上海市優(yōu)良四氟化碳高性?xún)r(jià)比的選擇

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-08

 四氟化碳有  制冷、氣體絕緣、干蝕刻氣、氟化劑、表面處理劑、激光氣體泄漏檢驗(yàn)劑等用途。四氟化碳為非腐蝕性氣體,所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅,鋁等金屬材料都可以使用,但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫,一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下:因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。    可以用聚四氟乙烯,環(huán)氧樹(shù)脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷?,有水和空氣時(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用,但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。四氟化碳不燃燒,有低毒性和窒息性。上海市優(yōu)良四氟化碳高性?xún)r(jià)比的選擇

    氫氟甲烷氟化法是一種適合工業(yè)化推廣的生產(chǎn)四氟化碳的方法,它具有工藝簡(jiǎn)單、不需使用催化劑、四氟化碳的收率和純度高等優(yōu)點(diǎn)。但目前作為原料的氫氟甲烷的價(jià)格相對(duì)較高,限制了工業(yè)化裝置的規(guī)模。四氟化碳早就是通過(guò)氟碳直接反應(yīng)法制得的,該方法經(jīng)過(guò)不斷的發(fā)展與完善,如今已成為工業(yè)上制備全氟烷的主要的方法之一。以四氟化碳作為表示的全氟烷廣用作微電子行業(yè)中的等離子體蝕刻氣體,近年來(lái)世界需求量日益擴(kuò)大,市場(chǎng)看好,國(guó)外大公司紛紛擴(kuò)大其產(chǎn)能。 蘇州原裝四氟化碳廠(chǎng)家哪家好四氟化碳又稱(chēng)四氟甲烷,被視為一種無(wú)機(jī)化合物。

R-14商品名稱(chēng)Reflube14。R-14屬于FC類(lèi)物質(zhì)——對(duì)臭氧層沒(méi)有破壞、但存在溫室效應(yīng);目前對(duì)于R14制冷劑的生產(chǎn)、銷(xiāo)售以及在新制冷設(shè)備上的初裝、售后設(shè)備上的再添加均沒(méi)有限制。四氟化碳(四氟甲烷/全氟甲烷)CF4R-14制冷劑,別名R14、氟利昂14、PFC-14,商品名稱(chēng)有Freon14等,中文名稱(chēng)四氟化碳、四氟甲烷,英文名稱(chēng)CarbonTetrafluorideorTetrafluoromethane,化學(xué)式CF4,產(chǎn)品用途R-14作為一款特種**溫制冷劑,主要應(yīng)用于要求溫度非常低的深冷設(shè)備中(包括科研制冷、醫(yī)用制冷等),R14同時(shí)也是**溫配合冷媒的重要組分。四氟化碳(四氟甲烷)是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟甲烷高純氣配高純氧氣的混合氣,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、泄漏檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。

隆鑫氣體自2011年成功實(shí)現(xiàn)高純六氟乙烷的進(jìn)口替代之后,每年都會(huì)有新產(chǎn)品研發(fā)成功,2014年有6款新產(chǎn)品研發(fā)成功,近幾年保持每年研發(fā)推出2-3種新氣體的節(jié)奏,從產(chǎn)品突破到實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)一般需要1-2年的時(shí)間。公司現(xiàn)有特種氣體產(chǎn)品230余種,其中高純四氟化碳、高純六氟乙烷、光刻氣、高純二氧化碳、高純一氧化碳、高純氨、高純一氧化氮等近20種產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)集成電路、顯示面板等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了進(jìn)口替代,目前已經(jīng)成為國(guó)內(nèi)電子氣體的公司。二氧化碳爆破始于二十世紀(jì)五十年代,八十年代在美國(guó)開(kāi)始發(fā)展,主要是想避免因爆破產(chǎn)生火焰引起的事故而專(zhuān)門(mén)為高瓦斯礦井的采煤工作面研發(fā)的。2015年,隨著科技的發(fā)展,國(guó)內(nèi)二氧化碳爆破器材廠(chǎng)商逐步涌現(xiàn)(主要部件仍然依靠進(jìn)口,國(guó)產(chǎn)故障率略高) ,但當(dāng)前其成熟度不足,仍處在不斷成長(zhǎng)和發(fā)展階段。


如在泄漏時(shí),應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處,并進(jìn)行隔離,嚴(yán)格限制出入。

    四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體,用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng),CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超凈、多品種、多規(guī)模,各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)的發(fā)展,越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言,CF4以其相對(duì)低廉的價(jià)格長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體的市場(chǎng),因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?四氟化碳,又稱(chēng)為四氟甲烷。上海市***四氟化碳哪里有

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體。上海市優(yōu)良四氟化碳高性?xún)r(jià)比的選擇

    四氟化碳的合成方法:由碳與氟反應(yīng),或一氧化碳與氟反應(yīng),或碳化硅與氟反應(yīng),或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng),或二氟二氯甲烷與氟化氫反應(yīng),或四氯化碳與氟化銀反應(yīng),或四氯化碳與氟化氫反應(yīng),都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進(jìn)行,反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體,再通過(guò)冷凍,用硅膠除去氣體中的水分,經(jīng)精餾而得成品;預(yù)先稱(chēng)取5~10g的碳化硅粉末和,置于鎳盤(pán)中,使硅和碳化硅充分接觸后,將鎳盤(pán)放入蒙乃爾合金反應(yīng)管中,向反應(yīng)管內(nèi)通入氟氣,氟氣先和單質(zhì)硅反應(yīng),反應(yīng)放熱后,氟開(kāi)始和碳化硅進(jìn)行反應(yīng),通入等體積的干燥氮?dú)庖韵♂尫鷼猓狗磻?yīng)繼續(xù)進(jìn)行,生成氣體通過(guò)液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝,然后慢慢地氣化后,將其通過(guò)裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅,隨后通過(guò)硅膠和五氧化二磷干燥塔得到產(chǎn)品;以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。在裝有活性炭的反應(yīng)爐中,緩緩?fù)ㄈ敫邼夥鷼?,并通過(guò)加熱器加熱、供氟速率和反應(yīng)爐冷卻控制反應(yīng)溫度。產(chǎn)品經(jīng)除塵,堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質(zhì)、再經(jīng)脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進(jìn)行間歇粗餾,通過(guò)控制精餾溫度,除去O2、N2、H2,得到高純CF4。 上海市優(yōu)良四氟化碳高性?xún)r(jià)比的選擇

上海隆鑫工業(yè)氣體有限公司總部位于聯(lián)泰路63號(hào)3幢1023室,是一家主要服務(wù)于半導(dǎo)體、LED、太陽(yáng)能、石油化工、生物醫(yī)藥、高校、科研、電力、電子、船舶、煤礦、汽車(chē)、醫(yī)療、消防、航空航天、食品、建筑、冶煉、精細(xì)化工、加工制造等行業(yè)。上海隆鑫工業(yè)氣體有限公司成立于2015年,專(zhuān)業(yè)從事混合氣體、高純氣體、電子氣體、同位素氣體等產(chǎn)品的生產(chǎn)和銷(xiāo)售,并提供氣體管路配套工程服務(wù)。 的公司。公司自創(chuàng)立以來(lái),投身于超純氣,電子氣,標(biāo)準(zhǔn)氣,同位素氣體,是化工的主力軍。隆鑫致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對(duì)用戶(hù)產(chǎn)品上的貼心,為用戶(hù)帶來(lái)良好體驗(yàn)。隆鑫始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時(shí)代,對(duì)自身的建設(shè)毫不懈怠,高度的專(zhuān)注與執(zhí)著使隆鑫在行業(yè)的從容而自信。