放大率問題:光學鏡頭放大率問題,很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多,所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭,因此,普密斯光學針對這一問題進行專業(yè)的講述,希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學放大率影像大小相對于物體的放大...
入門的定焦鏡頭當然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的:35、50、135,有了這三個鏡頭,足可應(yīng)付大多數(shù)的場合需要。日后若有需要,再作擴充。定焦鏡頭另外提供幾個不同的組合給大家參考。愛拍風景的人可以考慮的三鏡組合為24、35(用35代替50)、135。愛拍...
b、接近式曝光(Proximity Printing)。掩膜板與光刻膠層的略微分開,大約為10~50μm??梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應(yīng),降低了分辨率。1970后適用,但是其最大分辨率*為2~4μm。c、投影式曝光(Proj...
得指出的是,EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(對應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點)就能用上EUV光刻機 [1]??墒?,這一技術(shù)一直達不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標和產(chǎn)能要求。一拖再拖,直到2016年,EUV光刻機仍然沒能...
自動精密沖床是一種用于金屬沖壓成型的工業(yè)設(shè)備,主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域,可適配自動化送料系統(tǒng)實現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理,具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件,結(jié)合重心平衡設(shè)計保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...
邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻,不能得到很好的圖形,而且容易發(fā)生剝離(Peeling)而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法:a、化學的方法(Chemical EBR)。軟烘后,用PGMEA或...
光刻機系統(tǒng)是材料科學領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,通過光學成像原理將掩模版上的微細圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器,配備氣動防震臺保障精密操作環(huán)境,其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過光化學反應(yīng)將掩模版上的...
38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘,用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1.裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2.裝于壓力機或模具上...
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...
●高剛性高剛性、高精密的構(gòu)架,采用鋼板焊接,并經(jīng)熱處理、消除床身內(nèi)應(yīng)力?!裰匦钠胶?.傳動中心與機器整體的中心趨于一致,確保沖壓的精確、穩(wěn)定?!癫僮鞣€(wěn)定、安全離合器/剎車器裝置高度靈敏,再加國際前列的雙聯(lián)電磁閥和過負荷保護裝置,確保沖床滑塊運轉(zhuǎn)及停止的精確性與...
英特爾高級研究員兼技術(shù)和制造部先進光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對未來的IC設(shè)計,我認為正確的方向是具有互補性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當前能力**強且**成熟的技術(shù),能夠滿足精確度和成本要求,但缺點是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...
由英國、希臘和美國**組成的安提基特拉機械研究計劃成員于2008年7月時,在機械上的一個青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個字 "Olympia",相信是用來指示卡利巴斯周期(Callippic cycle);另外也發(fā)現(xiàn)了其他古希臘競賽的名字,因此這可能是用來追蹤古代奧林匹克運...
半導體器件和集成電路對光刻曝光技術(shù)提出了越來越高的要求,在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學的極限。光刻曝光的常用波長是3650~4358 埃,預計實用分辨率約為1微米。幾何光學的原理,允許將波長向下延伸至約2000埃的遠紫外波長,此時可達到的實...
25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤滑脂后組裝試車.1、沖床工必須經(jīng)過學習,掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能,熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護和控制裝置,不得任意拆動。3、檢查沖床各傳動、連接、潤滑等部位及防護保險裝置是否正常...
為把193i技術(shù)進一步推進到32和22nm的技術(shù)節(jié)點上,光刻**一直在尋找新的技術(shù),在沒有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前,兩次曝光技術(shù)(或者叫兩次成型技術(shù),DPT)成為人們關(guān) 注 的 熱 點。ArF浸沒式兩次曝光技術(shù)已被業(yè)界認為是32nm節(jié)點相當有競爭力的技術(shù);在更低...
28、頂板頂板是在凹?;蚰K內(nèi)活動的板狀零件,以向上動作直接或間接頂出工(序)件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹模或帶齒壓料板上的成圈齒形突起,是凹模或帶齒壓料板的局部結(jié)構(gòu)而不是單獨的零件。30、限位套限位套是用于限制沖模**小閉合高度的管狀零件,一般套于導柱外...
22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長凹模上平面,承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個或更多工位的沖模,材料隨壓力機行程逐次送進一工位,從而使沖件逐步成形。25、側(cè)刃側(cè)刃是在條(帶、卷)料側(cè)面切...
定焦鏡頭的好處,主要體現(xiàn)在短焦段的使用上:⒈定焦的廣角或標準鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭口徑大。一般的定焦廣角和中焦鏡頭的光圈都在2.8以上,通光量大,便于在低照度情況下拍攝。定焦鏡頭⒉定焦的廣角鏡頭一般都比涵蓋相應(yīng)焦距段的變焦鏡頭**短對焦距離近。比...
b、堅膜,以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力;c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性;d、進一步減少駐波效應(yīng)(Standing Wave Effect)。常見問題:a、烘烤不足(Underbake)。減弱光刻膠的強度(抗刻蝕能力和離子注入中的阻...
涂底方法:a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積,200~250C,30秒鐘;優(yōu)點:涂底均勻、避免顆粒污染;b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點:顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的:使表面具有疏水性,增強基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法:a、靜態(tài)涂膠(Stati...
后烘方法:熱板,110~130C,1分鐘。目的:a、減少駐波效應(yīng);b、激發(fā)化學增強光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護基團發(fā)生反應(yīng)并移除基團使之能溶解于顯影液。顯影方法:a、整盒硅片浸沒式顯影(Batch Development)。缺點:顯影液消耗很大;顯影...
廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;超廣角鏡頭的焦距為20-13毫米,視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短,視角大,在較短的拍攝距離范圍內(nèi),能拍攝到較大面積的景物。所以,**...
入門的定焦鏡頭當然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的:35、50、135,有了這三個鏡頭,足可應(yīng)付大多數(shù)的場合需要。日后若有需要,再作擴充。定焦鏡頭另外提供幾個不同的組合給大家參考。愛拍風景的人可以考慮的三鏡組合為24、35(用35代替50)、135。愛拍...
使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點: [3]視角小所以,拍攝的景物空間范圍也小,在相同的拍攝距離處,所拍攝的影像大于標準鏡頭,適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以,能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來了一...
我們建議攝影入門用戶在攝影學習階段,除了相機上已經(jīng)配備的套裝鏡頭之外,不必再購買任何鏡頭。以后成為“高手”時,再考慮較長焦距的鏡頭。即使到那時,除非對遠攝鏡頭具有特殊的需求,并且資金也不成問題,否則我們建議不要考慮超過200mm的任何鏡頭。如果偶爾需要遠攝鏡頭...
定焦鏡頭(prime lens)是指只有一個固定焦距的鏡頭,沒有焦段一說,或者說只有一個視野。定焦鏡頭沒有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設(shè)計相對變焦鏡頭而言要簡單得多,但一般變焦鏡頭在變焦過程中對成像會有所影響,而定焦鏡頭相對于變焦機器的比較大好處就是對焦速度快...
世界上***部糾偏裝置,英文:Deviation rectifying device,是美塞斯的FIFE糾發(fā)明的,是糾偏裝置是電子糾偏系統(tǒng)的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運動中出現(xiàn)的側(cè)邊誤差的機械裝置,位移式糾偏是通過更改卷材在進口和出口跨度來實現(xiàn)卷材側(cè)邊...
機械手關(guān)節(jié)減速機是一種通過電機驅(qū)動實現(xiàn)自動化角度調(diào)整的精密傳動裝置,具有重復定位精度≤5秒的特點,適配AC伺服或步進馬達。其穩(wěn)重承載能力和高精度特性使其廣泛應(yīng)用于精密加工機床、航太工業(yè)、半導體設(shè)備、印刷機械,食品包裝、自動化產(chǎn)業(yè)、工業(yè)機器人、醫(yī)療檢驗、精密測試...
舉例來說,對某一確定的被攝體,水平方向需要200個像素才能再現(xiàn)其細節(jié),如果成像寬度為10mm,則光學分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任,如果成像寬度為1mm,則要求鏡頭的光學分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面,傳統(tǒng)膠卷對紫外線比較敏感,外拍時常需要加裝U...
得指出的是,EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(對應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點)就能用上EUV光刻機 [1]??墒?,這一技術(shù)一直達不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標和產(chǎn)能要求。一拖再拖,直到2016年,EUV光刻機仍然沒能...