四氟化碳有 制冷、氣體絕緣、干蝕刻氣、氟化劑、表面處理劑、激光氣體泄漏檢驗(yàn)劑等用途。四氟化碳為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。 可以用聚四氟乙烯，環(huán)氧樹脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷?，有水和空氣時(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用，但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。四氟化碳在被等離子清洗機(jī)電離后會(huì)產(chǎn)生含氫氟酸成分的刻蝕性氣相等離子體。揚(yáng)州優(yōu)良四氟化碳價(jià)格便宜
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無(wú)機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w，如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、有危險(xiǎn)。通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，可用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面都有著大量的應(yīng)用。 南京原裝四氟化碳高性價(jià)比的選擇四氟化碳是不燃性壓縮氣體。
CF4具有高的穩(wěn)定性，屬于完全不燃性氣體，常溫下不與酸、堿及氧化劑反應(yīng)，900℃以下不與Cu、Ni、W、Mo等過(guò)渡金屬反應(yīng)，1000℃不與碳、氫及CH4反應(yīng)。室溫下可與液氨-金屬鈉試劑反應(yīng)，高溫下CF4可與堿金屬、堿土金屬及SiO2反應(yīng)，生成相應(yīng)的氟化物。CF4在800℃下開始分解，CF4在電弧作用下可與CO和CO2反應(yīng)生成COF2，有人還試圖在碳弧溫度中使CF4聚合來(lái)合成其他碳氟化合物。由于C-F鍵的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，因此以CF4為表示的全氟烴可認(rèn)為是無(wú)毒的。CF4、C2F6和C3F8的全球變暖勢(shì)（GWP）的下限值分別為620、190和53，呈明顯下降趨勢(shì)，且遠(yuǎn)小于氯氟烴（CFC）、SF6和CO2。
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時(shí)，由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。人能不能再四氟化碳里面呼吸？
四氟化碳的注意事項(xiàng)有哪些？四氟化碳是不燃性壓縮氣體。儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)倉(cāng)間內(nèi)。倉(cāng)內(nèi)溫度不宜超過(guò)60℃。遠(yuǎn)離火種、熱源。防止陽(yáng)光直射。應(yīng)與易燃或可燃物分開存放。驗(yàn)收時(shí)要注意品名，注意驗(yàn)瓶日期，先進(jìn)倉(cāng)的先發(fā)用。搬運(yùn)四氟化碳時(shí)輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。泄漏時(shí)，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進(jìn)行隔離，嚴(yán)格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴(kuò)散。如有可能，即時(shí)使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗(yàn)后再用。 四氟化碳漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗(yàn)后再用。揚(yáng)州優(yōu)良四氟化碳高性價(jià)比的選擇
然而與可燃性氣體燃燒時(shí)，會(huì)分解產(chǎn)生氟化物。揚(yáng)州優(yōu)良四氟化碳價(jià)格便宜
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過(guò)程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過(guò)程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干.高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體是極大規(guī)模集成電路行業(yè)必須的清洗、蝕刻氣體。隨著極大規(guī)模集成電路技術(shù)的提升，芯片制程向14納米甚至7納米的邁進(jìn)，其對(duì)電子氣體的純度要求越來(lái)越高。為此，黎明院借助國(guó)家科技重大專項(xiàng)平臺(tái)，突破產(chǎn)物合成、精制提純、雜物分析、潔凈充裝等關(guān)鍵技術(shù)，攻克了高純度四氟化碳和六氟化硫制備過(guò)程中微量雜質(zhì)的純化、分析等技術(shù)難題， 揚(yáng)州優(yōu)良四氟化碳價(jià)格便宜
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