山東高靈敏度納米粒度分析儀價格

能夠允許用戶為不同樣品設置標準測量方法SOP，并且可以對SOP進行編輯和保存。EyeTech 是一個模塊化的系統(tǒng)，可以選配10種不同的測量池。更換測量池簡便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測量池模塊都是配合不同的分析方法而開發(fā)的，確保能夠根據(jù)樣品的特性來測量。纖維測量池：ACM-104L，氣溶膠測量池ACM-106，微流量測量池ACM-108，載玻片測量池ACM-110，加熱測量池ACM-111，自由落體測量池ACM-112。在每一次分析過程中，激光光束與顆粒之間發(fā)生了上百萬次的交互作用。馳光機電始終以適應和促進工業(yè)發(fā)展為宗旨。山東高靈敏度納米粒度分析儀價格

標定CPS使用的標定顆粒都與美國標準和技術研究院(NIST)的其它標準進行過交叉對比，確保均值、峰寬或者半峰寬等方面的誤差在±2%之內(nèi)，而且顆粒的團聚性也符合要求?？蛇x標定顆粒：直徑小于10微米的標定顆粒通常以懸液的形式保存在水中，當然也可以保存在非水基懸液中。大于10微米可以有三種形態(tài)，水基懸液，非水基懸液或者干粉狀態(tài)。每一套標定顆粒都有其粒度分析結果和分析證書。應用實例：PEDOT及其復合材料的粒徑測量PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性。內(nèi)蒙古高靈敏度納米粒度分析儀價格馳光機電科技從國內(nèi)外引進了一大批先進的設備，實現(xiàn)了工程設備的現(xiàn)代化。

研磨液中的化學成分與硅片表面材料產(chǎn)生化學反應，將不溶的物質(zhì)轉化為易溶物質(zhì)，或者將硬度高的物質(zhì)進行軟化，然后通過磨粒的微機械摩擦作用將這些化學反應物從硅片表面去除，溶入流動的液體中帶走，即在化學去膜和機械去膜的交替過程中實現(xiàn)平坦化的目的。其反應分為兩個過程：化學過程：研磨液中的化學品和硅片表面發(fā)生化學反應，生成比較容易去除的物質(zhì)；物理過程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料發(fā)生機械物理摩擦，去除化學反應生成的物質(zhì)。

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內(nèi)拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致?lián)p害的產(chǎn)生。馳光愿與各界朋友攜手共進，共創(chuàng)未來！

測量低密度顆粒：示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質(zhì)液體密度的顆粒，CPS開發(fā)了一項新的技術技術(US Patent5,786,898)。很多用常規(guī)示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質(zhì)體)，現(xiàn)在可以方便地使用CPS進行分析，而且精度很高。速度調(diào)節(jié)：CPS開發(fā)了一種特殊的圓盤設計使得在分析過程中可以調(diào)節(jié)圓盤的轉速，而不會對沉降液體產(chǎn)生擾動，轉速可以在20倍范圍內(nèi)升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態(tài)范圍幾乎增大了20倍。馳光機電以顧客為本，誠信服務為經(jīng)營理念。CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

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印刷和涂料，涂料：水基和油基涂料，微纖維涂料粘度改性劑，打印機/復印件墨粉，噴墨打印機墨水，炭黑，磁性材料。半導體：微磨料，CMP化學機械拋光。其他：納米微球，淀粉/面粉顆粒，顆粒團聚模式分析，標準顆粒。CPS納米粒度分析儀的操作軟件集數(shù)據(jù)于一體，主要包括以下特性：后臺數(shù)據(jù)采集，允許測量時瀏覽數(shù)據(jù)；重量，表面積，數(shù)量和吸收分布圖；可以在同一張圖表上顯示20個不同的分布結果；可定制的分布統(tǒng)計輸出結果；完整的粒度分布統(tǒng)計。山東高靈敏度納米粒度分析儀價格