天津?qū)I(yè)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家專(zhuān)業(yè)

(1) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2) 西門(mén)子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保原裝進(jìn)口。天津?qū)I(yè)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家專(zhuān)業(yè)

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線(xiàn)環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下：

1．準(zhǔn)備

   1）關(guān)閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運(yùn)行，確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉(zhuǎn)換鈕轉(zhuǎn)到“關(guān)閉”位置。

   2）關(guān)閉下列閥門(mén)：原水進(jìn)水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進(jìn)出口閥。

   3）將清洗水箱和相關(guān)的清洗管道清洗干凈。

   4）連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線(xiàn)直接連接到清洗水箱上。把原水進(jìn)水、濃水進(jìn)水清洗管線(xiàn)連接到EDI系統(tǒng)的原水進(jìn)水和濃水進(jìn)水清洗接口上。注意清洗管線(xiàn)必須牢固、緊密，以防止化學(xué)藥品的噴濺。

美國(guó)西門(mén)子（IONPURE）EDI模塊工作主要有三個(gè)過(guò)程：

     a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

     b. 被交換的離子受電性吸引作用，陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽(yáng)離子無(wú)法穿過(guò)陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無(wú)法穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽(yáng)離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來(lái)的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保規(guī)格齊全。

美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊在運(yùn)行過(guò)程中存在一個(gè)平衡狀態(tài),即:進(jìn)離子總數(shù)＝出離子總數(shù),宏觀表現(xiàn)就是３個(gè)工作區(qū)間相對(duì)穩(wěn)定,不發(fā)生上下移動(dòng)。如果模塊的工作條件發(fā)生變化,則需要比較長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)達(dá)到平衡狀態(tài)。

     美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)在運(yùn)行中可調(diào)因素大致有進(jìn)水流量、濃水流量、電壓等。

     進(jìn)水流量增加,模塊的工作壓力也相應(yīng)增加,如果超過(guò)模塊的處理范圍,出水水質(zhì)會(huì)***變差。所以當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較高時(shí),適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)進(jìn)水的流量是必需的。當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較小時(shí),也可以在美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)壓力允許的范圍內(nèi)增加進(jìn)水的流量,以提高產(chǎn)水的效率。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保免費(fèi)咨詢(xún)。江蘇正規(guī)美國(guó)IONPURE EDI模塊銷(xiāo)售電話(huà)

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(3) 西門(mén)子EDI模塊，濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

     EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹(shù)脂，過(guò)高的濁度、污染指 數(shù)會(huì)使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。

(4) 西門(mén)子EDI模塊，硬度的影響。

     如果西門(mén)子EDI模塊中進(jìn)水的殘存硬度太高，會(huì)導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴(yán)重時(shí)會(huì)堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。

(5) 西門(mén)子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。

     進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。 天津?qū)I(yè)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家專(zhuān)業(yè)

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