真空鍍膜機的保養(yǎng)：真空鍍膜機的擴散泵連續(xù)使用6個月以上，抽速會明顯變慢，或操作失當，充入大氣，拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。在重新開機前，要注意檢漏工作。方法：啟動維持泵，關(guān)好大門，數(shù)分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕，否則要進行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈，或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱，否則擴散泵油會燒環(huán)，無法進入工作狀態(tài)。真空鍍膜機內(nèi)須進行結(jié)構(gòu)焊接的時候，內(nèi)部焊縫不應該連續(xù)，以便讓來自任何溝槽的氣體容易放出。沈陽蒸鍍機工作原理
真空鍍膜機的真空涂層技術(shù)起步時間不長，國際上在上世紀六十年代才出現(xiàn)將CVD（化學氣相沉積）技術(shù)應用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進行（工藝溫度高于1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀七十年代末，開始出現(xiàn)PVD（物理的氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二、三十年間真空鍍膜機的PVD涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因：（1）其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保；（2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要；（3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層，應用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實現(xiàn)了低成本、收益高的效果；（4）此外，PVD涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個特點，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。大型蒸鍍機生產(chǎn)公司真空鍍膜機本身是一個復雜的系統(tǒng)，包括真空、自動化、機械等多個系統(tǒng)。
真空鍍膜中常用的塑料，ABS是開始使用的，是同時符合三個條件的塑料，A表示丙烯腈，B表示丁二烯，S表示苯乙烯，塑料中含有以上三種物質(zhì)的就是ABS塑料了，ABS鍍上膜層后，可以很好的發(fā)揮其機械性能、抗沖擊性，依靠其硬度大，耐磨損，成本不高，常常被用于代替某些金屬機械零部件，也用于生產(chǎn)家用電器的外殼，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外使用，否則會變色。PETP聚對苯二甲酸乙二醇醋，簡稱聚酯，是繼ABS后又一種符合三種條件的塑料，所鍍的膜層具有良好的拉伸強度，韌性大。PS聚苯乙烯可以承受100℃以下的溫度，真空鍍膜的適應性也好，無色無味，耐酸堿性，是一種不錯的絕緣材料。
真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。①檢查真空鍍膜機各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動抽真空機械泵。⑦開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。⑧當?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。⑨真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉(zhuǎn)）。?等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時，開規(guī)管燈絲開關(guān)。真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。
真空鍍膜機在鍍膜的時候，需要鍍層表面的化學成分保持均勻性，這主要體現(xiàn)在以下三個方面：1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看也就是1/10波長作為單位，約為100A，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題。降低真空鍍膜設(shè)備室內(nèi)空氣流動性低、需盡量減小室外灰塵侵入。沈陽蒸鍍機工作原理
真空鍍膜機操作人員必須嚴格按設(shè)備操作指導書和安全操作規(guī)程進行作業(yè)。沈陽蒸鍍機工作原理
真空鍍膜機一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，從而形成薄膜。真空鍍膜機在真空環(huán)境中，將材料加熱并鍍到基片上的技術(shù)為真空蒸鍍。具體而言，真空鍍膜機是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基片表面析出的過程。真空蒸鍍中的鍍層通常為鋁膜，但其它鍍層也可通過蒸發(fā)沉積形成。沈陽蒸鍍機工作原理
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