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二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡(jiǎn)化了運(yùn)行操作，降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會(huì)得到進(jìn)一步的提高。

  將來會(huì)如何變化？我們會(huì)看到在所有的工業(yè)單元中降低對(duì)化學(xué)藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A(yù)計(jì)，在3到5年的時(shí)間內(nèi)，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會(huì)采用RO／EDI系統(tǒng)，剩余15％的部分則是應(yīng)用在預(yù)處理的費(fèi)用較高或者不能抵消非化學(xué)方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場(chǎng)合。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現(xiàn)在已完全確立了其市場(chǎng)地位，而且獲得了工業(yè)界的***接受，此項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展將取決于工業(yè)界對(duì)采用非化學(xué)方法制取純水的不斷需求。

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4、西門子（IONPURE）EDI模塊，降低運(yùn)行成本。EDI設(shè)備運(yùn)行只需要消耗電力，而混床技術(shù)還需要酸堿。所以DEI超純水設(shè)備節(jié)約酸堿降低了運(yùn)行的成本。

  5、西門子（IONPURE）EDI模塊，操作更加的簡(jiǎn)單，只需要調(diào)節(jié)電源的電壓、電流、實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)的控制。

  6、西門子（IONPURE）EDI模塊，出水水質(zhì)好，并且延長了設(shè)備的使用壽命。

  7、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備占地小，廠房高度要求低，3米足夠。

  8、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備安裝維修簡(jiǎn)單便捷，任一膜塊的維修、更換都不影響其他膜塊的運(yùn)行。

  9、西門子（IONPURE）EDI模塊，總投資少，EDI雖然本身價(jià)位高，但是節(jié)省了廠房用地成本，節(jié)省了運(yùn)行成本?？傮w降低了總投資費(fèi)用。 北京進(jìn)口美國IONPURE EDI模塊廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊請(qǐng)使用正規(guī)產(chǎn)品。

影響ionpureEDI模塊性能的主要污染物有二氧化碳、懸浮顆粒及膠體等，這些污染物會(huì)帶來以下危害：

  1、氧化劑：給水中的氧化劑會(huì)氧化樹脂和離子交換膜，并導(dǎo)致樹脂和膜的降解從而降低交換容量和選擇透過性能。氧化還會(huì)引起樹脂裂解，造成進(jìn)出水壓力降上升，膜堆壽命縮短。

  2、活性金屬：很低濃度的活性金屬即可以催化氧化交換樹脂和膜，并可被大量樹脂和膜吸附使其交換能力下降，使樹脂和膜的離子傳導(dǎo)作用減弱，從而造成ionpureEDI模塊性能衰減。

  3、懸浮顆粒和膠體：顆粒和膠體物質(zhì)可以用污染指 數(shù)值表征。水中的懸浮顆粒和膠體物質(zhì)會(huì)對(duì)樹脂及膜形成污染，并造成ionpureEDI模塊內(nèi)部流道的堵塞，使膜堆給水壓力升高。

如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會(huì)更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動(dòng),直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會(huì)發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會(huì)向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動(dòng),表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實(shí)現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動(dòng)來解釋。

     濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對(duì)于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對(duì)去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會(huì)飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保量大從優(yōu)。

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí)，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、IONPUREEDI模塊進(jìn)水前無保安濾器，或安裝時(shí)沒有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無效。

  7、出廠時(shí)產(chǎn)品不合格，使用一段時(shí)間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報(bào)價(jià)。山東原裝美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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