天津粒度分析儀價格

系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng)，減少了由于系統(tǒng)污染引起的計劃外停機(jī)維護(hù)時間。樣品預(yù)處理系統(tǒng)：正確設(shè)計和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運(yùn)行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場經(jīng)驗針對這種復(fù)雜的工藝樣品，專門為低維護(hù)操作而設(shè)計。低維護(hù)的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達(dá)到2-3微米，減少了維護(hù)量。先進(jìn)的安全系統(tǒng)，保護(hù)分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡單校準(zhǔn)。標(biāo)準(zhǔn)的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準(zhǔn)，無樣本回收系統(tǒng)。馳光機(jī)電不懈追求產(chǎn)品質(zhì)量，精益求精不斷升級。天津粒度分析儀價格

技術(shù)優(yōu)勢：CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎(chǔ)是它先進(jìn)的示差沉降技術(shù)。高轉(zhuǎn)速：CPS可以支持的較高轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。對于超細(xì)顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調(diào)節(jié)技術(shù)，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進(jìn)行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數(shù)小時或更長)的樣品，CPS可以快速得到結(jié)果。高精度標(biāo)定：CPS系統(tǒng)使用已知的標(biāo)定顆粒進(jìn)行標(biāo)定，與美國國家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)相兼容的標(biāo)準(zhǔn)保證了分析結(jié)果的一致性和精確度。使用內(nèi)標(biāo)法，也即把已知標(biāo)定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結(jié)果可以達(dá)到±0.25%的精度。福建高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀報價山東馳光機(jī)電科技有限公司重信譽(yù)、守合同，嚴(yán)把產(chǎn)品質(zhì)量關(guān)，熱誠歡迎廣大用戶前來咨詢考察，洽談業(yè)務(wù)！

因此，需要對其粒徑的分布進(jìn)行測試。而目前對炭黑的粒徑測量方法為差速沉淀法。由于常用的炭黑粒徑比較均勻，在測試時粒徑的分布常呈現(xiàn)正態(tài)曲線分布，但在裂解后炭黑中混有橡膠纖維，導(dǎo)致粒徑變大，不同粒徑炭黑的含量不同，不再呈現(xiàn)均勻的正態(tài)分布。造成樣品的測試比較困難。美國CPS24000納米粒度分析儀可以真實反映樣品在溶液中的真實粒徑分布狀態(tài)，粒徑測試結(jié)果的精確度只次于掃描電鏡。主要特點(diǎn)如下：所需樣品量少，每次只需要0.1ml，這在疫苗研發(fā)、化學(xué)合成方面具有較大的優(yōu)勢。

UHR型可達(dá)1%，良好性能：CPS高精度納米粒度分析儀能夠提供高分辨率準(zhǔn)確的分析結(jié)果，即使對于使用其它分析方法非常難分析的樣品，CPS依然能夠提供滿意的分析結(jié)果。高分辨率：CPS具有強(qiáng)大的分辨率，粒徑差別在2%以內(nèi)的窄峰可以被完全分辨出來。所示樣品包含五種不同的聚苯乙烯標(biāo)定顆粒，在圖中可以清楚地看到它們完全被分辨出來呈現(xiàn)為五個單獨(dú)的粒度峰。高準(zhǔn)確度：可追溯&校準(zhǔn)到NIST標(biāo)準(zhǔn)顆粒的可靠、重復(fù)性結(jié)果。高精度：與SEM/顯微鏡分析結(jié)果的對比。馳光機(jī)電敢于承擔(dān)、克難攻堅。

提供數(shù)量、面積和體積等指標(biāo)的平率分布圖和表、累計分布圖和表格粒度和粒型參數(shù)分布的結(jié)果；能夠自動產(chǎn)生實驗結(jié)果world報告。激光和視頻分析產(chǎn)生的信息，很容易通過直觀的數(shù)據(jù)報表軟件得到。測量結(jié)果可以各種表格和圖顯示出來，這些表格和圖可以由用戶選擇，以便正確顯示需要的信息。通過數(shù)據(jù)挖掘技術(shù)，很容易實現(xiàn)數(shù)據(jù)比較和分析，允許對覆蓋圖和比較表進(jìn)行編輯。輕點(diǎn)一下鼠標(biāo)，就能生成Word格式的樣品分析報告，該文件包括樣品制備、粒徑和粒形結(jié)果，還帶有圖像或視頻信息。馳光機(jī)電生產(chǎn)的產(chǎn)品受到用戶的一致稱贊。吉林激光粒度粒形分析儀哪家好

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而化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關(guān)鍵制程，國內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進(jìn)行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認(rèn)真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導(dǎo)致?lián)p害的產(chǎn)生。天津粒度分析儀價格