在電子領(lǐng)域蓬勃發(fā)展的進(jìn)程中，MOSFET 作為一類舉足輕重的可控硅器件，其身影無處不在。從日常使用的各類電子設(shè)備，到汽車電子系統(tǒng)的精密控制，再到工業(yè)控制領(lǐng)域的復(fù)雜運(yùn)作，MOSFET 都發(fā)揮著無可替代的關(guān)鍵作用。對于電子工程師和電子愛好者而言，深入了解 MOSF...

工業(yè)機(jī)器人的關(guān)節(jié)驅(qū)動(dòng)需要高性能的功率器件來實(shí)現(xiàn)靈活、精細(xì)的運(yùn)動(dòng)控制。TrenchMOSFET應(yīng)用于工業(yè)機(jī)器人的關(guān)節(jié)伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，為機(jī)器人的運(yùn)動(dòng)提供動(dòng)力。在協(xié)作機(jī)器人中，關(guān)節(jié)驅(qū)動(dòng)電機(jī)需要頻繁地啟動(dòng)、停止和改變運(yùn)動(dòng)方向，TrenchMOSFET的快速開關(guān)速度和精細(xì)...

功率半導(dǎo)體的技術(shù)門檻在于對應(yīng)用場景的深度理解?！氨热绶?wù)器電源需要高頻、大電流的芯片，但電流大了頻率就容易上不去。我們通過改進(jìn)SGT（屏蔽柵溝槽）及超結(jié)產(chǎn)品工藝，把高頻性能優(yōu)化到接近氮化鎵的水平，成本卻只有三分之一?！边@款芯片已通過幾家頭部服務(wù)器廠商的測試，計(jì)...

商甲半導(dǎo)體的產(chǎn)品可以應(yīng)用于電池管理系統(tǒng)，公司產(chǎn)品目前涵蓋20V-150V產(chǎn)品，封裝形式有TO-252/TO-263/PDFN5*6-8L、SOP-8/TOLL封裝產(chǎn)品。其導(dǎo)通電阻和柵極電荷更低，能減少電流通過時(shí)的能量損耗，有效控制系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)的溫升，讓 BM...

MOS 管，又被稱為場效應(yīng)管、開關(guān)管，其英文名稱 “MOSFET” 是 Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor 的縮寫，在實(shí)際應(yīng)用中，人們常簡稱它為 MOS 管。從外觀封裝形式來看，MOS 管主要...

談到 MOSFET 的性能表現(xiàn)，就不得不提它的主要參數(shù)。漏極電流、漏極電壓、控制電流、控制電壓以及放大倍數(shù)，這些參數(shù)如同 MOSFET 的 “生命線”，每一個(gè)都至關(guān)重要。漏極電流決定了其功耗大小，漏極電壓則限定了工作電壓范圍，控制電流和控制電壓掌控著它的控...

電 子?煙是一種模仿卷 煙的電子產(chǎn)品，其原理是通過加熱將電 子 煙油霧化的過程，而霧化是通過電熱絲瞬間大電流大功率來實(shí)現(xiàn)。電 子 煙由功率大小分為小煙和大煙兩種。小煙功率一般20W以下，發(fā)熱量100-200度之間；大煙功率一般20W以上，發(fā)熱量200-500度...

榨汁機(jī)需要電機(jī)能夠快速啟動(dòng)并穩(wěn)定運(yùn)行，以實(shí)現(xiàn)高效榨汁。TrenchMOSFET在其中用于控制電機(jī)的運(yùn)轉(zhuǎn)。以一款家用榨汁機(jī)為例，TrenchMOSFET構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)電路，能精細(xì)控制電機(jī)的啟動(dòng)電流和轉(zhuǎn)速。其低導(dǎo)通電阻有效降低了導(dǎo)通損耗，減少了電機(jī)發(fā)熱，提高了榨汁機(jī)的...

電 子?煙是一種模仿卷 煙的電子產(chǎn)品，其原理是通過加熱將電 子 煙油霧化的過程，而霧化是通過電熱絲瞬間大電流大功率來實(shí)現(xiàn)。電 子 煙由功率大小分為小煙和大煙兩種。小煙功率一般20W以下，發(fā)熱量100-200度之間；大煙功率一般20W以上，發(fā)熱量200-500度...

在智能家居系統(tǒng)中，智能家電的電機(jī)控制需要精細(xì)的功率調(diào)節(jié)。SGTMOSFET可用于智能冰箱的壓縮機(jī)控制、智能風(fēng)扇的轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)等。其精確的電流控制能力能使電機(jī)運(yùn)行更加平穩(wěn)，降低噪音，同時(shí)實(shí)現(xiàn)節(jié)能效果。通過智能家居系統(tǒng)的統(tǒng)一控制，SGTMOSFET助力提升家居生活的舒...

TrenchMOSFET制造：接觸孔制作與金屬互聯(lián)工藝制造流程接近尾聲時(shí)，進(jìn)行接觸孔制作與金屬互聯(lián)。先通過光刻定義出接觸孔位置，光刻分辨率需達(dá)到0.25-0.35μm。隨后進(jìn)行孔腐蝕，采用反應(yīng)離子刻蝕（RIE）技術(shù)，以四氟化碳和氧氣為刻蝕氣體，精確控制刻蝕深度...

SGTMOSFET制造：氮化硅保護(hù)層沉積為優(yōu)化工藝、提升器件性能，在特定階段需沉積氮化硅（Si?N?）保護(hù)層。當(dāng)完成屏蔽柵多晶硅填充與回刻后，利用等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)在溝槽側(cè)壁及屏蔽柵多晶硅上表面沉積氮化硅層。在沉積過程中，射頻功率設(shè)置在1...

深溝槽工藝對寄生電容的抑制SGTMOSFET的深溝槽結(jié)構(gòu)深度可達(dá)5-10μm（是傳統(tǒng)平面MOSFET的3倍以上），通過垂直導(dǎo)電通道減少電流路徑的橫向擴(kuò)展，從而降低寄生電容。具體而言，柵-漏電容（Cgd）和柵-源電容（Cgs）分別減少40%和30%，使得器件的開...

在數(shù)據(jù)中心的電源系統(tǒng)中，為滿足大量服務(wù)器的供電需求，需要高效、穩(wěn)定的電源轉(zhuǎn)換設(shè)備。SGTMOSFET可用于數(shù)據(jù)中心的AC/DC電源模塊，其低導(dǎo)通電阻與低開關(guān)損耗特性，能大幅降低電源模塊的能耗，提高數(shù)據(jù)中心的能源利用效率，降低運(yùn)營成本，同時(shí)保障服務(wù)器穩(wěn)定供電。數(shù)...

SGTMOSFET的結(jié)構(gòu)創(chuàng)新與性能突破SGTMOSFET（屏蔽柵溝槽MOSFET）是功率半導(dǎo)體領(lǐng)域的一項(xiàng)革新設(shè)計(jì)，其關(guān)鍵在于將傳統(tǒng)平面MOSFET的橫向電流路徑改為垂直溝槽結(jié)構(gòu)，并引入屏蔽層以優(yōu)化電場分布。在物理結(jié)構(gòu)上，SGTMOSFET的柵極被嵌入硅基板中形...

SGTMOSFET的基本結(jié)構(gòu)與工作原理SGT（ShieldedGateTrench）MOSFET是一種先進(jìn)的功率半導(dǎo)體器件，其結(jié)構(gòu)采用溝槽柵（TrenchGate）設(shè)計(jì)，并在柵極周圍引入屏蔽層（ShieldElectrode），以優(yōu)化電場分布并降低導(dǎo)通電阻（R...

SGTMOSFET制造：溝槽刻蝕工藝溝槽刻蝕是塑造SGTMOSFET獨(dú)特結(jié)構(gòu)的重要步驟。光刻工序中，利用光刻版將設(shè)計(jì)好的溝槽圖案轉(zhuǎn)移到外延層表面光刻膠上，光刻分辨率要求達(dá)到0.2-0.3μm，以滿足日益縮小的器件尺寸需求。隨后進(jìn)行干法刻蝕，常用反應(yīng)離子刻蝕（R...

近年來，SGTMOSFET的技術(shù)迭代圍繞“更低損耗、更高集成度”展開。一方面，通過3D結(jié)構(gòu)創(chuàng)新（如雙屏蔽層、超結(jié)+SGT混合設(shè)計(jì)），廠商進(jìn)一步突破了RDS(on)*Qg的物理極限。以某系列為例，其40V產(chǎn)品的RDS(on)低至0.5mΩ·mm2，Qg比前代減少...

雪崩能量（UIS）與可靠性設(shè)計(jì)SGTMOSFET的雪崩耐受能力是其可靠性的關(guān)鍵指標(biāo)。通過以下設(shè)計(jì)提升UIS：1終端結(jié)構(gòu)優(yōu)化，采用場限環(huán)（FieldRing）和場板（FieldPlate）組合設(shè)計(jì)，避免邊緣電場集中；2動(dòng)態(tài)均流技術(shù)，通過多胞元并聯(lián)布局，確保雪崩期...

SGTMOSFET制造：溝槽刻蝕工藝溝槽刻蝕是塑造SGTMOSFET獨(dú)特結(jié)構(gòu)的重要步驟。光刻工序中，利用光刻版將設(shè)計(jì)好的溝槽圖案轉(zhuǎn)移到外延層表面光刻膠上，光刻分辨率要求達(dá)到0.2-0.3μm，以滿足日益縮小的器件尺寸需求。隨后進(jìn)行干法刻蝕，常用反應(yīng)離子刻蝕（R...

更高的功率密度與散熱性能，SGTMOSFET的垂直結(jié)構(gòu)使其在相同電流能力下，芯片面積更小，功率密度更高。此外，優(yōu)化的熱設(shè)計(jì)（如銅夾封裝、低熱阻襯底）提升了散熱能力，使其能在高溫環(huán)境下穩(wěn)定工作。例如，在數(shù)據(jù)中心電源模塊中，采用SGTMOSFET的48V-12V轉(zhuǎn)...

SGTMOSFET制造：氮化硅保護(hù)層沉積為優(yōu)化工藝、提升器件性能，在特定階段需沉積氮化硅（Si?N?）保護(hù)層。當(dāng)完成屏蔽柵多晶硅填充與回刻后，利用等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)在溝槽側(cè)壁及屏蔽柵多晶硅上表面沉積氮化硅層。在沉積過程中，射頻功率設(shè)置在1...

TrenchMOSFET的閾值電壓控制，閾值電壓是TrenchMOSFET的重要參數(shù)之一，精確控制閾值電壓對于器件的正常工作和性能優(yōu)化至關(guān)重要。閾值電壓主要由柵氧化層厚度、襯底摻雜濃度等因素決定。通過調(diào)整柵氧化層的生長工藝和襯底的摻雜工藝，可以實(shí)現(xiàn)對閾值電壓的...

電吹風(fēng)機(jī)的風(fēng)速和溫度調(diào)節(jié)依賴于精確的電機(jī)和加熱絲控制。TrenchMOSFET應(yīng)用于電吹風(fēng)機(jī)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)和加熱絲控制電路。在電機(jī)驅(qū)動(dòng)方面，其低導(dǎo)通電阻使電機(jī)運(yùn)行更加高效，降低了電能消耗，同時(shí)寬開關(guān)速度能夠快速響應(yīng)風(fēng)速調(diào)節(jié)指令，實(shí)現(xiàn)不同檔位風(fēng)速的平穩(wěn)切換。在加熱絲...

TrenchMOSFET的閾值電壓控制，閾值電壓是TrenchMOSFET的重要參數(shù)之一，精確控制閾值電壓對于器件的正常工作和性能優(yōu)化至關(guān)重要。閾值電壓主要由柵氧化層厚度、襯底摻雜濃度等因素決定。通過調(diào)整柵氧化層的生長工藝和襯底的摻雜工藝，可以實(shí)現(xiàn)對閾值電壓的...

不同的電動(dòng)汽車系統(tǒng)對TrenchMOSFET的需求存在差異，需根據(jù)具體應(yīng)用場景選擇適配器件。在車載充電系統(tǒng)中，除了低導(dǎo)通電阻和高開關(guān)速度外，還要注重器件的功率因數(shù)校正能力，以滿足電網(wǎng)兼容性要求。對于電池管理系統(tǒng)（BMS），MOSFET的導(dǎo)通和關(guān)斷特性要精細(xì)可控...

在一些特殊應(yīng)用場合，如航空航天、核工業(yè)等，TrenchMOSFET需要具備良好的抗輻射性能。輻射會(huì)使半導(dǎo)體材料產(chǎn)生缺陷，影響載流子的傳輸和器件的電學(xué)性能。例如，電離輻射會(huì)在柵氧化層中產(chǎn)生陷阱電荷，導(dǎo)致閾值電壓漂移和漏電流增大；位移輻射會(huì)使晶格原子發(fā)生位移，產(chǎn)生...

電吹風(fēng)機(jī)的風(fēng)速和溫度調(diào)節(jié)依賴于精確的電機(jī)和加熱絲控制。TrenchMOSFET應(yīng)用于電吹風(fēng)機(jī)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)和加熱絲控制電路。在電機(jī)驅(qū)動(dòng)方面，其低導(dǎo)通電阻使電機(jī)運(yùn)行更加高效，降低了電能消耗，同時(shí)寬開關(guān)速度能夠快速響應(yīng)風(fēng)速調(diào)節(jié)指令，實(shí)現(xiàn)不同檔位風(fēng)速的平穩(wěn)切換。在加熱絲...

工業(yè)機(jī)器人的關(guān)節(jié)驅(qū)動(dòng)需要高性能的功率器件來實(shí)現(xiàn)靈活、精細(xì)的運(yùn)動(dòng)控制。TrenchMOSFET應(yīng)用于工業(yè)機(jī)器人的關(guān)節(jié)伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，為機(jī)器人的運(yùn)動(dòng)提供動(dòng)力。在協(xié)作機(jī)器人中，關(guān)節(jié)驅(qū)動(dòng)電機(jī)需要頻繁地啟動(dòng)、停止和改變運(yùn)動(dòng)方向，TrenchMOSFET的快速開關(guān)速度和精細(xì)...

不同的電動(dòng)汽車系統(tǒng)對TrenchMOSFET的需求存在差異，需根據(jù)具體應(yīng)用場景選擇適配器件。在車載充電系統(tǒng)中，除了低導(dǎo)通電阻和高開關(guān)速度外，還要注重器件的功率因數(shù)校正能力，以滿足電網(wǎng)兼容性要求。對于電池管理系統(tǒng)（BMS），MOSFET的導(dǎo)通和關(guān)斷特性要精細(xì)可控...