蘇州膜厚儀推薦廠家

來源: 發(fā)布時間:2024-05-08

由于靶丸自身特殊的特點和極端的實驗條件,使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復(fù)雜。光學測量方法具有無損、非接觸、測量效率高、操作簡便等優(yōu)勢,因此成為了測量靶丸參數(shù)的常用方式。目前常用于靶丸幾何參數(shù)或光學參數(shù)測量的方法有白光干涉法、光學顯微干涉法、激光差動共焦法等。然而,靶丸殼層折射率是沖擊波分時調(diào)控實驗研究中的重要參數(shù),因此對其進行精密測量具有重要意義。 常用的折射率測量方法有橢圓偏振法、折射率匹配法、白光光譜法、布儒斯特角法等。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實現(xiàn)對薄膜的快速測量和分析;蘇州膜厚儀推薦廠家

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本文主要研究了如何采用白光干涉法、表面等離子體共振法和外差干涉法來實現(xiàn)納米級薄膜厚度的準確測量,研究對象為半導體鍺和貴金屬金兩種材料。由于不同材料薄膜的特性差異,所適用的測量方法也會有所不同。對于折射率高,在通信波段(1550nm附近)不透明的半導體鍺膜,采用白光干涉的測量方法;而對于厚度更薄的金膜,由于其折射率為復(fù)數(shù),且具有表面等離子體效應(yīng),所以采用基于表面等離子體共振的測量方法會更合適。為了進一步提高測量精度,本文還研究了外差干涉測量法,通過引入高精度的相位解調(diào)手段來檢測P光與S光之間的相位差,以提高厚度測量的精度。原裝膜厚儀以客為尊這種膜厚儀可以測量大氣壓下 。

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白光干涉法和激光光源相比具有短相干長度的特點,使得兩束光只有在光程差非常小的情況下才能發(fā)生干涉,因此不會產(chǎn)生干擾條紋。同時,白光干涉產(chǎn)生的干涉條紋具有明顯的零光程差位置,避免了干涉級次不確定的問題。本文基于白光干涉原理對單層透明薄膜厚度測量進行了研究,特別是對厚度小于光源相干長度的薄膜進行了探究。文章首先詳細闡述了白光干涉原理和薄膜測厚原理,然后在金相顯微鏡的基礎(chǔ)上構(gòu)建了一種型垂直白光掃描系統(tǒng),作為實驗中測試薄膜厚度的儀器,并利用白光干涉原理對位移量進行了標定。

使用了迭代算法的光譜擬合法,其優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量。其缺點是不夠?qū)嵱?,該方法需要一個較好的薄膜的光學模型(包括色散系數(shù)、吸收系數(shù)、多層膜系統(tǒng)),但是在實際測試過程中,薄膜的色散和吸收的公式通常不準確,尤其是對于多層膜體系,建立光學模型非常困難,無法用公式準確地表示出來。在實際應(yīng)用中只能使用簡化模型,因此,通常全光譜擬合法不如極值法有效。另外該方法的計算速度慢也不能滿足快速計算的要求??傊坠飧缮婺ず駜x是一種應(yīng)用很廣的測量薄膜厚度的儀器;

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自上世紀60年代起,利用X及β射線、近紅外光源開發(fā)的在線薄膜測厚系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于西方先進國家的工業(yè)生產(chǎn)線中。到20世紀70年代后,為滿足日益增長的質(zhì)檢需求,電渦流、電磁電容、超聲波、晶體振蕩等多種膜厚測量技術(shù)相繼問世。90年代中期,隨著離子輔助、離子束濺射、磁控濺射、凝膠溶膠等新型薄膜制備技術(shù)取得巨大突破,以橢圓偏振法和光度法為展示的光學檢測技術(shù)以高精度、低成本、輕便環(huán)保、高速穩(wěn)固為研發(fā)方向不斷迭代更新,迅速占領(lǐng)日用電器及工業(yè)生產(chǎn)市場,并發(fā)展出依據(jù)用戶需求個性化定制產(chǎn)品的能力。其中,對于市場份額占比較大的微米級薄膜,除要求測量系統(tǒng)不僅具有百納米級的測量準確度及分辨力以外,還要求測量系統(tǒng)在存在不規(guī)則環(huán)境干擾的工業(yè)現(xiàn)場下,具備較高的穩(wěn)定性和抗干擾能力。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于光學元件制造中的薄膜厚度管控。膜厚儀經(jīng)銷批發(fā)

增加光路長度可以提高儀器分辨率,但同時也會更容易受到振動等干擾,需要采取降噪措施。蘇州膜厚儀推薦廠家

在納米級薄膜的各項相關(guān)參數(shù)中,薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計和制備過程中重要的參量之一,具有決定薄膜性質(zhì)和性能的基本作用。然而,由于其極小尺寸及突出的表面效應(yīng),使得對納米級薄膜的厚度準確測量變得困難。經(jīng)過眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,新的薄膜厚度測量理論和測量技術(shù)不斷涌現(xiàn),測量方法從手動到自動、有損到無損不斷得到實現(xiàn)。對于不同性質(zhì)薄膜,其適用的厚度測量方案也不相同。針對納米級薄膜,應(yīng)用光學原理的測量技術(shù)。相比其他方法,光學測量方法具有精度高、速度快、無損測量等優(yōu)勢,成為主要檢測手段。其中代表性的測量方法有橢圓偏振法、干涉法、光譜法、棱鏡耦合法等。蘇州膜厚儀推薦廠家