安徽廠(chǎng)家直供美國(guó)IONPURE EDI模塊價(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-03

    根據(jù)美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài),EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來(lái)清洗EDI模塊。

1.

  清洗時(shí),EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI,從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。(正洗)

2.

***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液,循環(huán)30分鐘。

      沖洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,將水箱中水沖洗至中性,然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步:堿洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。


美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保指導(dǎo)安裝。安徽廠(chǎng)家直供美國(guó)IONPURE EDI模塊價(jià)格

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(1) 西門(mén)子EDI模塊,進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下,隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小,出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大,導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng),極限電流增大,產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。



(2) 西門(mén)子EDI模塊,工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大,產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流,由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多,除用于再生樹(shù)脂外,大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電,同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴(kuò)散,結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 安徽廠(chǎng)家直供美國(guó)IONPURE EDI模塊價(jià)格美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷(xiāo)多年。

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化學(xué)物質(zhì)使用 ● 系統(tǒng)不需注入 水循環(huán), 完全毋需使用化學(xué)物質(zhì) ● 在濃縮水層運(yùn)用**分層式樹(shù)脂排列技術(shù)來(lái)降低膜組電阻值 ● 濃縮水之電導(dǎo)度通常會(huì)介于20-100μS/cm 控制難易度 ● 原水流入濃縮水層后直接回收, 毋需使用循環(huán)泵浦 ● 配管極為簡(jiǎn)易, *有3支配管(進(jìn)水管, 產(chǎn)品水出水管及濃縮水出水管) ● 無(wú)循環(huán)泵浦控制電盤(pán) ● 只需利用電源開(kāi)關(guān)ON/OFF控制即可, 毋需使用PLC程控 ● 配管及控制簡(jiǎn)易, 大幅下降整體設(shè)置及維護(hù)成本 回收率 ● 濃縮水之水質(zhì)優(yōu)于原水許多(電導(dǎo)度通常介于20-100μS/cm) ● 可回收至RO前繼續(xù)使用 其它優(yōu)勢(shì) ● 不需注入鹽水循環(huán), 因此不會(huì)在陽(yáng)極產(chǎn)生任何氯氣(Chlorine)破壞膜塊內(nèi)膜片 ● **膜塊電源控制, 單一膜塊需維護(hù)或故障時(shí)不影響其它膜塊組運(yùn)轉(zhuǎn) ● 另有高溫**膜塊可供選用

西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊是專(zhuān)門(mén)為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水,而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

   西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境:應(yīng)安裝在室內(nèi),避免陽(yáng)光直射,室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃(95oF)。






                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進(jìn)水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進(jìn)水溫度

45℃(113?F)

名義流量時(shí)的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見(jiàn)下面說(shuō)明)

說(shuō)明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%,取決于進(jìn)水條件 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保按客戶(hù)的需求發(fā)貨。

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美國(guó)西門(mén)子(IONPURE)EDI模塊工作主要有三個(gè)過(guò)程:

     a.  淡水進(jìn)入淡水室后,淡水中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生交換,從而從水中脫離;

     b. 被交換的離子受電性吸引作用,陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移,陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移,并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后,由于陽(yáng)離子無(wú)法穿過(guò)陰離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無(wú)法穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽(yáng)離子將隨濃水流被排出模塊;此外,由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除,那么淡水的純度將不斷提高,在由模塊出來(lái)的時(shí)候,其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售。天津零售美國(guó)IONPURE EDI模塊供貨商

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清洗 隨著工作時(shí)間的累積,需要對(duì)美國(guó)Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒,這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi); - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢(例如,硅); - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢; - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢; - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國(guó)Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒,消毒說(shuō)明將同時(shí)提供給用戶(hù)。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。安徽廠(chǎng)家直供美國(guó)IONPURE EDI模塊價(jià)格

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