PVD鍍膜與傳統化學鍍膜相似，它們都是一種材料以某種方式被另一種材料覆蓋的表面處理方式。兩者的區(qū)別在于：PVD鍍膜與工件表面的結合力更大，膜層硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層性能更穩(wěn)定 PVD鍍膜可以鍍的膜種類更普遍，各種可以鍍的膜顏色更漂亮；PVD涂料不會產生有毒或污染物質。采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、良好的耐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點。同時，膜層可以改善工件的外觀和裝飾性能。目前技術能做出的膜層顏色有深金黃色、淺金黃色、棕色、青銅色、灰色、黑色、灰黑色、七彩等等。通過控制鍍膜過程中的相關參數，可以控制鍍層的顏色；鍍膜后，可以用相關儀器測量色值，對顏色進行量化，從而確定鍍膜顏色是否符合要求。鍍膜技術在建筑玻璃和汽車玻璃上的應用：建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。上海全自動真空鍍膜機
使用鍍膜機的注意事項：停旋片泵、滑閥泵時，要注意電磁閥（或氣動閥）是否向泵腔充氣，否則會引起回油，污染真空管道。因此，電磁閥（或氣動閥）充氣動作失靈時，必須及時進行修理或更換。對于偏北地區(qū)，在寒冷季節(jié)，夜間和較長時間停機時，必須用壓縮氣體將冷卻水趕出冷卻管道、泵體，以免凍裂冷卻水管（套）和泵體。精抽系統要待真空壓強達到3Pa后才能工作，若在過高的壓強下進行抽氣，會使擴散泵油氧化，降低抽氣能力，縮短泵油的使用壽命。為保證真空鍍膜設備有清潔的工作環(huán)境，滑閥泵排出的氣體必須用管道將它排出工作房之外，因為從滑閥泵排出的氣體含有很多微小的油霧會污染被鍍的工件，嚴重影響膜層的質量。在工作過程中不得斷水，采用的冷卻水必須清潔，不得使用硬水或濁水作為冷卻水，否則會使冷卻水管沉積一層水垢，影響冷卻效果。南京磁控濺射蒸發(fā)鍍膜機鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。
真空鍍膜技術中的清潔處理一般涉及真空鍍膜設備的結構材料、裝填材料、真空零部件的清潔處理和真空鍍膜設備的環(huán)境要求及真空鍍膜工藝過程中基片的清潔處理問題。這些問題既是自主的，也是互相聯系的。在真空鍍設備的研制過程中，只有嚴格地清潔處理好各個零部件后，才能保證該設備的性能穩(wěn)定。只有先進的真空鍍膜設備才能生產出合格的鍍膜產品。先進的真空鍍膜設備必須安裝在符合鍍膜真空工藝的環(huán)境要求的實驗場所，才能保證鍍膜生產工藝的進行。在鍍膜生產工藝中，基片表面潔凈直接決定了鍍膜前處理工藝過程及對基片進行清洗處理的配方，因此它決定了是否能生產出合格的鍵膜產品。
卷繞真空鍍膜設備的部件：速度控制和張力控制：速度控制：帶狀基體的線速度恒定是保持膜厚均勻的重要條件。卷繞系統帶材的速度控制多數采用以電流控制為主的速度恒定控制，速度都可以根據產品的要求，事先設定、自動調節(jié)。張力控制：薄膜張力控制在卷繞真空鍍膜機中是一個關鍵問題。張力控制同膜的跑偏、暴筋、起皺等現象均有關系。蒸發(fā)系統由蒸發(fā)源夾座（電極）、蒸發(fā)源、送絲機構等組成。PVD鍍膜設備真空室開啟機構：大型雙室半連續(xù)蒸發(fā)鍍膜機的開啟機構一般由真空室體，卷繞機構，密封大板，動力柜，行程開關和小車組成。根據鍍膜基本材料的幅寬，確定單門還是雙門開啟。常見的真空室多是單門開啟，蒸發(fā)器仍在鍍膜室內。真空鍍膜不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等問題。
日常我們生活中接觸到經過真空鍍膜機鍍制的產品非常多，比如我們現在人手一臺的手機，手機殼、手機屏幕、手機攝像頭等等，都是經過光學真空鍍膜機有鍍上一層功能性或顏色膜層。我們女性日常用的護膚品包裝，以及衣服上的閃閃發(fā)光的金銀絲線都有經過真空鍍膜機鍍制一層膜層。在硬質涂層中的應用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。在防護涂層中的應用：飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。在光學薄膜領域中的應用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。在建筑玻璃方面的應用：陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。在太陽能利用領域的應用：太陽能集熱管、太陽能電池等。在集成電路制造中的應用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。在信息顯示領域的應用：液晶屏、等離子屏等。在信息存儲領域的應用：磁信息存儲、磁光信息存儲等。在裝飾飾品上的應用：手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。在電子產品領域的應用：液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數碼相機和掌聲電腦等。鍍膜機主要分類有兩個大種類： 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜。pvd磁控濺射鍍膜機采購
鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。上海全自動真空鍍膜機
對于真空鍍膜機蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：基片材料與靶材的晶格匹配程度；基片表面溫度；蒸發(fā)功率，速率；真空度；鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：晶格匹配度；基片溫度；蒸發(fā)速率。鍍膜機濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。上海全自動真空鍍膜機
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