內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-10-14

而CMP工藝離不開研磨料的發(fā)展,那么對(duì)于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機(jī)械力對(duì)加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進(jìn)行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面,將拋光墊放置在研磨盤上,拋光時(shí),旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上,由亞微米或納米磨粒和化學(xué)溶液組成的研磨液在硅片表面和拋光墊之間流動(dòng),然后研磨液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下,均勻分布其上,在硅片和拋光墊之間形成一層研磨液液體薄膜。馳光機(jī)電科技設(shè)備的引進(jìn)更加豐富了公司的設(shè)備品種,為用戶提供了更多的選擇空間。內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)

內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀報(bào)價(jià),實(shí)驗(yàn)室分析儀

儀器的主要參數(shù)為:測(cè)量范圍:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋轉(zhuǎn)速度可選:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤:CR-39聚合物(耐有機(jī)溶劑和水溶液),可選配:低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤;自動(dòng)密度梯度液生成器(型號(hào)AG300);自動(dòng)進(jìn)樣器(型號(hào)AS200);標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學(xué)衍射和散射的原理,從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集,濾波和準(zhǔn)直后,變成直徑約10mm的平行光束,該光束照射到待測(cè)的顆粒上,就發(fā)生了散射,散射光經(jīng)傅立葉透鏡后,照射到光電探測(cè)器上的任一點(diǎn)都對(duì)應(yīng)于某一確定的散射角。江西二氧化鈦粒度分析儀馳光機(jī)電科技有限公司誠(chéng)信、盡責(zé)、堅(jiān)韌。

內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀報(bào)價(jià),實(shí)驗(yàn)室分析儀

研磨液中的化學(xué)成分與硅片表面材料產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),將不溶的物質(zhì)轉(zhuǎn)化為易溶物質(zhì),或者將硬度高的物質(zhì)進(jìn)行軟化,然后通過磨粒的微機(jī)械摩擦作用將這些化學(xué)反應(yīng)物從硅片表面去除,溶入流動(dòng)的液體中帶走,即在化學(xué)去膜和機(jī)械去膜的交替過程中實(shí)現(xiàn)平坦化的目的。其反應(yīng)分為兩個(gè)過程:化學(xué)過程:研磨液中的化學(xué)品和硅片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成比較容易去除的物質(zhì);物理過程:研磨液中的磨粒和硅片表面材料發(fā)生機(jī)械物理摩擦,去除化學(xué)反應(yīng)生成的物質(zhì)。

系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng),減少了由于系統(tǒng)污染引起的計(jì)劃外停機(jī)維護(hù)時(shí)間。樣品預(yù)處理系統(tǒng):正確設(shè)計(jì)和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運(yùn)行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)針對(duì)這種復(fù)雜的工藝樣品,專門為低維護(hù)操作而設(shè)計(jì)。低維護(hù)的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達(dá)到2-3微米,減少了維護(hù)量。先進(jìn)的安全系統(tǒng),保護(hù)分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡(jiǎn)單校準(zhǔn)。標(biāo)準(zhǔn)的引入是一種手工操作,只需使用注射器即可,不需要定期重新校準(zhǔn),無樣本回收系統(tǒng)。馳光機(jī)電科技憑借多年的經(jīng)驗(yàn),依托雄厚的科研實(shí)力。

內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀報(bào)價(jià),實(shí)驗(yàn)室分析儀

如果能夠?qū)Υ呋瘎┰睾浚ㄢ?、錳和溴Br)進(jìn)行連續(xù)在線分析,可以更好地控制工藝,提高產(chǎn)品質(zhì)量和增加產(chǎn)量。C-Quand在線EDXRF分析儀:利用 C-Quand在線EDXRF分析儀對(duì)鈷、錳、溴三種催化劑進(jìn)行了同時(shí)和連續(xù)的分析。所使用的技術(shù)是由X射線管激發(fā)的能量分散X射線熒光,不需要放射源。在分析過程中,連續(xù)流動(dòng)過程樣品中的催化劑被X射線激發(fā),并發(fā)出其特征輻射。使用技術(shù)氣體比例計(jì)數(shù)器(GPC)檢測(cè)和分析這些放射X射線,并使用存儲(chǔ)的校準(zhǔn)曲線將其轉(zhuǎn)換為結(jié)果。馳光機(jī)電科技嚴(yán)格控制原材料的選取與生產(chǎn)工藝的每個(gè)環(huán)節(jié),保證產(chǎn)品質(zhì)量不出問題。黑龍江粒度分析儀廠家

馳光是多層次的團(tuán)體與管理模式。內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)

高靈敏度:即使只有1微克樣品,CPS也能得到一個(gè)準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果??焖?、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換:可用信號(hào)分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對(duì)象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精度,即百萬分之一的誤差??焖贆z測(cè)頭響應(yīng):CPS系統(tǒng)的檢測(cè)頭和電路設(shè)計(jì)允許在95%精度下0.1秒的響應(yīng)速度,而同類產(chǎn)品的響應(yīng)時(shí)間為1-4秒。這一出眾的快速移動(dòng)峰值檢測(cè)能力較大地?cái)U(kuò)展了測(cè)量的動(dòng)態(tài)范圍,比同類型產(chǎn)品提供高出4倍多的分析速度。內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)