高精密平面研磨機(jī)可以實(shí)現(xiàn)鏡面效果,光潔度可以比較高達(dá)到，加工范圍很廣，可以對藍(lán)寶石襯底，水晶，硅片，光電材料，光學(xué)玻璃，手機(jī)玻璃，手機(jī)觸摸屏，陶瓷片，石英片，石墨密封環(huán)，硅晶圓等非金屬材質(zhì)進(jìn)行雙面研磨，還能對銅材，鐵，鋁材，不銹鋼，模具鋼，塑料，鋁合金，鋅合金，鈦合金，鎳合金，錫合金，硬質(zhì)合金，碳鋼，鎢鋼等各種金屬材質(zhì)進(jìn)行雙面研磨加工。高精密平面研磨機(jī)采用獨(dú)特的安全鎖緊機(jī)構(gòu),防止意外斷氣、斷電而“掉盤”傷人的意外發(fā)生,主要用于各類型的鋁材面拋光，有平面、斜面、圓面、圓弧面以及凹槽面及其他。根據(jù)所加工的要求可以選用適合要求的拋光輪來滿足工件所需要的高速有效的去除掉擠壓痕、自然氧化膜，同時具備拋光的功能,該系列拋光機(jī)已被廣的用于各類如LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、不銹鋼等等各類材料的單面的研磨。海德平面研磨拋光機(jī)HD-610屬高精密平面研磨機(jī)，研磨機(jī)的精密度為平面度可達(dá)，粗糙度可達(dá)。廣用于藍(lán)寶石鐘表玻璃、手機(jī)玻璃、光學(xué)玻璃晶片、LED藍(lán)寶石襯底、陶瓷板、活塞環(huán)、閥片、鋁鐵硼、鐵氧體、鈮酸鋰、鉭酸鋰、PTC熱敏電阻、光盤基片、陶瓷密封環(huán)、硬質(zhì)合金密封環(huán)、鎢鋼片、等各種材料的單雙面研磨拋光。
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平面拋光機(jī)在使用磨料進(jìn)行加工的各道研磨工序中，被研表面光潔度主要是大量磨粒切削刃尖在被研表面上所形成的無數(shù)切痕互相重迭的結(jié)果。從總的方面來說，被研表面光潔度的高低，取決于磨粒的粗細(xì)，或者說取決于磨粒壓下工件表面的深度及通過工件單位橫截表面的有效磨粒數(shù)量。但在實(shí)際研磨過程中，并不僅是選擇了細(xì)的磨料(如)，就能研出理想的表面光潔度來(如▽14)，還有很多因素影響工件在平面拋光機(jī)中的研磨質(zhì)量。試作如下分析：選擇合適的磨料粒度磨料的粒度愈小，獲得的表面光潔度就愈高。如要進(jìn)一步提高表面光潔度，可對使用的磨料再次分選，這樣使磨粒的大小均勻程度及基本顆粒的數(shù)量比，都可以得到改善。對一般的敷砂研磨來說，滾動的磨粒數(shù)量愈少，表面光潔度愈就高。為了提高表面光潔度，可用浸煤油的棉花將敷砂粒擦凈，再作一次干研磨，其加工量為～1微米。當(dāng)研磨軟質(zhì)材料工件時，磨粒容易嵌入工件表面，使研痕加深，從而破壞了表面光潔度。為了得到較高的表面光潔度，可采用嵌砂研具或者材質(zhì)軟的研具進(jìn)行研磨。一般說來，被研表面光潔度是隨著被研工件材料硬度的增加而得到改善的，因此，對于淬硬鋼工件表面光潔度的提高，可通過提高淬火硬度的方法來達(dá)到。
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淺談平面超精研磨工藝煤直接液化裝置上用的金屬密封球閥,其嚴(yán)苛工況對密封面粗糙度和平面度提出更高的要求，采用傳統(tǒng)的研磨工藝，加工后的零件表面粗糙度只達(dá)到，無法滿足超精密封技術(shù)要求，超精研磨工藝研究已然成為閥門行業(yè)的一個重要課題。下面對平面密封面技術(shù)要求進(jìn)行簡要分析以規(guī)格為6"，2500LB煤化工樣機(jī)平面密封面技術(shù)要求為例，其閥體和閥座零件密封面材質(zhì)分別為STL21和NI-WC，硬度均≥45HRC，光潔度要求，平面度要求。尤其閥體平面密封面處于內(nèi)孔底面，具體如圖1所以，技術(shù)要求難點(diǎn)主要體現(xiàn)在如下兩方面：(1)平面度要求較高。采用車削加工方式，在切削條件理想狀態(tài)下精度可保持在(因密封面所處位置原因，無法采用磨削方式加工)。(2)粗糙度要求較高。常規(guī)切削方式粗糙度保持在，無法達(dá)到。超精研磨加工在結(jié)合傳統(tǒng)的研磨工藝基礎(chǔ)上超精研磨各個工藝環(huán)節(jié)的影響因素進(jìn)行分析，形成圖2所示超精研磨工藝的輸入樹形結(jié)構(gòu)圖。研磨劑(1)磨料碳化硼(B4C)是已知堅硬的三種材料之一，具有高硬度、高耐磨性和易碎性較低等特性，并且在研磨過程中破碎后仍保持一定的鋒刃，可作為硬質(zhì)合金材料(尤其對于NI-WC密封面，其硬度≥63HRC)研磨磨料優(yōu)先。
研磨運(yùn)動應(yīng)該保證工件能夠均勻地接觸帶研磨拋光盤的全部表面。這樣可使其能夠表面均勻受載、均勻磨損，因而還才可以長久地保持研具本身的表面精度。在研磨運(yùn)動中，研具與工件之間應(yīng)處于還處于浮動的狀態(tài)，而不應(yīng)是強(qiáng)制的限位狀態(tài)。這樣可以使工件與研磨拋光盤的表面能夠更好地接觸，把研具表面的幾何形狀能夠準(zhǔn)確有效地傳遞給工件，從而不會受到研磨拋光機(jī)本身精度的過多影響。研磨運(yùn)動應(yīng)保證工件受到均勻研威即被研工件表面上的每一點(diǎn)所運(yùn)動的路程應(yīng)相等。這就需要研磨運(yùn)動比較好能夠作平面平行運(yùn)動，而這種運(yùn)動是能夠可使工件表面上任意兩點(diǎn)的連成線，在整個研磨運(yùn)動中，都能夠始終保持平行，這對于保證工件的幾何形狀的精度以及尺寸均勻程度來說是至為重要的。所選用的研磨運(yùn)動應(yīng)使運(yùn)動軌跡不斷有規(guī)律地改變方向，盡量避免過早地出現(xiàn)重復(fù)。這樣可以就可以使工件表面上的無數(shù)的切削條痕能夠有規(guī)律地相互交錯抵消，慢慢的越研越平，進(jìn)而達(dá)到提高工件所要求的人表面精度的終目的。在研磨拋光機(jī)運(yùn)動時，研磨運(yùn)動還應(yīng)該根據(jù)不同的研磨工藝要求，具體的選取比較好運(yùn)動研磨速度。比如，當(dāng)進(jìn)行加工細(xì)長的大尺寸工件的時候，需要選取低速研磨，主要是由于所得到精度更高。為防止研磨過程中磨料鑲嵌密封面表面，采用羊毛氈拋光輪上沾一定金屬拋光膏拋光，達(dá)到清理表面殘余磨料。
選擇正確的研磨運(yùn)動軌跡，關(guān)于研磨運(yùn)動軌跡的種類與特點(diǎn)，在前面已講過，實(shí)踐表明，不同的研磨軌跡對被研表面光潔度的影響亦不同，其中，直線往復(fù)式研出的表面光潔度比較低，這是出為運(yùn)動的方向性強(qiáng)，單純的直線往復(fù)運(yùn)動其研磨紋路足平行的，如使切痕重復(fù)加深，則不利于表面光潔度的改善。而其它如擺線式、正弦曲線式及不規(guī)則圓環(huán)線式研磨軌跡的共同特點(diǎn)是，運(yùn)動的方向在不斷地變化，研磨紋路是縱橫交錯的，在一定的研磨條件下，可研出較理想的表面光潔度來。實(shí)踐表明，在所用壓力范圍內(nèi)工件表面光潔度隨著研磨壓力的增加而降低。從某種意義上說，研磨的切削能力和工件表面光潔度是由研磨壓力來決定的。對于研磨壓力的增加，在同樣研磨條件下磨粒承受的載荷也增加。如果研磨壓力過大，使磨粒切入深度加深，切削作用加快，磨料的粉碎也加快，這時工件所獲得的表面光潔度就較差。為此，要獲得較高的表面光潔度，則需合理地選擇研磨壓力。在選擇研磨壓力時，首先應(yīng)按工件的精度要求，來選擇合理的研磨速度，被研材料的硬度及潤滑劑的選用等。在平面研主要原因機(jī)加工工件時，除了上述影響因素以外，研具的質(zhì)量。 適合于超精研磨用研具，但不允許存在縮孔、縮松以及氣孔、夾砂、砂眼、斷裂等鑄造缺陷。重慶精密平面加工廠家
具體分析為磨粒具有一定的抗壓強(qiáng)度極限，當(dāng)超過此極限時就會被壓碎，使磨料變細(xì)，研磨能力下降。廣東精密加工平面打磨
拋光液的性能對工件雙面拋光的影響拋光液的性能直接影響到拋光后工件的表面質(zhì)量，是雙面拋光的關(guān)鍵要素之一。拋光液一般包括超細(xì)的固體磨粒(如納米A120:及Si0:磨粒等)、表面活性劑以及氧化劑和穩(wěn)定劑等幾部分，其中固體磨粒產(chǎn)生切削作用，去除發(fā)生化學(xué)變化需要切除的部位，氧化劑產(chǎn)生化學(xué)腐蝕溶解作用，溶解切屑。在拋光過程中，拋光液中磨粒的種類、形狀、大小、濃度、化學(xué)成分、PH值、粘度、流速和流動的途徑都會對去除速度產(chǎn)生影響。對不同材料的工件進(jìn)行拋光時，所需要拋光液的成份、PH值也不盡相同同。PH值影響工件的表面質(zhì)量和去除率表現(xiàn)在對磨料的分解與溶解度、被拋表面刻蝕及氧化膜的形成、懸浮度(膠體穩(wěn)定性)等方面，因此需要嚴(yán)格控制拋光液的PH值。當(dāng)處于拋光氧化物時，拋光液一般選取Si0:作為磨料，PH值控制在10以上;而拋光金屬時，拋光液一般選用酸性的，保證PH值在較小的數(shù)值，以便保持極高的工件去除率。磨粒按硬度可分為軟磨粒和硬磨粒兩類。常用的磨粒包括氧化鋁系、碳化物系、超硬磨料系和軟磨料系4類。拋光用磨粒需具有下列性能:(1)磨粒形狀和尺寸均勻一致，保持在一定范圍;(2)磨粒的熔點(diǎn)要比工件的熔點(diǎn)高;(3)磨粒能適當(dāng)?shù)仄扑?，使切刃變鋒利。 廣東精密加工平面打磨