反滲透膜陶氏膜規(guī)格

運(yùn)行極限:

比較高操作溫度:1130F(450C)

比較高操作壓力:600psig(41bar)

比較高壓降:15psig(1.0bar)

PH范圍，連續(xù)運(yùn)行a:2-10

PH范圍，短期清洗（30分鐘）b:1-13

比較大進(jìn)水流量:85gpm(19m3/hr)

比較大給水SDI15:5

允許游離氯含量C:<

aPH>10時(shí)，連續(xù)運(yùn)行的比較高允許溫度950F（350C）

c在某些條件下，游離氯及其他氧化劑的存在會導(dǎo)致膜片提早發(fā)生降解破壞。由于氧化破壞是超出陶氏反滲透ro膜BW30-400IG的質(zhì)保范圍，故建議用戶在殘余游離氯接觸膜片之前通過預(yù)處理將其除去。 陶氏膜上海純超環(huán)保經(jīng)銷多年。反滲透膜陶氏膜規(guī)格

保養(yǎng)：

 隨著凈水設(shè)備在水處理行業(yè)的***應(yīng)用，反滲透膜也漸漸的被人重視。反滲透膜的成本是消費(fèi)者**關(guān)心的問題之一，良好的保養(yǎng)，有助于延長反滲透膜的使用壽命。

 設(shè)備試機(jī)完后，我們兩種方法保護(hù)反滲透膜。設(shè)備試機(jī)運(yùn)行兩天（15～24h），然后采用2%的甲醛溶液保養(yǎng)；或運(yùn)行2～6h后，用1%的NaHSO3的水溶液進(jìn)行保養(yǎng)反滲透膜（應(yīng)排盡設(shè)備管路中的空氣，保證設(shè)備不漏，關(guān)閉所有的進(jìn)出口閥）。兩種方法均可得到滿意的效果，第一種方法成本高些，在閑置時(shí)間長時(shí)使用，第二種保養(yǎng)反滲透膜的方法在閑置時(shí)間較短時(shí)使用。

應(yīng)用范圍：

 反滲透膜***用于電力、石油化工、鋼鐵、電子、醫(yī)藥、食品飲料、市政及環(huán)保等領(lǐng)域，在海水及苦咸水淡化，鍋爐給水、工業(yè)純水及電子級超純水制備，飲用純凈水生產(chǎn)，廢水處理及特種分離過程中發(fā)揮著重要作用。 江蘇bw30-365陶氏膜進(jìn)口陶氏膜上海純超環(huán)保專業(yè)人員給出建議。

美國陶氏超濾膜清洗流程如下：

一、美國陶氏超濾膜整體反洗1、關(guān)閉進(jìn)水氣動閥和產(chǎn)水氣動閥。2、開啟加強(qiáng)反洗進(jìn)水氣動閥，上排水氣動閥，下排。3、交替開啟和關(guān)閉上排水氣動閥，下排水氣動閥。上排水氣動閥開啟2～4分鐘，下排水氣動閥開啟3～6分鐘。4、及時(shí)取水樣觀察沖洗水中有無雜質(zhì)。5、設(shè)備沖洗0.5小時(shí)～1.5小時(shí)，***沖洗至水清澈為止。

二、殺 菌1、設(shè)備已反沖洗干凈。2、連接清洗管路。3、關(guān)閉進(jìn)水氣動閥和產(chǎn)水氣動閥，加強(qiáng)反洗進(jìn)水氣動閥，下排水氣動閥。

制藥工業(yè)符合GMP認(rèn)證的純化水設(shè)備 ? 水質(zhì)符合2000版藥典標(biāo)準(zhǔn)和GMP中的各項(xiàng)規(guī)定 ? 設(shè)備全自動運(yùn)行和有條件的全自動處理程序（如反沖洗、再生、酸洗、***程序） ? 單體和管道設(shè)備符合GMP的要求（如后端處理設(shè)備如殺菌器、膜濾、終端水箱、管路均采用316L材料，預(yù)處理設(shè)備的管路采用UPVC管材） 純化水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)： 電阻率：≥0.5MΩ.CM，電導(dǎo)率：≤2μS 氨≤0.3μg/ml 硝酸鹽≤0.06μg/ml 重金屬≤0.5μg/ml 典型醫(yī)藥用純水制備工藝流程 ? 原水－原水加壓泵－多介質(zhì)過濾器－活性炭過濾器－軟水器－精密過濾器－***級反滲透－PH調(diào)節(jié)－中間水箱－第二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－微孔過濾器－用水點(diǎn)推薦新工藝 ? 原水－原水加壓泵－多介質(zhì)過濾器－活性炭過濾器－軟水器－精密過濾器－一級反滲透設(shè)備－中間水箱－中間水泵－離子交換器－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－微孔過濾器－用水點(diǎn)傳統(tǒng)工藝 ? 原水－原水加壓泵－多介質(zhì)過濾器－活性炭過濾器－軟水器－精密過濾器－一級反滲透機(jī)－中間水箱－中間水泵－EDI系統(tǒng)－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－微孔過濾器－用水點(diǎn)新工藝 陶氏膜上海純超環(huán)保質(zhì)量保證。

公司主要經(jīng)營 EDI模塊：美國IONPURE EDI模塊，西門子EDI模塊、GE EDI模塊、蘇伊士EDI模塊、伊樂科EDI模塊、EDIPURE EDI模塊、IP-LXM45Z模塊、IP-LXM30Z模塊、IP-LXM18Z模塊、IP-LXM10Z模塊、IP-LXM04Z模塊、MK-3模塊、-3X模塊、西門子熱消 毒模塊、IONPURE熱消 毒EDI、熱消 毒模塊、GE熱消 毒模塊、Electropure EDI模塊。 EDI電源：億能EDI電源、懿博EDI電源、萌欣EDI電源、ZSC2000D電源、ZSC電源、YN2000電源、YN3000電源、MK3電源、en-link電源 盤式過濾器、疊片式過濾器、淺層式過濾器、阿科盤式過濾器、纖維束過濾器 陶氏膜上海純超環(huán)保廠家直供。海德能膜和陶氏膜規(guī)格

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回收率的極限：

 如前所述，回收率是產(chǎn)水量和進(jìn)水量之比。通常，一種理想情況是回收全部進(jìn)水，但是這是不現(xiàn)實(shí)的，因?yàn)橛腥缦略颍?

 如果所有進(jìn)水都轉(zhuǎn)化為產(chǎn)水，將沒有水可以用來沖走膜表面上截留的懸浮固體物質(zhì)。這樣，懸浮固體物質(zhì)將在膜表面積累，并逐漸阻止產(chǎn)水流過膜，直至無法產(chǎn)生產(chǎn)水。

 一些溶解固體，如硅、鋇、鍶、或鈣和鎂，如果和碳酸鹽硫 酸鹽根等陰離子同時(shí)存在，將比其它溶解固體更能限制RO裝置的回收率，這是由他們在水中溶解度的限制引起的。例如，進(jìn)水中的硅（二氧化硅）通常是RO回收率的限制因素，因?yàn)楫?dāng)濃度達(dá)到100– 120  ppm時(shí)，硅(二氧化硅)將會從溶液中析出。這也就是說，如果進(jìn)水SiO2含量達(dá)到30  ppm，那么產(chǎn)水回收率應(yīng)控制在75%以下，因?yàn)檫@種回收率情況下，SiO2的濃度將濃縮4倍，導(dǎo)致RO濃水中硅的濃度大約為120 ppm，即其溶解度的上限值。如果試圖回收80%的水，SiO2的濃度將濃縮至進(jìn)水濃度的5倍，也就是說，SiO2的濃度大約在150 ppm左右，SiO2將開始沉淀，并對膜的表面造成污染。新型阻垢劑的開發(fā)可以幫助提高部分系統(tǒng)回收率。 反滲透膜陶氏膜規(guī)格

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