江西CPS高精度納米粒度分析儀廠家

因此，需要對(duì)其粒徑的分布進(jìn)行測(cè)試。而目前對(duì)炭黑的粒徑測(cè)量方法為差速沉淀法。由于常用的炭黑粒徑比較均勻，在測(cè)試時(shí)粒徑的分布常呈現(xiàn)正態(tài)曲線分布，但在裂解后炭黑中混有橡膠纖維，導(dǎo)致粒徑變大，不同粒徑炭黑的含量不同，不再呈現(xiàn)均勻的正態(tài)分布。造成樣品的測(cè)試比較困難。美國(guó)CPS24000納米粒度分析儀可以真實(shí)反映樣品在溶液中的真實(shí)粒徑分布狀態(tài)，粒徑測(cè)試結(jié)果的精確度只次于掃描電鏡。主要特點(diǎn)如下：所需樣品量少，每次只需要0.1ml，這在疫苗研發(fā)、化學(xué)合成方面具有較大的優(yōu)勢(shì)。馳光機(jī)電用先進(jìn)的生產(chǎn)工藝和規(guī)范的質(zhì)量管理，打造優(yōu)良的產(chǎn)品！江西CPS高精度納米粒度分析儀廠家

激光檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)顆粒對(duì)光的散射程度，根據(jù)米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對(duì)含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數(shù)：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選 配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤；自動(dòng)密度梯度液生成器（型號(hào)AG300）；自動(dòng)進(jìn)樣器（型號(hào)AS200）；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。半導(dǎo)體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。西藏納米粒度分析儀哪家好馳光機(jī)電科技產(chǎn)品適用范圍廣，產(chǎn)品規(guī)格齊全，歡迎咨詢。

對(duì)于粒徑分布范圍很寬的樣品，通過(guò)可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤，只需常規(guī)圓盤分析時(shí)間的1/20。經(jīng)過(guò)CPS納米粒度儀對(duì)裂解后炭黑進(jìn)行粒徑測(cè)試后的結(jié)果所示：與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致，裂解后的炭黑較小粒徑為3um，較大可至50多微米，并且出現(xiàn)很多峰值，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實(shí)反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。作為芯片制造不可或缺的一環(huán)，CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來(lái)是受歡迎的。

磨料的粒度測(cè)量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關(guān)鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過(guò)大聚集體為1-10微米，并出現(xiàn)在ppm范圍內(nèi)。顆粒表征的挑戰(zhàn)來(lái)自于精確確定納米級(jí)顆粒尺寸，同時(shí)還識(shí)別出相對(duì)較少的微米級(jí)聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來(lái)。馳光始終以適應(yīng)和促進(jìn)發(fā)展為宗旨。

CMP漿料粒度分析的難點(diǎn)在于必須在拋光過(guò)程中全濃度條件下快速測(cè)定平均顆粒直徑和粒度分布，因?yàn)橄♂尶赡軐?dǎo)致漿料穩(wěn)定性和粒度的變化(比如進(jìn)一步的團(tuán)聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測(cè)本來(lái)就較少量的團(tuán)聚體。CPS-24000型納米粒度分析儀是較新型的納米粒度分析儀，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來(lái)進(jìn)行粒度的測(cè)量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來(lái)。適用于稀到高濃度的樣品粒度測(cè)定，對(duì)團(tuán)聚體的存在非常敏感。馳光機(jī)電熱忱歡迎新老客戶惠顧。天津高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價(jià)格

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技術(shù)優(yōu)勢(shì)：CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎(chǔ)是它先進(jìn)的示差沉降技術(shù)。高轉(zhuǎn)速：CPS可以支持的較高轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。對(duì)于超細(xì)顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調(diào)節(jié)技術(shù)，可以對(duì)粒度分布范圍較廣的樣品進(jìn)行分析。對(duì)于在其它分析儀上很多非常耗時(shí)(數(shù)小時(shí)或更長(zhǎng))的樣品，CPS可以快速得到結(jié)果。高精度標(biāo)定：CPS系統(tǒng)使用已知的標(biāo)定顆粒進(jìn)行標(biāo)定，與美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)相兼容的標(biāo)準(zhǔn)保證了分析結(jié)果的一致性和精確度。使用內(nèi)標(biāo)法，也即把已知標(biāo)定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結(jié)果可以達(dá)到±0.25%的精度。江西CPS高精度納米粒度分析儀廠家