隨著智能手表行業(yè)的不斷發(fā)展,人們對(duì)手表的要求也越來(lái)越高,智能手表已經(jīng)成為人們生活中不可或缺的伙伴。然而,智能手表在封裝過(guò)程中,底殼與觸摸屏存在粘接困難問題,為了解決這一問題,等離子清洗機(jī)成為了處理智能手表的表面活化利器。在使用等離子清洗機(jī)前,先使用40號(hào)達(dá)因筆...
鹵素?zé)艄芡嘶穑℉alogen Lamp Annealing)是一種用燈管作為熱源的退火方式,其特點(diǎn)如下:高溫:鹵素?zé)艄芡嘶鸬臏囟瓤梢赃_(dá)到1300攝氏度以上,可以快速將材料加熱到所需溫度。非接觸性:鹵素?zé)艄芡嘶鹂梢栽诓唤佑|晶圓的情況下進(jìn)行,減少了對(duì)晶圓的污染風(fēng)險(xiǎn)...
等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用具有明顯的優(yōu)勢(shì)。首先,等離子清洗能夠提供高度均勻的清潔效果,確保芯片表面的每一處都能得到充分的處理。這對(duì)于提高封裝的可靠性和性能至關(guān)重要。其次,等離子清洗機(jī)具有高度的可控性和可重復(fù)性。通過(guò)精確控制等離子體的參數(shù),如氣體種類、流量...
接觸角測(cè)量?jī)x將在更多領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。例如,在環(huán)境科學(xué)領(lǐng)域,接觸角測(cè)量?jī)x可用于評(píng)估污染物在土壤、水體等環(huán)境中的潤(rùn)濕行為和遷移規(guī)律;在能源領(lǐng)域,接觸角測(cè)量?jī)x可用于研究太陽(yáng)能電池、燃料電池等能源材料的潤(rùn)濕性能和界面行為。此外,隨著微納技術(shù)的不斷發(fā)展,接觸角測(cè)量?jī)x有...
碳化硅(SiC)是制作半導(dǎo)體器件及材料的理想材料之一,但其在工藝過(guò)程中,會(huì)不可避免的產(chǎn)生晶格缺陷等問題,而快速退火可以實(shí)現(xiàn)金屬合金、雜質(zhì)***、晶格修復(fù)等目的。在近些年飛速發(fā)展的化合物半導(dǎo)體、光電子、先進(jìn)集成電路等細(xì)分領(lǐng)域,快速退火發(fā)揮著無(wú)法取代的作用。碳化硅...
快速退火爐通常使用輻射加熱提供熱能,如電阻加熱器、鹵素?zé)艄芎透袘?yīng)線圈等,其中加熱元素放置在爐內(nèi)并通過(guò)輻射傳熱作用于樣品表面。這種加熱方式具有加熱速度快、溫度分布均勻、加熱效率高等優(yōu)點(diǎn)。選用鹵素紅外燈作為熱源,利用極快的升溫速率,將晶圓或是材料在很短的時(shí)間內(nèi)加熱...
快速退火爐相比傳統(tǒng)的退火方法具有許多優(yōu)勢(shì),以下列舉了一些主要的優(yōu)勢(shì):高效性能:快速退火爐能夠在短時(shí)間內(nèi)完成加熱和冷卻過(guò)程,提高了生產(chǎn)效率。相比傳統(tǒng)的慢速退火爐,快速退火爐能夠縮短處理時(shí)間。均勻加熱:快速退火爐能夠通過(guò)精確的溫度控制和加熱系統(tǒng)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)對(duì)材料的均...
等離子清洗機(jī)原理:通過(guò)化學(xué)或物理作用對(duì)物體表面進(jìn)行處理,實(shí)現(xiàn)分子水平的污染物去除(一般厚度為3-30nm),從而提高物體表面活性。污染物可能會(huì)是有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對(duì)應(yīng)不同的污染物,應(yīng)采用不同的清洗工藝,根據(jù)選擇的工藝氣體不同,等...
在線片式真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品原理:通過(guò)對(duì)工藝氣體施加電場(chǎng)使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、自由活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子處理就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)進(jìn)行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學(xué)反應(yīng)改變...
相較于其他表面處理技術(shù),等離子粉體表面改性技術(shù)有優(yōu)勢(shì)有:表面活化改性投入較小,處理溫度低,操作簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì)實(shí)用,不污染環(huán)境,可連續(xù)生產(chǎn),操作簡(jiǎn)單。什么是低溫等離子體:低溫等離子體包含熱等離子體和冷等離子體。高溫等離子體主要利用等離子體的物理特征,由于高溫等離子體...
等離子清洗機(jī)現(xiàn)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于印刷、包裝、醫(yī)療器械、光學(xué)儀器、航空航天等領(lǐng)域,用于清洗和改性各種材料表面.在滿足不同的工藝要求和確保處理后的有效性,常壓等離子清洗機(jī)在處理過(guò)程還需要搭配運(yùn)動(dòng)平臺(tái)來(lái)進(jìn)行更好的有效處理。等離子清洗機(jī)為何要搭配運(yùn)動(dòng)平臺(tái)?等離子清洗機(jī)搭配...
隨著智能手表行業(yè)的不斷發(fā)展,人們對(duì)手表的要求也越來(lái)越高,智能手表已經(jīng)成為人們生活中不可或缺的伙伴。然而,智能手表在封裝過(guò)程中,底殼與觸摸屏存在粘接困難問題,為了解決這一問題,等離子清洗機(jī)成為了處理智能手表的表面活化利器。在使用等離子清洗機(jī)前,先使用40號(hào)達(dá)因筆...
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展和市場(chǎng)需求的不斷增長(zhǎng),半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)在未來(lái)將迎來(lái)更加廣闊的發(fā)展前景。首先,在技術(shù)方面,隨著等離子體物理、化學(xué)和工程等學(xué)科的深入研究和發(fā)展,等離子清洗機(jī)的技術(shù)性能將得到進(jìn)一步提升。例如,通過(guò)優(yōu)化等離子體發(fā)生器的結(jié)構(gòu)和參數(shù),可以提高...
在線式真空等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì):載臺(tái)升降可自由按料盒每層的間距設(shè)定;載臺(tái)實(shí)現(xiàn)寬度定位,電機(jī)根據(jù)程序參數(shù)進(jìn)行料盒寬度調(diào)節(jié);推料舍片具有預(yù)防卡料及檢測(cè)功能,根據(jù)產(chǎn)品寬度切換配方進(jìn)行傳送;同時(shí)每次清洗4片,雙工位腔體平臺(tái)交替,實(shí)現(xiàn)清洗與...
RTP快速退火爐具有許多優(yōu)點(diǎn)。首先,由于加熱和冷卻速度快,處理時(shí)間短,能夠顯著提高生產(chǎn)效率。其次,由于采用了快速冷卻的方式,可以有效避免材料再次晶粒長(zhǎng)大和相變,從而保持材料的細(xì)晶粒組織和優(yōu)良的性能。此外,RTP快速退火爐還具有溫度控制精度高、操作簡(jiǎn)單、能耗低等...
在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,潤(rùn)濕性水滴接觸角測(cè)量?jī)x被用于研究生物材料的表面特性和生物相容性。例如,在醫(yī)療器械的設(shè)計(jì)和制造過(guò)程中,通過(guò)測(cè)量血液在材料表面的接觸角大小,可以評(píng)估材料的血液相容性,從而優(yōu)化醫(yī)療器械的設(shè)計(jì)和材料選擇。此外,在藥物載體和生物傳感器等領(lǐng)域,潤(rùn)濕性水滴接...
等離子體技術(shù)擁有哪些優(yōu)勢(shì)較之于電暈處理或者濕式化學(xué)處理之類的其他方法,等離子體技術(shù)具有決定性的優(yōu)勢(shì):很多表面特性只能通過(guò)該種方法獲得一種普遍適用的方法:具有在線生產(chǎn)能力,并可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化,而等離子處理是一種極為環(huán)保的工藝方法,基本不受幾何形狀的限制,可對(duì)粉劑、...
等離子體技術(shù)擁有哪些優(yōu)勢(shì)較之于電暈處理或者濕式化學(xué)處理之類的其他方法,等離子體技術(shù)具有決定性的優(yōu)勢(shì):很多表面特性只能通過(guò)該種方法獲得一種普遍適用的方法:具有在線生產(chǎn)能力,并可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化,而等離子處理是一種極為環(huán)保的工藝方法,基本不受幾何形狀的限制,可對(duì)粉劑、...
空等離子處理是如何進(jìn)行?要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體。首先,單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)jihuo,這些氣體中被jihuo的離子加速,開始震動(dòng)。這種振動(dòng)“用力擦洗”需要清洗材料...
潤(rùn)濕性水滴接觸角測(cè)量?jī)x通常由光學(xué)系統(tǒng)、樣品臺(tái)、液滴投放系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)和數(shù)據(jù)處理與分析軟件等組成。在測(cè)量過(guò)程中,儀器會(huì)精確地在樣品表面投放一個(gè)已知大小的水滴,并通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)捕捉水滴與固體表面接觸時(shí)的形態(tài)。然后,通過(guò)圖像處理和分析軟件,可以精確地計(jì)算出水滴與固體表...
水滴接觸角測(cè)量?jī)x在眾多領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用,包括但不限于材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、表面工程等。在材料科學(xué)領(lǐng)域,水滴接觸角測(cè)量?jī)x被用于評(píng)估涂層、薄膜等材料的潤(rùn)濕性能和表面能。這些參數(shù)對(duì)于材料的功能性和應(yīng)用性能至關(guān)重要,例如在涂料、油墨、粘合劑等行業(yè),潤(rùn)濕性能和表面能直...
在半導(dǎo)體微芯片封裝中,微波等離子體清洗和活化技術(shù)被應(yīng)用于提高封裝模料的附著力。這包括“頂部”和“倒裝芯片底部填充”過(guò)程。高活性微波等離子體利用氧自由基的化學(xué)功率來(lái)修飾各種基底表面:焊料掩模材料、模具鈍化層、焊盤以及引線框架表面。這樣就消除了模具分層問題,并且通...
在半導(dǎo)體微芯片封裝中,微波等離子體清洗和活化技術(shù)被應(yīng)用于提高封裝模料的附著力。這包括“頂部”和“倒裝芯片底部填充”過(guò)程。高活性微波等離子體利用氧自由基的化學(xué)功率來(lái)修飾各種基底表面:焊料掩模材料、模具鈍化層、焊盤以及引線框架表面。這樣就消除了模具分層問題,并且通...
假設(shè)液滴靜止在固體表面上,且與液滴沉積后某一時(shí)間的差異相比,很快達(dá)到平衡,則前款的接觸角數(shù)據(jù)非常有用。然而,這只適用于數(shù)據(jù)變化不大的情況。例如,假設(shè)在液體和固體界面是動(dòng)態(tài)的情況下,存在各種狀態(tài),例如涂層或清洗,則無(wú)法獲得足夠的數(shù)據(jù)。這種情況模擬(隨著前進(jìn)接觸角...
座滴法是接觸角測(cè)量中最常見的方法,用于靜態(tài)接觸角測(cè)量。在測(cè)量粉末接觸角時(shí),需要將粉末壓片進(jìn)行測(cè)量,再通過(guò)軟件擬合圖像得到其接觸角數(shù)值。 Washburn測(cè)量法是利用液體在粉末材料中的毛細(xì)虹吸效應(yīng)進(jìn)行測(cè)量的一種方法。將樣品管懸掛在力學(xué)傳感器上,將粉末樣...
在實(shí)際測(cè)量中,液體樣品在測(cè)試過(guò)程中,經(jīng)過(guò)的時(shí)間不同擬合的變化。理想情況下,通過(guò)自動(dòng)生成的基線繪制處觀圖,來(lái)獲得線性關(guān)系。根據(jù)該線坡度計(jì)算接觸角和入滲速率。此外,為了計(jì)算接觸角,除了液體表面張力和粘度值外,還需要填充粉末的毛細(xì)管半徑值。該毛細(xì)管半徑值通過(guò)測(cè)量粉末...
影響接觸角測(cè)試結(jié)果的幾個(gè)因素:平衡時(shí)間、溫度.一、平衡時(shí)間當(dāng)體系未達(dá)平衡時(shí)候,接觸角會(huì)發(fā)生變化,此時(shí)的接觸角稱為動(dòng)態(tài)接觸角.動(dòng)態(tài)接觸角研究對(duì)于一些粘度較大的液體在固體平面上的流動(dòng)或鋪展有重要意義.二、溫度對(duì)于溫度變化較大的體系,由于表面張力的變化,接觸角也會(huì)發(fā)...
晟鼎水滴角測(cè)試原理:廣泛應(yīng)用于潤(rùn)濕和噴涂過(guò)程分析的分析儀器液滴形狀分析及水滴角測(cè)試儀器–SDC100是適用幾乎所有固體表面潤(rùn)濕和粘附分析工作的高質(zhì)量系統(tǒng)解決方案。從滿足接觸角測(cè)量的基本配置到連續(xù)測(cè)量水滴角的全自動(dòng)專業(yè)化儀器,我們會(huì)根據(jù)您對(duì)各種膜材料表面和工藝研...
相較于其他表面處理技術(shù),等離子粉體表面改性技術(shù)有優(yōu)勢(shì)有:表面活化改性投入較小,處理溫度低,操作簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì)實(shí)用,不污染環(huán)境,可連續(xù)生產(chǎn),操作簡(jiǎn)單。什么是低溫等離子體:低溫等離子體包含熱等離子體和冷等離子體。高溫等離子體主要利用等離子體的物理特征,由于高溫等離子體...
在線式真空等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì):載臺(tái)升降可自由按料盒每層的間距設(shè)定;載臺(tái)實(shí)現(xiàn)寬度定位,電機(jī)根據(jù)程序參數(shù)進(jìn)行料盒寬度調(diào)節(jié);推料舍片具有預(yù)防卡料及檢測(cè)功能,根據(jù)產(chǎn)品寬度切換配方進(jìn)行傳送;同時(shí)每次清洗4片,雙工位腔體平臺(tái)交替,實(shí)現(xiàn)清洗與...