美國ionpure edi模塊的進水指標要求: ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水 ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。 ◎電導率:<40μS/cm。 ◎PH:6.0~9.0。當總硬度低于0.1ppm時,edi比較好工作的pH范圍為8.0~9.0。 ◎溫度:5~35℃。 ◎進水壓力:<4bar(60psi)。 ◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。 ◎有機物(TOC):<0.5ppm。 ◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。 ◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。 ◎H2S:<0.01ppm。 ◎二氧化硅:<0.5ppm。 ◎色度:<5APHA。 ◎二氧化碳的總量:<10ppm。 ◎ SDI 15min:<1.0。上海純超環(huán)保出售原裝進口美國IONPURE EDI模塊。批發(fā)美國IONPURE EDI模塊推薦廠家
美國IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學再生,可連續(xù)運行,進而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下:
美國IONPUREIP-LXM30Z模塊的凈水基本過程
·連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定
·容易實現(xiàn)全自動控制
·無須用酸堿再生
·不會因再生而停機
·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施
·產(chǎn)水率高(可達95%)
·無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設(shè)施
·占地面積小
·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿
·降低運行及維護成本
·設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施
·安裝簡單、費用低廉
·設(shè)備初投資大 天津批發(fā)美國IONPURE EDI模塊推薦廠家美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號出售。
美國ionpureEDI模塊的進水指標:
◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水
◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。
◎電導率:<40μS/cm
◎PH:6.0~9.0。當總硬度低于0.1ppm時,EDI最 佳工作的pH范圍為8.0~9.0。
◎溫度:5~35℃。
◎進水壓力:<4bar(60psi)。
◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。
◎有機物(TOC):<0.5ppm。
◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。
◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。
◎H2S:<0.01ppm。
◎二氧化硅:<0.5ppm。
◎色度:<5APHA。
◎二氧化碳的總量:<10ppm。
◎ SDI15min:<1.0。
EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式
?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)
?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)
步驟
注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。
?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
?步驟 2.
a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求)??傮w來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。
? (僅按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)
氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))
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美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況:
1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流,小流量運行,積聚的熱量得不到散發(fā),造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,水質(zhì)和水量都不同程度的下降。
2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢,進出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電壓上升,電流無法調(diào)節(jié),最終無法使用。
3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護,EDI的膜片和通道滋生有機物,進出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電壓上升,電流無法調(diào)節(jié),最終無法使用。
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離子進入濃水室后,由于陽離子無法穿過陰離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無法穿過陽離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊;此外,由于進水中的離子被不斷地去除,那么淡水的純度將不斷提高,在由模塊出來的時候,其純度可以達到接近理論純水的水平。
c. 水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。
過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程,這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。
淡水可從模塊底部進入淡水室,從頂部出來;淡水也可從模塊頂部進入模塊,則從模塊底部出來;極水的進水與淡水進水同為一水流,只是分別進入不同的室(極水室和濃水室),并從模塊頂部排出。
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