北京廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊型號

IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達到了高流量的工業(yè)化要求－不僅在電子工業(yè)，而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域，這些系統(tǒng)提供的流量可達2000gpm及以上。事實上，由于***技術(shù)的開發(fā)，EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素，而不是EDI系統(tǒng)的自身。

二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡化了運行操作，降低了總的固定投資費用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟性將會得到進一步的提高。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。北京廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊型號

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。

美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置將給水分成三股**的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為**終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

   美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(ＲＯ)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、ＥＤＩ裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。ＥＤＩ裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反滲透裝置完全可以滿足要求。ＥＤＩ裝置可生產(chǎn)電阻率高達15ＭΩ·ｃｍ以上的超純水。 上海純超環(huán)保出售質(zhì)量美國IONPURE EDI模塊。

(3)濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

   EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。

(4)硬度的影響。

  如果IONPUREEDI模塊中進水的殘存硬度太高，會導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴(yán)重時會堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。

(5) TOC(總有機碳)的影響。

  進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體，堵塞通道。

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美國西門子（IONPURE）EDI模塊在運行過程中，樹脂分為交換區(qū)和新生區(qū)，在運行過程中，雖然樹脂不斷進行離子交換，但電流連續(xù)不斷地使離子再生，從而形成了一種動態(tài)平衡；美國GEEDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū)；這樣，美國GEEDI模塊內(nèi)的樹脂也就不再需要化學(xué)藥品的再生，  且其產(chǎn)水品質(zhì)也得到了***的保證。

     美國西門子（IONPURE）EDI模塊由陰/陽離子交換膜，混床樹脂，淡/濃水室和陰/陽電極構(gòu)成。

     美國西門子（IONPURE）EDI模塊技術(shù)將電滲析和離子交換技術(shù)完美的結(jié)合在一起。 北京廠家供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊型號

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