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MOS管,即金屬(Metal)一氧化物(Oxide)一半導(dǎo)體(Semiconductor)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,是一種應(yīng)用場(chǎng)效應(yīng)原理工作的半導(dǎo)體器件。和普通雙極型晶體管a相比,MOS管具有輸入阻抗高、噪聲低、動(dòng)態(tài)范圍“大、功耗小、易于集成等優(yōu)勢(shì),在開關(guān)電源a、鎮(zhèn)流器、高頻感應(yīng)加熱、高頻逆變焊機(jī)、通信電源等高頻電源領(lǐng)域得到了越來(lái)越普遍的應(yīng)用。MOS管的種類及結(jié)構(gòu)MOS管是FET的一種(另一種為JFET結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管a),主要有兩種結(jié)構(gòu)形式:N溝道型和P溝道型;又根據(jù)場(chǎng)效應(yīng)原理的不同,分為耗盡型(當(dāng)柵壓為零時(shí)有較大漏極電流)和增強(qiáng)型(當(dāng)柵壓為零,漏極電流也為零,必須再加一定的柵壓之后才有漏極電流)兩種。因此,MOS管可以被制構(gòu)成P溝道增強(qiáng)型、P溝道耗盡型a、N溝道增強(qiáng)型、N溝道耗盡型4種類型產(chǎn)品。 MOS管的尺寸對(duì)其性能有何影響?尺寸縮小對(duì)MOS管有何意義?重慶車規(guī)級(jí)MOS管工廠
MOS管是金屬(metal)、氧化物(oxide)、半導(dǎo)體(semiconductor)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,或者稱是金屬—絕緣體(insulator)、半導(dǎo)體。MOS管的source和drain是可以對(duì)調(diào)的,他們都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下,這個(gè)兩個(gè)區(qū)是一樣的,即使兩端對(duì)調(diào)也不會(huì)影響器件的性能。這樣的器件被認(rèn)為是對(duì)稱的。
P溝道MOS晶體管的空穴遷移率低,因而在MOS晶體管的幾何尺寸和工作電壓闕值相等的情況下,PMOS晶體管的跨導(dǎo)小于N溝道MOS晶體管。此外,P溝道MOS晶體管閾值電壓的闕值一般偏高,要求有較高的工作電壓。它的供電電源的電壓大小和極性,與雙極型晶體管——晶體管邏輯電路不兼容。 重慶汽車MOS管經(jīng)銷商MOS管可以用于放大、開關(guān)、濾波等電路。
MOS管工作原理
1、N溝道增強(qiáng)型場(chǎng)效應(yīng)管原理N溝道增強(qiáng)型MOS管在P型半導(dǎo)體上生成一層SiO2薄膜絕緣層,然后用光刻工藝擴(kuò)散兩個(gè)高摻雜的N型區(qū),從N型區(qū)引出電極(漏極D、源極S9);在源極和漏極之間的SiO2絕緣層上鍍一層金屬鋁作為柵極G;P型半導(dǎo)體稱為襯底,用符號(hào)B表示。由于柵極與其它電極之間是相互絕緣的,所以NMOS又被稱為絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管a。當(dāng)柵極Ga和源極S之間不加任何電壓,即VGS=0時(shí),由于漏極和源極兩個(gè)N+型區(qū)之間隔有P型襯底,相當(dāng)于兩個(gè)背靠背連接的PN結(jié),它們之間的電阻高達(dá)1012Ω,即D、S之間不具備導(dǎo)電的溝道,所以無(wú)論在漏、源極之間加何種極性的電壓,都不會(huì)產(chǎn)生漏極電流ID。
N溝道耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管原理:N溝道耗盡型MOS管的結(jié)構(gòu)與增強(qiáng)型MOS管結(jié)構(gòu)類似,只有一點(diǎn)不同,就是N溝道耗盡型MOS管9在柵極電壓VGS=0時(shí),溝道已經(jīng)存在。這是因?yàn)镹溝道是在制造過(guò)程中采用離子注入。法預(yù)先在D、S之間襯底的表面、柵極下方的SiO2絕緣層中摻入了大量的金屬正離子,該溝道亦稱為初始溝道。當(dāng)VGS=0時(shí),這些正離子已經(jīng)感應(yīng)出反型層,形成了溝道,所以只要有漏源電壓,就有漏極電流存在;當(dāng)VGS>0時(shí),將使ID進(jìn)一步增加;VGS<0時(shí),隨著VGS的減小,漏極電流逐漸減小,直至ID=0。對(duì)應(yīng)ID=0的VGS稱為夾斷電壓或閾值電壓,用符號(hào)VGS(off)或Up表示。由于耗盡型MOSFET在VGS=0時(shí),漏源之間的溝道已經(jīng)存在,所以只要加上VDS,就有ID流通。如果增加正向柵壓VGSa,柵極與襯底之間的電場(chǎng)將使溝道中感應(yīng)更多的電子,溝道變厚,溝道的電導(dǎo)增大。 MOS管可以用于制作數(shù)字電路和模擬電路。
MOS管的應(yīng)用場(chǎng)景數(shù)字電路:MOS管的高速開關(guān)和低功耗使其非常適合用于數(shù)字電路,例如微處理器和數(shù)字信號(hào)處理器。放大器:MOS管的高輸入阻抗和低噪聲使其非常適合用于放大器和傳感器等需要高靈敏度的應(yīng)用。電源管理:MOS管的低功耗和高效率使其非常適合用于電源管理,例如電池充電器和DC-DC轉(zhuǎn)換器。通信系統(tǒng):MOS管的高速開關(guān)和低功耗使其非常適合用于通信系統(tǒng),例如無(wú)線電和衛(wèi)星通信。汽車電子:MOS管的高可靠性和低功耗使其非常適合用于汽車電子,例如發(fā)動(dòng)機(jī)控制和車載娛樂系統(tǒng)。 mos管的三個(gè)極電壓關(guān)系。車規(guī)級(jí)MOS管怎么買
MOS管的種類和結(jié)構(gòu),還有MOS管的4種類型。重慶車規(guī)級(jí)MOS管工廠
MOS管是一種常見的半導(dǎo)體器件,廣泛應(yīng)用于各種電子設(shè)備中。然而,由于各種原因,MOS管可能會(huì)出現(xiàn)失效現(xiàn)象,導(dǎo)致設(shè)備無(wú)法正常工作。本文將介紹MOS管的失效模式及其原因。電壓應(yīng)力失效電壓應(yīng)力失效是MOS管常見的失效模式之一。當(dāng)MOS管承受過(guò)高的電壓應(yīng)力時(shí),會(huì)導(dǎo)致氧化層損壞、漏電流增加、擊穿等現(xiàn)象,會(huì)導(dǎo)致器件失效。電壓應(yīng)力失效通常分為以下幾種類型:(1)氧化層擊穿:當(dāng)MOS管承受過(guò)高的電場(chǎng)時(shí),氧化層會(huì)發(fā)生擊穿,導(dǎo)致漏電流增加,會(huì)導(dǎo)致器件失效。(2)漏電流增加:當(dāng)MOS管承受過(guò)高的電場(chǎng)時(shí),漏電流會(huì)增加,導(dǎo)致器件失效。(3)柵極氧化層損壞:當(dāng)MOS管承受過(guò)高的電場(chǎng)時(shí),柵極氧化層會(huì)發(fā)生損壞,導(dǎo)致漏電流增加,會(huì)導(dǎo)致器件失效。 重慶車規(guī)級(jí)MOS管工廠