西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊是專(zhuān)門(mén)為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水,而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。
西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境:應(yīng)安裝在室內(nèi),避免陽(yáng)光直射,室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃(95oF)。
典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率
90-95%
比較大允許進(jìn)水壓力
7bar(100psi)
比較高允許進(jìn)水溫度
45℃(113?F)
名義流量時(shí)的壓降范圍
1.4-2.1bar(20-30psi)
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率
>16M?.cm (見(jiàn)下面說(shuō)明)
說(shuō)明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定
硅(SiO2)去除率
90-99%,取決于進(jìn)水條件 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保信譽(yù)保證。山東全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊量大從優(yōu)
EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式
?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)
?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)
步驟
注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。
?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
?步驟 2.
a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求)??傮w來(lái)說(shuō),濃水為已用水按1:100的比例稀釋過(guò)。
? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)
氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))
批發(fā)美國(guó)IONPURE EDI模塊供貨商美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。
美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點(diǎn):
1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料;
2、膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜;
3、采用進(jìn)口EDI**均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)EDI**均粒樹(shù)脂;
4、美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù);
5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成;
6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件;
7、出廠比較高試壓7bar不漏水;
8、電阻低、功耗小;
9、美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí);
10、比較大膜堆處理水量3T/H,** 小模堆處理水量75L/H;
11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理,不易堵塞,水流分布均勻、無(wú)死角。
(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。
在相同的操作電流下,隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小,出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大,導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng),極限電流增大,產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。
(2)工作電壓-電流的影響。
工作電流增大,產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流,由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多,除用于再生樹(shù)脂外,大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電,同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴(kuò)散,結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售。
如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹(shù)脂會(huì)更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動(dòng),直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過(guò)程中,出水電導(dǎo)會(huì)發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會(huì)向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動(dòng),表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過(guò)出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來(lái)實(shí)現(xiàn),并可以通過(guò)工作區(qū)間的移動(dòng)來(lái)解釋。
濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對(duì)于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對(duì)去除弱電離子Si也有一定關(guān)系。由于Si在25℃,pH值是6~8的水體中的溶解度是120mg/L。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Si在濃水中就會(huì)飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保按客戶的需求發(fā)貨。北京供應(yīng)美國(guó)IONPURE EDI模塊的特點(diǎn)
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美國(guó)Ionpure EDI模塊混床在運(yùn)行過(guò)程中,其內(nèi)部的樹(shù)脂分為飽和區(qū),交換區(qū),新生區(qū)。飽和區(qū)的樹(shù)脂已經(jīng)被離子飽和,不再具有從進(jìn)水中交換離子的功能;交換區(qū)的樹(shù)脂處于部分飽和狀態(tài),離子交換主要在交換區(qū)完成;新生區(qū)的樹(shù)脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運(yùn)行,飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動(dòng),新生區(qū)的空間將減少,直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證,而新生區(qū)被穿透的時(shí)候,也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降,混床是需要用藥品再生。山東全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊量大從優(yōu)
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