天津原裝美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

美國西門子（IONPURE）EDI模塊工作主要有三個(gè)過程：

     a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

     b. 被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保免費(fèi)咨詢。天津原裝美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

美國Ionpure EDI模塊混床在運(yùn)行過程中，其內(nèi)部的樹脂分為飽和區(qū)，交換區(qū)，新生區(qū)。飽和區(qū)的樹脂已經(jīng)被離子飽和，不再具有從進(jìn)水中交換離子的功能；交換區(qū)的樹脂處于部分飽和狀態(tài)，離子交換主要在交換區(qū)完成；新生區(qū)的樹脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運(yùn)行，飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動(dòng)，新生區(qū)的空間將減少，直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證，而新生區(qū)被穿透的時(shí)候，也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降，混床是需要用藥品再生。浙江美國IONPURE EDI模塊供貨商美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保原裝進(jìn)口。

(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。

西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境：應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進(jìn)水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進(jìn)水溫度

45℃(113?F)

名義流量時(shí)的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進(jìn)水條件 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量保證。

IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達(dá)到了高流量的工業(yè)化要求－不僅在電子工業(yè)，而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域，這些系統(tǒng)提供的流量可達(dá)2000gpm及以上。事實(shí)上，由于***技術(shù)的開發(fā)，EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素，而不是EDI系統(tǒng)的自身。

二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡化了運(yùn)行操作，降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會(huì)得到進(jìn)一步的提高。 購買請(qǐng)美國IONPURE EDI模塊咨詢上海純超環(huán)保。浙江廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊量大從優(yōu)

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    根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1．

  清洗時(shí)，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

***步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

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