【光譜分光不良的具體情況】分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后方法正確,補(bǔ)救的成功率比較高中斷的原因形式不一： ①停電 ②機(jī)器故障 ③人為中斷(發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤、疑問(wèn)后中斷) 中斷后信息： （一）知道鍍到第幾層,已鍍各層的膜厚； （二）知道到第幾層,*后一層膜的膜厚不確定； （三）不知道鍍了多少。 光學(xué)鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障及解決方法。天津光學(xué)鍍膜設(shè)備招聘【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】： 光學(xué)薄膜基本上是借由...

【光學(xué)鍍膜技術(shù)的未來(lái)前景】我國(guó)的光學(xué)和光電子行業(yè)在產(chǎn)能擴(kuò)充和技術(shù)更替中需要大量的中高duan光學(xué)鍍膜機(jī)。而相關(guān)元器件研發(fā)過(guò)程中，及時(shí)的工藝創(chuàng)新和相應(yīng)的裝備支持也是整個(gè)行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的基石和可持續(xù)發(fā)展的基本戰(zhàn)略。 我國(guó)已在精密機(jī)械、真空技術(shù)、光電子技術(shù)和光機(jī)電自動(dòng)化控制等領(lǐng)域開(kāi)展了大量的研究工作，獲得了長(zhǎng)足的技術(shù)進(jìn)步，并形成了完善的產(chǎn)業(yè)集群，這些是研制高duan光學(xué)薄膜裝備的重要基礎(chǔ)。 如果光學(xué)鍍膜裝備領(lǐng)域能牽引光機(jī)電、真空機(jī)械、薄膜工藝等領(lǐng)域的協(xié)同創(chuàng)新，共同研制出屬于我們自己的高duan光學(xué)鍍膜機(jī)，將進(jìn)一步加速我國(guó)光學(xué)和光電子行業(yè)的發(fā)展。因此，也建議該領(lǐng)域能得到國(guó)家和地方更多的重視與投入。 光學(xué)...

【減反射的原理】光具有波粒二相性，即從微觀上既可以把它理解成一種波、又可以把他理解成一束高速運(yùn)動(dòng)的粒子增透膜的原理是把光當(dāng)成一種波來(lái)考慮的，因?yàn)楣獠ê蜋C(jī)械波一樣也具有干涉的性質(zhì)。在鏡頭前面涂上一層增透膜（一般是氟化鈣，微溶于水），如果膜的厚度等于紅光，在增透膜中波長(zhǎng)的四分之一時(shí)，那么在這層膜的兩側(cè)反射回去的紅光就會(huì)發(fā)生干涉，從而相互抵消，人們?cè)阽R頭前將看不到一點(diǎn)反光，因?yàn)檫@束紅光已經(jīng)全部穿過(guò)鏡頭了。 以簡(jiǎn)單的單層增透膜為例。設(shè)膜的厚度為 e ，當(dāng)光垂直入射時(shí)，薄膜兩表面反射光的光程差為 2ne，由于在膜的上、下表面反射時(shí)都有相位突變 ，結(jié)果沒(méi)有附加的相位差，兩反射光干涉相消時(shí)應(yīng)滿足：2ne=(...

【關(guān)于反射式濾光片】在手機(jī)領(lǐng)域另一個(gè)應(yīng)用較多的是紅外截止濾光片又稱IR-cut Filter。從原理分有反射式濾光片和吸收式濾光片兩種，它們采用了不同的玻璃基材。 反射式濾光片原理是在普通光學(xué)玻璃上交替鍍多層高折射率光學(xué)膜，達(dá)到可見(jiàn)光波段的高透（400-630nm），近紅外波段光線的截止（700-1100nm），截止部分干擾成像質(zhì)量的近紅外光，因?yàn)橥ㄟ^(guò)反射方式截止紅外光線，所以容易產(chǎn)生二次反射，產(chǎn)生雜光和鬼影。 吸收式濾光片主要以藍(lán)玻璃為基材，通過(guò)藍(lán)玻璃中光吸收物質(zhì)來(lái)過(guò)濾紅外光，同時(shí)通過(guò)一面鍍紅外截止膜，一面鍍?cè)鐾改?lái)同時(shí)提升紅外的截止性能和可見(jiàn)光的透過(guò)率，從下圖反射率對(duì)比圖可以看出藍(lán)玻璃...

【炫彩的搬運(yùn)工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復(fù)制模具，即可開(kāi)始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下： ---機(jī)臺(tái)上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據(jù)不同復(fù)制模具尺寸固定安裝模具（模具上有排列方式和紋路效果）； ---轉(zhuǎn)印設(shè)備的自動(dòng)滴膠噴嘴會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的用膠量預(yù)設(shè)好噴在模具上的光刻膠，膠層上面覆蓋菲林片（膜片）； ---機(jī)臺(tái)在完成覆蓋膜片工序后由人為確認(rèn)擺放位置，然后進(jìn)入到滾壓區(qū)，把膜片和膠水進(jìn)行滾壓； ---機(jī)臺(tái)進(jìn)入到固化區(qū)，由產(chǎn)品所需光固能量照射進(jìn)行固化； ---機(jī)臺(tái)旋轉(zhuǎn)到剝離區(qū)，把膜片進(jìn)行剝離； ...

【多層反射膜】在玻璃基板上交替重復(fù)地蒸鍍折射率較高的電介質(zhì)膜和折射率較低的電介質(zhì)膜時(shí)，可以得到反射率非常高的反射膜。高折射率和低折射率的分界面會(huì)產(chǎn)生很少的反射。由于每層的電介質(zhì)膜的厚度都調(diào)節(jié)為λ/4的光程(折射率n×膜厚d)，在各層上反射的光線的相位相同，反射將相互合成加強(qiáng)。相反，經(jīng)過(guò)多重反射向透過(guò)方向前進(jìn)的光線則相互抵消變?yōu)榱?。如果電介質(zhì)膜的層數(shù)足夠多，入射光線會(huì)逐漸減弱，變得幾乎不能透過(guò)。衰減的光線將全部轉(zhuǎn)為反射光。由于電解質(zhì)膜沒(méi)有吸收，入射的光線將沒(méi)有損失，成為100%的反射光。光學(xué)鍍膜設(shè)備怎么保養(yǎng)？浙江光學(xué)鍍膜設(shè)備招聘【光學(xué)薄膜的定義】 光學(xué)薄膜的定義是∶涉及光在傳播路徑過(guò)程中,附著在...

【鍍膜應(yīng)用及常用光學(xué)薄膜】 高反射膜在現(xiàn)代應(yīng)用很廣。激光器諧振腔的高反鏡就是在玻璃基片上鍍多層膜構(gòu)成的多膜系。利用增透和增反的原理制成的高反射率多層光學(xué)薄膜在激光器、激光陀螺和DWDM等都有著廣fan應(yīng)用。 干涉濾光片利用多光束干涉原理制成的一種從白光中過(guò)濾近單se光的多層膜系。類似于間隔很小的F-P標(biāo)準(zhǔn)具。PS：標(biāo)準(zhǔn)具：間隔固定不變的F-P干涉儀。 彩se分光膜在彩電和彩se印刷中，需要將光分成紅、綠、藍(lán)三原se。采用多層介質(zhì)膜可以制成可見(jiàn)光區(qū)域有選擇反射性能的濾光器。 紅外濾光片分為兩種情況，膜層反射可見(jiàn)光透過(guò)紅外光；膜層反射紅外光透過(guò)可見(jiàn)光。前者用于避免發(fā)熱的照明場(chǎng)合，后者可以用于放映機(jī)...

【如何改善由于設(shè)計(jì)膜系導(dǎo)致的光譜特性不良】膜系設(shè)計(jì)時(shí)的膜厚、折射率允差太小，試制時(shí)的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣，制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。膜系設(shè)計(jì)中選用膜料的折射率應(yīng)與使用膜料使用機(jī)臺(tái)吻合。膜系設(shè)計(jì)盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2%)，特別是敏感層，要有一定的允差(1%)?？刂坪穸扰c實(shí)際測(cè)試厚度的" tooling"值，要準(zhǔn)確,并經(jīng)常確認(rèn)調(diào)整。設(shè)計(jì)的技術(shù)要求必須高于圖紙?zhí)岢龅募夹g(shù)要求，設(shè)計(jì)時(shí)考慮基片變異層折射率變化帶來(lái)的影響，設(shè)計(jì)時(shí)考慮膜料的折射率変化及膜料之間、膜料與基片之間的匹配。光學(xué)鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。貴州光學(xué)鍍膜設(shè)備直銷【鍍膜應(yīng)用及常用光學(xué)薄膜】 高反射膜在...

【磁控濺射鍍光學(xué)膜的技術(shù)路線】 （a）陶瓷靶濺射：靶材采用金屬化合物靶材，可以直接沉積各種氧化物或者氮化物，有時(shí)候?yàn)榱说玫礁叩哪蛹兌?，也需要通入一定量反?yīng)氣體）； （b）反應(yīng)濺射：靶材采用金屬或非金屬靶，通入稀有和反應(yīng)氣體的混合氣體，進(jìn)行濺射沉積各種化合物膜層。 （c）離子輔助沉積：先沉積一層很薄的金屬或非金屬層，然后再引入反應(yīng)氣體離子源，將膜層進(jìn)行氧化或者氮化等。 采用以上三種技術(shù)方案，在濺射沉積光學(xué)膜時(shí)，都會(huì)存在靶中毒現(xiàn)象，從而導(dǎo)致膜層沉積速度非常慢，對(duì)于上節(jié)介紹各種光學(xué)膜來(lái)說(shuō)，膜層厚度較厚，膜層總厚度可達(dá)數(shù)百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本，從而限制了磁控濺射鍍膜在光學(xué)上的應(yīng)用。...

【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】： 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來(lái)改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會(huì)發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過(guò)薄膜后在光譜上會(huì)起變化，因此這些變化會(huì)使得光學(xué)薄膜至少具有下列功能： &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙se、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調(diào)整 &光電資訊的儲(chǔ)存及輸入國(guó)產(chǎn)光學(xué)鍍膜設(shè)備廠商推薦。天津光學(xué)鍍膜設(shè)備陽(yáng)臺(tái)【關(guān)于反射式濾光片】在手機(jī)領(lǐng)域另一個(gè)應(yīng)用較多的是紅外截止濾光片又稱IR...

【光學(xué)薄膜的應(yīng)用前景】光電信息產(chǎn)業(yè)中*有發(fā)展前景的通訊、顯示和存儲(chǔ)三大類產(chǎn)品都離不開(kāi)光學(xué)薄膜，如投影機(jī)、背投影電視機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、攝像機(jī)、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學(xué)薄膜的性能在很大程度上決定了這些產(chǎn)品的*終性能。光學(xué)薄膜正在突破傳統(tǒng)的范疇，越來(lái)越廣fan地滲透到從空間探測(cè)器、集成電路、生物芯片、激光器件、液晶顯示到集成光學(xué)等各學(xué)科領(lǐng)域中，對(duì)科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和全球經(jīng)濟(jì)的發(fā)展都起著重要的作用，研究光學(xué)薄膜物理特性及其技術(shù)已構(gòu)成現(xiàn)代科技的一個(gè)分支——薄膜光學(xué)。光學(xué)薄膜技術(shù)水平已成為衡量一個(gè)國(guó)家光電信息等高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)科技發(fā)展水平的關(guān)鍵技術(shù)之一。 增透減反AR膜，主要也是...

【光學(xué)鍍膜基本原理】光的干涉在薄膜光學(xué)中廣fan應(yīng)用：光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在材料基板上涂鍍薄膜，一般用來(lái)控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過(guò)率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)膜層的反射率和透過(guò)率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩se分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。錦成國(guó)泰光學(xué)鍍膜...

【如何清洗光學(xué)鍍膜機(jī)】設(shè)備使用一個(gè)星期后，因鍍料除鍍?cè)诠ぜ砻嫱?，亦因無(wú)定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍?cè)胶瘢搶幽ず褚蚪M織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來(lái)越慢。此時(shí)，應(yīng)對(duì)工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不必要拆落來(lái)的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里，氫氟酸和水的比例看需要浸泡時(shí)間長(zhǎng)短以及不傷襯板為原則。 因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。安裝襯板時(shí)，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子qiang及離子源輔助鍍膜，可能會(huì)造成清潔困難，可使用噴沙等方法...

【常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料】常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種： 1、氟化鎂材料特點(diǎn)：無(wú)se四方晶系粉末，純度高，用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過(guò)率，不出崩點(diǎn)。 2、二氧化硅材料特點(diǎn)：無(wú)se透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。 3、氧化鋯材料特點(diǎn) 白se重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點(diǎn) 光學(xué)鍍膜設(shè)備公司的排名。江西光學(xué)鍍膜設(shè)備行業(yè)【柵網(wǎng)型離子源的加速過(guò)程】柵網(wǎng)組件通過(guò)向每個(gè)柵網(wǎng)施加特定電壓以從放電室提取離子。首先，屏柵相對(duì)于地為正偏壓(束流電壓)，因...

【光學(xué)鍍膜技術(shù)的未來(lái)前景】我國(guó)的光學(xué)和光電子行業(yè)在產(chǎn)能擴(kuò)充和技術(shù)更替中需要大量的中高duan光學(xué)鍍膜機(jī)。而相關(guān)元器件研發(fā)過(guò)程中，及時(shí)的工藝創(chuàng)新和相應(yīng)的裝備支持也是整個(gè)行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的基石和可持續(xù)發(fā)展的基本戰(zhàn)略。 我國(guó)已在精密機(jī)械、真空技術(shù)、光電子技術(shù)和光機(jī)電自動(dòng)化控制等領(lǐng)域開(kāi)展了大量的研究工作，獲得了長(zhǎng)足的技術(shù)進(jìn)步，并形成了完善的產(chǎn)業(yè)集群，這些是研制高duan光學(xué)薄膜裝備的重要基礎(chǔ)。 如果光學(xué)鍍膜裝備領(lǐng)域能牽引光機(jī)電、真空機(jī)械、薄膜工藝等領(lǐng)域的協(xié)同創(chuàng)新，共同研制出屬于我們自己的高duan光學(xué)鍍膜機(jī)，將進(jìn)一步加速我國(guó)光學(xué)和光電子行業(yè)的發(fā)展。因此，也建議該領(lǐng)域能得到國(guó)家和地方更多的重視與投入。 光學(xué)...

【光學(xué)鍍膜基本原理】光的干涉在薄膜光學(xué)中廣fan應(yīng)用：光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在材料基板上涂鍍薄膜，一般用來(lái)控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過(guò)率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)膜層的反射率和透過(guò)率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩se分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。光學(xué)鍍膜設(shè)備日常...

【炫彩的搬運(yùn)工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復(fù)制模具，即可開(kāi)始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下： ---機(jī)臺(tái)上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據(jù)不同復(fù)制模具尺寸固定安裝模具（模具上有排列方式和紋路效果）； ---轉(zhuǎn)印設(shè)備的自動(dòng)滴膠噴嘴會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的用膠量預(yù)設(shè)好噴在模具上的光刻膠，膠層上面覆蓋菲林片（膜片）； ---機(jī)臺(tái)在完成覆蓋膜片工序后由人為確認(rèn)擺放位置，然后進(jìn)入到滾壓區(qū)，把膜片和膠水進(jìn)行滾壓； ---機(jī)臺(tái)進(jìn)入到固化區(qū)，由產(chǎn)品所需光固能量照射進(jìn)行固化； ---機(jī)臺(tái)旋轉(zhuǎn)到剝離區(qū)，把膜片進(jìn)行剝離； ...

【薄膜干涉原理之光的波動(dòng)性】19世紀(jì)60年代，美國(guó)物理學(xué)家麥克斯韋發(fā)展了電磁理論，指出光是一種電磁波，使波動(dòng)說(shuō)發(fā)展到了相當(dāng)完美的地步。 由光的波粒二象性可知，光同無(wú)線電波、X射線、一樣都是電磁波，只是它們的頻率不同。電磁波的波長(zhǎng)λ、頻率u和傳播速率V三者之間的關(guān)系為：V=λu 由于各種頻率的電磁波在真空中德傳播速度相等，所以頻率不同的電磁波，它們的波長(zhǎng)也就不同。頻率高的波長(zhǎng)短，頻率低的波長(zhǎng)長(zhǎng)。為了便于比較，可以按照無(wú)線電波、紅外線、可見(jiàn)光、紫外線、X射線和伽瑪射線等的波長(zhǎng)(或頻率)的大小，把它們依次排成一個(gè)譜，這個(gè)譜叫電磁波譜。 在電磁波譜中，波長(zhǎng)*長(zhǎng)的是無(wú)線電波，無(wú)線電波又因波長(zhǎng)的不同而...

【炫彩的搬運(yùn)工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復(fù)制模具，即可開(kāi)始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下： ---機(jī)臺(tái)上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據(jù)不同復(fù)制模具尺寸固定安裝模具（模具上有排列方式和紋路效果）； ---轉(zhuǎn)印設(shè)備的自動(dòng)滴膠噴嘴會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的用膠量預(yù)設(shè)好噴在模具上的光刻膠，膠層上面覆蓋菲林片（膜片）； ---機(jī)臺(tái)在完成覆蓋膜片工序后由人為確認(rèn)擺放位置，然后進(jìn)入到滾壓區(qū)，把膜片和膠水進(jìn)行滾壓； ---機(jī)臺(tái)進(jìn)入到固化區(qū)，由產(chǎn)品所需光固能量照射進(jìn)行固化； ---機(jī)臺(tái)旋轉(zhuǎn)到剝離區(qū)，把膜片進(jìn)行剝離； ...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法，其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中，水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過(guò)程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式，以具有3個(gè)濺射室的雙端機(jī)。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)主要有：①對(duì)靶材的面積和形狀不作要求，且可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好；②可用的膜材廣fan，只要能做成靶材的任何材料都可實(shí)現(xiàn)濺射，因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強(qiáng)，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產(chǎn)效率高。 紅外光學(xué)鍍膜設(shè)備制造商。重慶光學(xué)鍍膜設(shè)備直銷【關(guān)于反射式濾...

【多層反射膜】在玻璃基板上交替重復(fù)地蒸鍍折射率較高的電介質(zhì)膜和折射率較低的電介質(zhì)膜時(shí)，可以得到反射率非常高的反射膜。高折射率和低折射率的分界面會(huì)產(chǎn)生很少的反射。由于每層的電介質(zhì)膜的厚度都調(diào)節(jié)為λ/4的光程(折射率n×膜厚d)，在各層上反射的光線的相位相同，反射將相互合成加強(qiáng)。相反，經(jīng)過(guò)多重反射向透過(guò)方向前進(jìn)的光線則相互抵消變?yōu)榱恪Ｈ绻娊橘|(zhì)膜的層數(shù)足夠多，入射光線會(huì)逐漸減弱，變得幾乎不能透過(guò)。衰減的光線將全部轉(zhuǎn)為反射光。由于電解質(zhì)膜沒(méi)有吸收，入射的光線將沒(méi)有損失，成為100%的反射光。光學(xué)鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。四川二手光學(xué)鍍膜設(shè)備【光學(xué)炫彩紋理的關(guān)鍵先生——光刻膠】 光刻膠是指通過(guò)紫外光、準(zhǔn)分子激...

【光譜分光不良的補(bǔ)救處理】1.對(duì)于第（yi）種情況，比較好處理，只要確認(rèn)前面鍍的沒(méi)錯(cuò)，程序沒(méi)有用錯(cuò)，就可以繼續(xù)原來(lái)的程序，要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時(shí)，交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少，一般是0.2-1nm左右)，如果該層剩下的膜厚已不足15-20秒蒸鍍時(shí)，要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不鍍，通過(guò)后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。 2.對(duì)于第（二）（三）種情況的處理比較復(fù)雜一些 模擬:根據(jù)已經(jīng)實(shí)鍍的鏡片(測(cè)試比較片)實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值，再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優(yōu)化，模擬出實(shí)際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 測(cè)試比較片片是指隨鏡片-起鍍制(在傘片...

【磁控濺射鍍光學(xué)膜的技術(shù)路線】 （a）陶瓷靶濺射：靶材采用金屬化合物靶材，可以直接沉積各種氧化物或者氮化物，有時(shí)候?yàn)榱说玫礁叩哪蛹兌?，也需要通入一定量反?yīng)氣體）； （b）反應(yīng)濺射：靶材采用金屬或非金屬靶，通入稀有和反應(yīng)氣體的混合氣體，進(jìn)行濺射沉積各種化合物膜層。 （c）離子輔助沉積：先沉積一層很薄的金屬或非金屬層，然后再引入反應(yīng)氣體離子源，將膜層進(jìn)行氧化或者氮化等。 采用以上三種技術(shù)方案，在濺射沉積光學(xué)膜時(shí)，都會(huì)存在靶中毒現(xiàn)象，從而導(dǎo)致膜層沉積速度非常慢，對(duì)于上節(jié)介紹各種光學(xué)膜來(lái)說(shuō)，膜層厚度較厚，膜層總厚度可達(dá)數(shù)百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本，從而限制了磁控濺射鍍膜在光學(xué)上的應(yīng)用。...

【光學(xué)鍍膜加工需要注意什么】當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會(huì)被反射掉，在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線損失到達(dá)30%至40%?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá)95%，鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫se或是紅se，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠se或暗紫se。 光學(xué)鍍膜機(jī)增透膜增加透射光強(qiáng)度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播在過(guò)程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布，對(duì)于單層薄膜來(lái)說(shuō)，當(dāng)增透膜...

【霍爾離子源的工作原理】工作氣體或反應(yīng)氣體由陽(yáng)極底部進(jìn)入放電區(qū)內(nèi)參與放電，放電區(qū)內(nèi)由磁鐵產(chǎn)生如圖所示的錐形磁場(chǎng)，在放電區(qū)的上部安裝有補(bǔ)償或中和陰極。根據(jù)工作要求該型號(hào)離子源的工作氣體為氬氣，反應(yīng)氣體可以使用氮?dú)?、氧氣或碳?xì)涞榷喾N氣體。放電區(qū)上部陰極燈絲加熱后產(chǎn)生熱電子，當(dāng)離子源的陽(yáng)極施以正電位+U時(shí)，電子在電場(chǎng)作用下向陽(yáng)極運(yùn)動(dòng)，由于磁場(chǎng)的存在，電子繞磁力線以螺旋軟道前進(jìn)，與工作氣體或反應(yīng)氣體的原子發(fā)生碰撞使其離化。離子在霍爾電場(chǎng)的作用下被加速獲得相應(yīng)的能量，與燈絲熱陰極發(fā)射的部分熱電子形成近等離子體，由等離子體源發(fā)射出來(lái)與基片發(fā)生作用達(dá)到清洗和輔助鍍膜的目的。紅外光學(xué)鍍膜設(shè)備制造商。重慶旭日光...

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外，鏡頭的透過(guò)率對(duì)提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹(shù)脂作為鏡片基材，為了減少鏡片反射，提升透過(guò)率，我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜（減反膜），它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜，可在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下，光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會(huì)產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用，則在6個(gè)表面都會(huì)發(fā)生反射，實(shí)驗(yàn)測(cè)得，光通過(guò)透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二)，因此鍍?cè)鐾改た墒乖摴鈱W(xué)系統(tǒng)的透過(guò)率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對(duì)...

【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】： 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來(lái)改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會(huì)發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過(guò)薄膜后在光譜上會(huì)起變化，因此這些變化會(huì)使得光學(xué)薄膜至少具有下列功能： &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙se、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調(diào)整 &光電資訊的儲(chǔ)存及輸入離子光學(xué)鍍膜設(shè)備是什么？上海勝利光學(xué)鍍膜設(shè)備【常見(jiàn)的柵網(wǎng)材質(zhì)】常見(jiàn)的柵網(wǎng)材質(zhì)包括鉬柵網(wǎng)和石墨柵網(wǎng)：石墨柵網(wǎng)的腐蝕速度...

【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得第yi束光，折射光經(jīng)薄膜下表面反射，又經(jīng)上表面折射后得第二束光，這兩束光在薄膜的同側(cè)，由同一入射振動(dòng)分出，是相干光，屬分振幅干涉。若光源為擴(kuò)展光源(面光源)，則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉，故屬定域干涉。對(duì)兩表面互相平行的平面薄膜，干涉條紋定域在無(wú)窮遠(yuǎn)，通常借助于會(huì)聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對(duì)楔形薄膜，干涉條紋定域在薄膜附近。 實(shí)驗(yàn)和理論都證明，只有兩列光波具有一定關(guān)系時(shí)，才能產(chǎn)生干涉條紋，這些關(guān)系稱為相干條件。薄膜的想干條件包括三點(diǎn)： 兩束光波的頻率相同; 束光波的震動(dòng)方向相同; 兩...

【光學(xué)鍍膜加工需要注意什么】當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會(huì)被反射掉，在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線損失到達(dá)30%至40%?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá)95%，鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫se或是紅se，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠se或暗紫se。 光學(xué)鍍膜機(jī)增透膜增加透射光強(qiáng)度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播在過(guò)程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布，對(duì)于單層薄膜來(lái)說(shuō)，當(dāng)增透膜...

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學(xué)沉積法】化學(xué)氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體，供給基板，利用氣相反應(yīng)，在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù)，該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。 在線CVD法鍍膜技術(shù)，是在浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中，連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù)，是目前世界上比較先進(jìn)的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之，薄膜沉積前，玻璃襯底即將離開(kāi)錫槽但尚未進(jìn)人退火窯，且未被處理凈化。國(guó)外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn0...