深圳精密平面磨

來源: 發(fā)布時間:2023-10-30

    超精密雙面拋光加工應(yīng)用化學(xué)機(jī)械拋光(cNrn)技術(shù),靠工件、磨粒、拋光液及拋光盤的力學(xué)作用,在工件的拋光過程中,產(chǎn)生局部的高溫和高壓,從而使直接的物理化學(xué)變化直接發(fā)生在工件與磨粒、拋光液及拋光盤之間,導(dǎo)致工件的表面產(chǎn)生物理化學(xué)變化的反應(yīng)物。由于力學(xué)作用與化學(xué)作用的重迭,使得工件表面的反應(yīng)物不斷被磨去,從而使工件表面平滑化。雙面拋光技術(shù)是在單面拋光加工技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,由于它在薄片工件的加工過程中能有效地避免應(yīng)力差與粘結(jié)誤差引起的變形問題。因此與單面拋光加工相比,雙面拋光具有加工效率高,表面變形小,易獲得超光滑加工表面的優(yōu)點。一般的超精密雙面拋光系統(tǒng)是由承載工件和下拋光盤的工作臺、施加載荷的上拋光盤、帶動工件旋轉(zhuǎn)運動的行星輪以及供給拋光液的裝置四大構(gòu)件組成,在雙面拋光的過程中,由于拋光液與拋光墊之間的物理運動,導(dǎo)致拋光液內(nèi)部的化學(xué)溶液以及磨粒于工件產(chǎn)生化學(xué)變化,同時在上拋光盤對工件的旋轉(zhuǎn)壓力的作用下,使工件表面產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)物得到切除。其原理就是,在不斷的化學(xué)變化中工件表面生成一種化學(xué)膜,同時由于旋轉(zhuǎn)機(jī)械摩擦切除作用去除這一層化學(xué)膜,在不停地交替中獲得超精密表面。 深圳銘豐慶是一家專業(yè)生產(chǎn)加工平面磨五金件的公司,有需求可以來電咨詢!深圳精密平面磨

    研磨機(jī)是用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進(jìn)行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。用于材料的單面研磨、拋光。產(chǎn)品簡介編輯研磨機(jī)是用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進(jìn)行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。2主要用途編輯平面研磨機(jī)廣用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。3工作原理編輯平面研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋材料放于平整的研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動,修正輪帶動工件自轉(zhuǎn),重力加壓或其它方式對工件施壓,工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦,來達(dá)到研磨拋光目的。產(chǎn)生磨削作用的磨料顆粒有兩種來源,一種來自于不斷外加(常稱為游離磨料);另一種方法是將磨料顆粒固定在研磨盤中(常稱為固著磨料)。4保養(yǎng)方法編輯減速箱1、新減速箱使用時,于運轉(zhuǎn)300小時后需更換新油,其后每使用1500小時需更換潤滑油,在使用過程中仍應(yīng)定期檢查油的質(zhì)量,若少油應(yīng)及時補(bǔ)加,若油有變質(zhì)、老化情況,必須即時更換。2、減速箱應(yīng)使用固定品牌,號碼之潤滑油,一定不允許將不同品牌。

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    對外延片以Lapping的方式雖然加工品質(zhì)較好。但是移除率太低,比較高也只能達(dá)到3um/min左右,如果全程使用Lapping的話,此加工就需耗時約2h,時間成本過高。目前的解決方式是在Lapping之前加入Grinding的制程,通過鉆石砂輪與減薄機(jī)的配合來達(dá)到快速減薄的目的。,既能達(dá)到較高的移除率,又能修復(fù)Grinding制程留下的較深刮傷。一般來說切割過程中發(fā)生裂片都是由于Grinding制程中較深的刮傷沒有去除,因此此時對鉆石液的要求也比較高。除了裂片之外,有些芯片廠家為了增加芯片的亮度,在Lapping的制程之后還會在外延片背面鍍銅,此時對Lapping之后的表面提出了更高的要求。雖然有些刮傷不會引起裂片,但是會影響背鍍的效果。此時可以采用3um多晶鉆石液或者更小的細(xì)微性來進(jìn)行Lapping制程,以達(dá)到更好的表面品質(zhì)。

    磨料對平面拋光效果的影響平面拋光過程中磨料的作用是借助于機(jī)械力,將晶片表而經(jīng)化學(xué)反應(yīng)后形成的鈍化膜去除,從而達(dá)到表而平整化的目的。日前常用的磨料有膠體SiO2、Al2O3及CeO2等。磨料的種類決定了磨粒的硬度、尺寸,從而影響拋光效果。拋光鋁實驗中,相對于SiO2、Al2O3磨料能獲得較好的表而平整度,表而刮痕數(shù)量少、尺寸小,其原因是膠體SiO2磨粒尺寸小,拋光時磨料嵌入晶片表面的深度較小,并且在推薦其它參數(shù)的情況下,也能獲得很高的拋光效率。磨料的濃度會影響拋光效果。拋光鋁實驗中,隨著磨料(膠體SiO2)濃度的提高,單位而積參與磨削的磨粒數(shù)日增加,所以拋光效率提高,表而刮痕尺寸緩慢增人或基本保持不變;但磨料濃度過人時,拋光液的粘性增人,流動性降低,影響加工表而氧化層的有效形成,導(dǎo)致拋光效率降低。磨粒的尺寸也會對拋光效果產(chǎn)生影響,磨粒尺寸越小,表而損傷層厚度小。據(jù)統(tǒng)計,在硅片的精拋過程中,每次磨削層的厚度為磨粒尺寸的四分之一。為了有效地減小表而粗糙度和損傷層厚度,通常采用小尺寸的膠體硅(15~20nm)來代替粗拋時的膠體硅(50~70rnm);同時通過加強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)及提高產(chǎn)物的排除速度來提高拋光效率。 五金平面精密磨加工生產(chǎn)銷售,就選深圳銘豐慶,有需求可以來電咨詢!

    什么機(jī)器適合加工藍(lán)寶石?藍(lán)寶石就是氧化鋁,硬度9。普通研磨材料難以加工。因此現(xiàn)在一般都用金剛石做研磨材料。粗磨一般用電鍍金剛石平面磨盤。研磨用樹脂結(jié)合劑的金剛石軟磨片,逐級增大目數(shù)直到3000目換BUFF片??梢杂貌驾喭拷饎偸心ジ噙M(jìn)行拋光。金剛石顆粒有極強(qiáng)的研磨性,前一級的大顆粒的金剛石碎屑必須仔細(xì)去除,避免帶入下一級研磨中。否則會出現(xiàn)難以去除的劃痕。對于數(shù)量較少的情況下,一般可以采用一般的平面拋光機(jī)或者平面拋光設(shè)備來加工。若需要加工雙面,也可以采用這一類型的藍(lán)寶石拋光機(jī)。他們的好處就是操作便利。當(dāng)需要對LED藍(lán)寶石襯底雙面研磨或拋光進(jìn)行批量雙面加工時,一般采用較大型號的雙面拋光機(jī)來充當(dāng)藍(lán)寶石的拋光機(jī)。它一次性加工數(shù)量要在40片以上,一般適合加工厚度在5u以上的藍(lán)寶石片。上下平面的平行度也很高。批量生產(chǎn)LED藍(lán)寶石襯底除了可以采用雙面拋光機(jī),還可以采用新開發(fā)的藍(lán)寶石的拋光機(jī)新系列設(shè)備。該套設(shè)備包含藍(lán)寶石貼片機(jī)、藍(lán)寶石的拋光機(jī),其貼片研磨拋光過程都經(jīng)過了更加嚴(yán)密的設(shè)計與開發(fā),是韓國進(jìn)口藍(lán)寶石的拋光機(jī)低成本的優(yōu)先設(shè)備。對于一些研究所,批量生產(chǎn)不是必須,但更精密加工是他們的關(guān)注點。 深圳銘豐慶集平面磨五金加工生產(chǎn)和銷售為一體,歡迎您的來電!江蘇精磨平面精密磨

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    超精密平而研磨是超精密加工中重要的方法之一,在制造業(yè)占有非常重要的地位且有著廣闊的市場需求,光學(xué)鏡而、計算機(jī)芯片、量塊等都是使用超精密平而研磨加工出來的。超精密平而研磨過程中,如果研磨工藝參數(shù)配置不合理,如研磨壓力選用不合適、磨盤硬度選用不合理、磨料尺寸分散性較大等,都會影響工件的加工效率及加工質(zhì)量。研磨壓力是影響研磨加工的效率的主要因素,同時對加工質(zhì)量也有影響。其它條件一致的前提下,如果研磨壓力在一定范圍內(nèi)增大,工件表面磨粒劃痕相對深一些,表而粗糙度也會變大,但當(dāng)研磨壓力增加到一定程度后,表而粗糙度不再隨壓力增加發(fā)生變化而基木保持不變。研磨效率隨著研磨壓力地增大而基木成正比地提高,但是研磨壓力也不可以無限制地增加,過大的壓力可能引起試件的破碎以及磨粒的壓碎等問題。研磨的作用是會隨著研磨壓力的提高而增加,在平面研磨機(jī)進(jìn)行研磨時,壓力增加后,磨粒的嵌進(jìn)工件比較深,切屑也會增加,在研磨壓力應(yīng)用范圍內(nèi),研磨壓力主要是通過人力或者是機(jī)械方方通過重量壓力所產(chǎn)生的。研磨壓力需要作者精細(xì)調(diào)整,均勻分布在整個加工面上,力主要是作用在工件表面和磨盤之間,可以有效避免工件產(chǎn)生變形。 深圳精密平面磨