石家莊正規(guī)美國IONPURE EDI模塊廠家供應

來源: 發(fā)布時間:2023-01-30

EDI(Electro-de-ionization)是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術(電滲析技術)相結合的純水制造技術。該技術利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H和OH離子實現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學藥劑再生的缺 陷,是20世紀80年代以來逐漸興起的新技術。經(jīng)過十幾年的發(fā)展, 美國ionpureLXM45ZEDI模塊技術已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當部分的超純水市場。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務放心可靠。石家莊正規(guī)美國IONPURE EDI模塊廠家供應

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美國西門子(IONPURE)EDI模塊在運行過程中,樹脂分為交換區(qū)和新生區(qū),在運行過程中,雖然樹脂不斷進行離子交換,但電流連續(xù)不斷地使離子再生,從而形成了一種動態(tài)平衡;美國GEEDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū);這樣,美國GEEDI模塊內(nèi)的樹脂也就不再需要化學藥品的再生,  且其產(chǎn)水品質也得到了***的保證。

     美國西門子(IONPURE)EDI模塊由陰/陽離子交換膜,混床樹脂,淡/濃水室和陰/陽電極構成。

     美國西門子(IONPURE)EDI模塊技術將電滲析和離子交換技術完美的結合在一起。 原裝美國IONPURE EDI模塊廠家報價美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保指導安裝。

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美國ionpure LXM45ZEDI模塊裝置包括陰/陽離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源等設備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過,不允許陽離子通過,而陽離子交換膜只允許陽離子透過,不允許陰離子通過。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個處理單元,并構成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰陽電極形成電場。來水水流流經(jīng)淡水室,水中的陰 陽離子在電場作用下通過陰陽離子交換膜被***,進入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂**地提高了離子被***的速度。同時,水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對離子交換樹脂進行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持比較好狀態(tài)。

2.酸洗

   1)配制2.0%鹽酸溶液:將1200LRO水沖入清洗水箱中,緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸,邊加邊攪拌均勻(可啟動清洗泵循環(huán)攪拌)。

   2)檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后,啟動清洗泵運行30分鐘,運行流量和壓力為正常運行狀態(tài),最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。

   3)沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液,并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。

3.消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水,緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液,配制0.2%的H2O2溶液,用清洗泵自循環(huán)10分鐘,使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎來電。

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(3) 西門子EDI模塊,濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

     EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂,過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞,造成系統(tǒng)壓差上升,產(chǎn)水量下降。


(4) 西門子EDI模塊,硬度的影響。

     如果西門子EDI模塊中進水的殘存硬度太高,會導致濃縮水通道的膜表面結垢,濃水流量下降,產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質,嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道,導致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。


(5) 西門子EDI模塊,TOC(總有機碳)的影響。

     進水中如果有機物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染,導致系統(tǒng)運行電壓上升,產(chǎn)水水質下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體,堵塞通道。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質量服務。石家莊正規(guī)美國IONPURE EDI模塊廠家供應

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式


  ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)


  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)


步驟


  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。


  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)


  ?步驟 2.


  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)



  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)



  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)


  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求)??傮w來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。




  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)


  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))


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