株洲高溫釹鐵硼磁鐵

    但是這種方法提高的矯頑力幅度有限。三、細(xì)化氣流磨粉的粒徑。但是當(dāng)粉末粒徑小到一定值時(shí)，顆粒容易氧化，影響剩磁。四、利用晶界擴(kuò)散重稀土的方法。利用重稀土晶界擴(kuò)散的方法可以有效的增加磁體的形核場(chǎng)，進(jìn)而增加磁體的矯頑力。其工藝的優(yōu)點(diǎn)是：重稀土利用量少，剩磁沒(méi)有明顯降低。目前為止，晶界擴(kuò)散的主要技術(shù)包括電泳沉積、射頻濺射、離子鍍、噴涂和浸漬重稀土等方法，射頻濺射和離子鍍的方法設(shè)備成本高、靶材的利用率低。電泳沉積是利用電場(chǎng)的作用力將重稀土粒子沉積到磁體的表面。噴涂法和浸漬法是將混有粘接劑的重稀土粒子涂覆在磁體表面。但是為了促使粘接劑的揮發(fā)減小粘接劑對(duì)磁性能的影響會(huì)使熱處理的時(shí)間加長(zhǎng)。還有**報(bào)道在半致密燒結(jié)釹鐵硼磁體的表面涂覆dy2o3、tb2o3、dyf3、dyh3等顆粒以增加附著力，這種方式的缺點(diǎn)是磁體的致密化程度難把握。還有**利用靜電吸附噴槍來(lái)提高粉末與磁體的吸附問(wèn)題。其磁體和粉末之間合適的電壓和電流很難把握，所以據(jù)目前為止沒(méi)有工業(yè)化。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的在于提供一種提升釹鐵硼磁體矯頑力的方法，能夠有效解決現(xiàn)有工藝生產(chǎn)釹鐵硼磁體矯頑力低的問(wèn)題。為了解決上述技術(shù)問(wèn)題。釹鐵硼永磁材料（也稱為NdFeB，強(qiáng)力磁鐵）是當(dāng)今商業(yè)磁性材料市場(chǎng)**強(qiáng)永磁體，其比較大能量積為26MGOe至52MGOe。株洲高溫釹鐵硼磁鐵

    本發(fā)明涉及一種提升釹鐵硼磁體矯頑力的方法。背景技術(shù)：燒結(jié)釹鐵硼磁體作為第三代稀土永磁材料，具有高的飽和磁化強(qiáng)度，其理論值ms為。目前，其工業(yè)水平制備磁體其飽和磁化強(qiáng)度達(dá)。其高剩磁的特性促使了電子器件的小型化和輕型化。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，燒結(jié)釹鐵硼的應(yīng)用領(lǐng)域越來(lái)越廣，永磁電機(jī)、風(fēng)力發(fā)電、核磁共振、智能機(jī)器人等領(lǐng)域都對(duì)該永磁體有大量的需求。以永磁電機(jī)為例，永磁電機(jī)的設(shè)計(jì)和使用替代了電磁線圈的使用，其發(fā)展降低電能的使用，消除了電磁線圈工作時(shí)的放熱問(wèn)題，改善了電機(jī)的運(yùn)行穩(wěn)定性。但是，燒結(jié)釹鐵硼的居里溫度低、溫度穩(wěn)定性差的缺點(diǎn)制約了釹鐵硼的應(yīng)用。其影響燒結(jié)釹鐵硼溫度穩(wěn)定性的關(guān)鍵因素是釹鐵硼自身的磁晶各向異性參數(shù)、晶粒邊界處的形核場(chǎng)、磁性顆粒間的相互作用。提高磁體穩(wěn)定性的方法有：一、在熔煉階段添加co元素，提升磁體的溫度穩(wěn)定性，這種方法的缺點(diǎn)是添加co元素的量較多、成本較高，并且影響了磁體的剩磁。二、盡可能多的磁性顆粒間增加薄層晶界相以減小磁性顆粒間的相互作用；增加薄層晶界相的主要方法是在熔煉階段添加低熔點(diǎn)元素如al和cu等；或在氣流磨后的混粉階段添加低熔點(diǎn)的粉料，利用雙合金法制備磁體，以提高磁體的矯頑力。株洲高溫釹鐵硼磁鐵俗話說(shuō)“藥材好，藥才好“，這句話非常適用于燒結(jié)釹鐵硼磁體的生產(chǎn)，好的原材料是生產(chǎn)質(zhì)量磁材的基礎(chǔ)。

    本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：一種提升釹鐵硼磁體矯頑力的方法，包括以下步驟，a、將燒結(jié)的釹鐵硼磁體切割成需要的形狀后進(jìn)行清洗；b、將干燥的重稀土粉和酒精混合，按質(zhì)量比，重稀土粉：酒精為1:1-1:2；c、將步驟b混合后的粉料進(jìn)行球磨，球磨到重稀土的粉末粒徑在200-400nm之間；d、在濕度小于40％rh的環(huán)境中，將步驟c得到的粉料經(jīng)過(guò)浸漬或者噴涂方式均勻的涂在步驟a的磁體表面；e、將步驟d得到的涂粉磁體放入真空燒結(jié)爐內(nèi)，待真空度達(dá)到10-3mpa時(shí)，開(kāi)始加熱，進(jìn)行時(shí)效處理，一級(jí)時(shí)效的溫度為850℃-1000℃，時(shí)效時(shí)間為8-10小時(shí)，二級(jí)時(shí)效溫度為450℃-550℃，時(shí)效時(shí)間為3-5小時(shí)，得到成品。推薦的，所述步驟a中，清洗方式為：釹鐵硼磁體先用堿清洗除油，然后進(jìn)行激光清洗磁體表面，采用激光清洗不會(huì)對(duì)晶界擴(kuò)散有影響。推薦的，所述步驟b中球磨到重稀土的粉末粒徑為300nm，比較好的重稀土粉末尺寸，極不易氧化而且與磁體之間有足夠的粘附力。推薦的，所述步驟b中球磨到重稀土的粉末粒徑為200nm，重稀土粉末尺寸低于該數(shù)值重稀土粉末加工易氧化，降低矯頑力的提升幅度。推薦的，所述步驟b中球磨到重稀土的粉末粒徑為400nm。

    對(duì)連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行電鍍化學(xué)鎳處理的具體過(guò)程為：③-1將連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體裝入滾筒內(nèi)，采用硫酸溶液進(jìn)行活化處理，硫酸溶液由硫酸和水均勻混合形成，硫酸溶液中硫酸的質(zhì)量百分比為3％，活化處理過(guò)程中，滾筒轉(zhuǎn)速為4r/min；③-2對(duì)活化處理后的釹鐵硼磁體依次進(jìn)行兩次水洗，兩次水洗均在滾筒內(nèi)進(jìn)行，滾筒轉(zhuǎn)速為4r/min；③-3將兩次水洗后的釹鐵硼磁體采用ph值為，電鍍?nèi)芤簻囟葹?3℃，電鍍?nèi)芤河闪蛩徭?、次磷酸鈉、醋酸鈉、檸檬酸鈉和水均勻混合形成，該電鍍?nèi)芤褐?，硫酸鎳的濃度?2g/l，次磷酸鈉的濃度為30g/l，醋酸鈉的濃度為20g/l，檸檬酸鈉的濃度為12g/l，電鍍完成后，濺射膜層表面形成厚度為8μm的化學(xué)鎳層；③-4在滾筒內(nèi)依次進(jìn)行三次水洗，滾筒轉(zhuǎn)速為4r/min；③-5采用草酸溶液對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行清洗，草酸溶液由草酸和水均勻混合形成，草酸溶液中草酸的濃度為3g/l；③-6依次進(jìn)行兩次水洗，化學(xué)鎳處理完成。本實(shí)施例中，預(yù)處理的具體過(guò)程為：①-1在溫度為70℃條件下對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行堿性脫脂處理；①-2對(duì)堿性脫脂處理后的釹鐵硼磁體依次進(jìn)行兩次水洗；①-3采用硝酸酸洗液在室溫條件下對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行酸洗。釹鐵硼由釹、鐵和硼的合金制成的永久磁鐵，形成Nd2Fe14B四方晶體結(jié)構(gòu)。

    釹鐵硼的年需求增長(zhǎng)率平均為20%左右。其增長(zhǎng)主要來(lái)自于幾個(gè)領(lǐng)域：傳統(tǒng)汽車(chē)工業(yè)、信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)、核磁共振成象工業(yè)和機(jī)床工業(yè)等。在能源日趨緊張的時(shí)代，將風(fēng)能轉(zhuǎn)化為電能無(wú)疑將受到**政策的支持，風(fēng)力發(fā)電目前在歐洲已經(jīng)大規(guī)模實(shí)施，在我國(guó)尚處于起步階段，之前1兆瓦的機(jī)組使用釹鐵硼大致在1噸左右，得益于風(fēng)力發(fā)電行業(yè)的快速增長(zhǎng)，釹鐵硼在風(fēng)力發(fā)電機(jī)組中的用量也將快速增加。釹鐵硼永磁成份表編輯釹鐵硼永磁是以金屬間化合物RE2FE14B為基礎(chǔ)的永磁材料。主要成分為稀土（Re）、鐵（Fe）、硼（B）。其中稀土ND為了獲得不同性能可用部分鏑（Dy）、鐠（Pr）等其他稀土金屬替代，鐵也可被鈷（Co）、鋁（Al）等其他金屬部分替代，硼的含量較小，但卻對(duì)形成四方晶體結(jié)構(gòu)金屬間化合物起著重要作用，使得化合物具有高飽和磁化強(qiáng)度，高的單軸各向異性和高的居里溫度。第三代稀土永磁釹鐵硼是當(dāng)代磁體中性能**強(qiáng)的永磁體，它的主要原料有稀土金屬釹29%金屬元素鐵非金屬元素硼少量添加鏑鈮鋁銅。熔煉是燒結(jié)釹鐵硼強(qiáng)磁體進(jìn)入生產(chǎn)過(guò)程的首要工藝。普洱釹鐵硼多少錢(qián)一公斤

粉末磁場(chǎng)取向是生產(chǎn)高性能燒結(jié)釹鐵硼的關(guān)鍵工藝技術(shù)之一。株洲高溫釹鐵硼磁鐵

    將進(jìn)料室和預(yù)熱室之間的封閉門(mén)再次封閉，在預(yù)熱室中采用預(yù)烘設(shè)備對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行預(yù)烘，預(yù)烘溫度為100-120℃，預(yù)烘時(shí)間為10-20分鐘；②-5將預(yù)熱室和磁控濺射室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設(shè)備將預(yù)熱后的釹鐵硼磁體送入磁控濺射室中，然后將磁控濺射室和預(yù)熱室之間的封閉門(mén)再次封閉，在磁控濺射室中采用磁控濺射設(shè)備對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行磁控濺射處理，其中，磁控濺射處理靶材采用鎳，靶功率為200-400w，氣壓為，在釹鐵硼磁體表面形成的濺射膜層的厚度為3-8μm，處理時(shí)間為10-20分鐘；②-6將磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設(shè)備將磁控濺射處理后的釹鐵硼磁體送入冷卻室中，磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門(mén)封閉，在冷卻室中采用冷卻設(shè)備將釹鐵硼磁體冷卻至80℃以下；②-7將冷卻室和出料室之間的封閉門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)傳送設(shè)備將冷卻后的釹鐵硼磁體送入出料室中，將冷卻室和出料室之間的封閉門(mén)封閉，從出料室內(nèi)取出網(wǎng)板；②-8將網(wǎng)板上的釹鐵硼磁體翻面后間隔擺放至網(wǎng)板上，每相鄰兩塊釹鐵硼磁體之間的間隔距離大于釹鐵硼磁體的厚度；②-9按照步驟②-3～②-7的方法對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行再次處理，得到連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體。株洲高溫釹鐵硼磁鐵

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