四川廠家供應(yīng)模塊種類

西門子模塊，到目前為止，擁有EDI領(lǐng)域的**75項以上。以其在各方面超前的技術(shù)、優(yōu)異的產(chǎn)品性能，被國際、國內(nèi)**公司廣泛應(yīng)用于電力、電子、化工、醫(yī)藥等各個行業(yè)。

西門子模塊系統(tǒng)特點：

  1、西門子模塊的系統(tǒng)無濃水循環(huán)不須加鹽，無極水排放，結(jié)構(gòu)簡單；

  2、西門子模塊的智能化整流電源充分發(fā)揮模塊技術(shù)性能，安全可靠；

  3、西門子模塊的濃水樹脂**技術(shù)提高離子遷移速度，系統(tǒng)能耗?。?

  4、西門子模塊的淡水樹脂分層技術(shù)使非導(dǎo)電離子遷移，出水品質(zhì)高；

  5、西門子模塊的成熟的回流技術(shù)減小前段波動影響，出水品質(zhì)穩(wěn)定；

  6、西門子模塊的大通道隔板和**的樹脂處理技術(shù)，抗污染能力強(qiáng)；

  7、西門子模塊的豐富的現(xiàn)場經(jīng)驗優(yōu)化管道布置技巧，便于使用維護(hù)；

  8、西門子模塊的特殊的密封工藝和優(yōu)良的膜性能，延長了使用壽命；

  9、西門子模塊的標(biāo)準(zhǔn)化的規(guī)范工藝，降低設(shè)備維護(hù)和人員培訓(xùn)成本。

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(1) 西門子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 上海銷售模塊種類模塊上海純超環(huán)保滿足客戶的不同需求。

美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況：

   1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流，小流量運(yùn)行，積聚的熱量得不到散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量都不同程度的下降。

   2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，**終無法使用。

    3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機(jī)沒有保護(hù)，EDI的膜片和通道滋生有機(jī)物，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無法調(diào)節(jié)，**終無法使用。

如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

    濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 模塊上海純超環(huán)保歡迎選購。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

 ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

 ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 2.

 a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

 b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

 c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

 ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

 ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

模塊上海純超環(huán)保廠家供應(yīng)。四川廠家供應(yīng)模塊種類

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運(yùn)用技術(shù)編輯 GEEDI模塊采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+&Mg2+攜帶電流的機(jī)會，降低Ca2+&Mg2+流動通量、降低結(jié)垢的速率;次要影響是增加濃水室的離子強(qiáng)度，增加對垢類的溶解、降低垢類形成的機(jī)會。因此，具有產(chǎn)水量高、產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定、性能可控性強(qiáng)、低能耗的特點。 　　GEEDI模塊常與RO連用,構(gòu)成RO-EDI純水系統(tǒng)。EDI已設(shè)計成標(biāo)準(zhǔn)模塊,EDI單元就是由若干模塊組合而成。每個GEEDI模塊有數(shù)個雙腔室夾在兩個電極(加直流電)之間,呈層疊式板框結(jié)構(gòu);雙腔室包括淡水腔(用D表示)和濃水腔(用C表示);二腔之間隔以一對陰、陽離子膜(亦稱陰向膜或陽向膜),陰、陽膜間裝填陰陽樹脂混合床構(gòu)成D室;該陰、陽膜分別與另一D室中的陽、陰膜間構(gòu)成C室。四川廠家供應(yīng)模塊種類

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