進行密封,確保膜堆在運行中不發(fā)生泄漏;

產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水,無需使用化學(xué)藥劑;

連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無波動,不似批處理設(shè)備呈周期變化;

不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐;

具有優(yōu)良的電絕緣性能;

在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續(xù)運行;

采用專利注冊的“全填充”技術(shù),不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。

美國ionpure edi模塊的進水指標要求: ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水 ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。 ◎電導(dǎo)率:<40μS/cm。 ◎PH:6.0~9.0。當總硬度低于0.1ppm時,edi比較好工作的pH范圍為8.0~9.0。 ◎溫度:5~35℃。 ◎進水壓力:<4bar(60psi)。 ◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。 ◎有機物(TOC):<0.5ppm。 ◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。 ◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。 ◎H2S:<0.01ppm。 ◎二氧化硅:<0.5ppm。 ◎色度:<5APHA。 ◎二氧化碳的總量:<10ppm。 ◎ SDI 15min:<1.0。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保貨真價實。

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西門子EDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件,一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短,增加運行成本,嚴重影響生產(chǎn)。

導(dǎo)致西門子EDI模塊故障的主要原因:

  1、西門子EDI模塊長期在大電流,低于額定流量情況下運行,極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā),造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)** 先發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,水質(zhì)和水量下降,嚴重會碳化漏水。

  2、西門子EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),EDI的膜片和通道結(jié)垢,進出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電流無法調(diào)節(jié),電壓上升。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式


  ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)


  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)


步驟


  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。


  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)


  ?步驟 2.


  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)



  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)



  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)


  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求)??傮w來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。




  ? (僅按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)


  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))


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