西藏高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀

來源: 發(fā)布時間:2023-01-28

對于粒徑分布范圍很寬的樣品,通過可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤,只需常規(guī)圓盤分析時間的1/20。經(jīng)過CPS納米粒度儀對裂解后炭黑進行粒徑測試后的結(jié)果所示:與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致,裂解后的炭黑較小粒徑為3um,較大可至50多微米,并且出現(xiàn)很多峰值,證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展,電子器件尺寸縮小,要求晶片表面平整度達到納米級。作為芯片制造不可或缺的一環(huán),CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來是受歡迎的。馳光機電科技創(chuàng)新發(fā)展,努力拼搏。西藏高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀

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而化學(xué)機械拋光(Chemical mechanical polishing,CMP)是集成電路芯片的一個關(guān)鍵制程,國內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊,幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%,170-230nm)、高純硅膠(9Vol%,6-80nm)、氧化鈰(6Vol%,200-240nm)或氧化鋁顆粒,它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%),容易聚集。隨著貯存時間延長,它的粒度可能增大從而導(dǎo)致?lián)p害的產(chǎn)生。福建CPS高精度納米粒度分析儀哪家好山東馳光機電科技有限公司擁有業(yè)內(nèi)專業(yè)人士和高技術(shù)人才。

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系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng),減少了由于系統(tǒng)污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預(yù)處理系統(tǒng):正確設(shè)計和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場經(jīng)驗針對這種復(fù)雜的工藝樣品,專門為低維護操作而設(shè)計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米,減少了維護量。先進的安全系統(tǒng),保護分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作,只需使用注射器即可,不需要定期重新校準,無樣本回收系統(tǒng)。

儀器的主要參數(shù)為:測量范圍:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋轉(zhuǎn)速度可選:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,標準分析圓盤:CR-39聚合物(耐有機溶劑和水溶液),可選配:低密度樣品分析擴展、變速圓盤;自動密度梯度液生成器(型號AG300);自動進樣器(型號AS200);標定用標準顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學(xué)衍射和散射的原理,從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集,濾波和準直后,變成直徑約10mm的平行光束,該光束照射到待測的顆粒上,就發(fā)生了散射,散射光經(jīng)傅立葉透鏡后,照射到光電探測器上的任一點都對應(yīng)于某一確定的散射角。馳光機電以質(zhì)量求生存,以信譽求發(fā)展!

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升降臺式樣品池送進定位及環(huán)境光遮蔽系統(tǒng),使光子相關(guān)譜探測系統(tǒng)不只體積小,而且具有很強的抗干擾能力。高精度的測試溫度控制系統(tǒng):單獨的循環(huán)溫控槽可在2-95℃范圍內(nèi)任意設(shè)定,其控制精度達0.1℃。微量樣品池/標準樣品池:可以使用3.5ML的標準樣品池外,還有適應(yīng)于稀有貴重樣品的0.3ML微樣池。環(huán)境溫度:在5-35℃的環(huán)境中,本儀器都能正常使用。納米粒度儀樣品池恒溫箱及恒溫DI水供應(yīng)系統(tǒng):有利于提高測試溫度控制精度同時減少等待樣品池?zé)崞胶獾臅r間,提高儀器的實際測試精度和工作效率。馳光機電科技具備雄厚的實力和豐富的實踐經(jīng)驗,馳光機電科技以發(fā)展求壯大,一定會贏得更好的明天。廣西高靈敏度納米粒度分析儀廠家

地理位置優(yōu)越,交通十分便利。西藏高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀

磨料的粒度測量:以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關(guān)鍵性的作用,CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米,典型的過大聚集體為1-10微米,并出現(xiàn)在ppm范圍內(nèi)。顆粒表征的挑戰(zhàn)來自于精確確定納米級顆粒尺寸,同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒,提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%,粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。西藏高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀

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