PVD技術簡介PVD技術是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比，PVD有很多優(yōu)點：如對環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。PVD技術中經常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術）、濺射鍍膜（包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術），這些方法統稱物相沉積（PhysicalVaporDeposition），簡稱為PVD。行業(yè)內通常所說的“IP”（ionplating）離子鍍膜，是因為在PVD技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱為離子鍍膜。而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。南京鋇靶圖片
密度也是靶材的關鍵性能指標之一.在靶材的技術工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因為靶材主要特性密度對濺射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。
是晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 常州鋅鋁靶選型在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應氣體量增加，化合物生成率增加。
磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應對？磁控濺射金屬靶時，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：
1. 靶材安裝準確否?
2. 靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質，打磨清理干凈后即可。
3. 起輝電源是否正常------------檢查靶電源。
4. 靶與地線之間短路
----------關掉機器，把設備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細清洗一下；
----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當的距離，調整距離即可。
5. 永磁靶表面場強是否下降太多？
---------如果下降太多，需要更換磁鋼。
氣體壓強對靶濺射電壓的影響 在磁控濺射或反應磁控濺射鍍膜的工藝過程中，工作氣體或反應氣體壓強對磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。 1.工作氣體壓強對靶濺射電壓的影響 一般的規(guī)律是：在真空設備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設置參數不變時，隨著工作氣體(如氬氣)壓強(0.1~10Pa)的逐步增加，氣體放電等離子體的密度也會同步增加，致使等離子體等效阻抗減小，磁控靶的濺射電流會逐步上升，濺射工作電壓亦會同步下降。 2. 反應氣體壓強對靶濺射電壓的影響 在反應磁控濺射鍍膜的工藝過程中，在真空設備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設置參數不變時，隨著反應氣體(如氮氣、氧氣)壓強(或流量)的逐步增加(一般應注意不要超過工藝設定值的上限值)，隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋，陰-陽極間放電的等效阻抗也會同步增高，磁控靶的濺射電流會逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽極消失”為止)，濺射工作電壓亦會同步上升。果用冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發(fā)生開裂或彎曲。
但下列情況綁定有弊端：
1.熔點低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時候可能會變軟變形；
2.貴金屬靶材，一是實際重量易出現分歧，二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料，建議墊一片銅片。
三.背靶的選擇
對材質的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右；
導電性好：常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；
強度足夠：太薄，易變形，不易真空密封；
結構要求：空心或者實心結構；
厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。 一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數比較穩(wěn)定，容易控制。杭州氧化鋅鎵靶功能
當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全中毒，在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應。南京鋇靶圖片
NCVM不導電膜是什么，它有哪些特點？ NCVM又稱不連續(xù)鍍膜技術或不導電電鍍技術，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術。真空電鍍，簡稱VM，是vacuum metallization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運用化學、物理等特定手段進行有機轉換，使金屬轉換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。真空不導電電鍍，又稱NCVM，是英文Non conductive vacuum metallization的縮寫。它的加工工藝高于普通真空電鍍，其加工制程比普通制程要復雜得多。 NCVM特點是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各相不連續(xù)之特性，得到外觀有金屬質感且不影響到無線通訊傳輸之效果。首先要實現不導電，滿足無線通訊產品的正常使用；其次要保證“金屬質感”這一重要的外觀要求；通過UV涂料與鍍膜層結合，保證產品的物性和耐候性，滿足客戶需求。南京鋇靶圖片
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發(fā)展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。